具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法技术

本发明专利技术在制造透明导电性膜时，提供一种兼具硬涂性与透明性以及对于严酷的活性能量线照射也可耐受的密合性的具有透明导电性膜的积层体以及积层体的制造方法。本发明专利技术通过如下具有透明导电膜的积层体以及积层体的制造方法来解决，所述积层体在作为聚酯膜的基材上具有将包含化合物(A)的活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层，所述化合物(A)具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基，并且所述积层体还具有透明导电膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种具有基材、将活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层、以及透明导电膜的积层体以及形成其的制造方法。
技术介绍
以前，在触摸面板用途等中使用在聚酯等基材上设置有透明导电膜的透明导电性的积层体。透明导电膜通常使用氧化铟锡(IndiumTinOxide，ITO)等金属氧化物的薄膜，在基材上利用溅射法或真空蒸镀来积层。作为触摸面板的动作方式，电阻膜式为主流，但近年来，静电电容式急速扩大。电阻膜式触摸面板中使用的具有透明导电性的积层体通常包括未经图案化的透明导电膜。另一方面，静电电容式触摸面板中通常使用积层有经图案化的透明导电膜的透明导电性的积层体。静电电容式触摸面板中使用的具有透明导电性的积层体通常利用照相平版蚀刻(photolithoetching)等，对透明导电膜进行图案化，在俯视图上存在透明导电膜的图案部与非图案部。如上所述的使用透明导电膜经图案化的具有透明导电性的积层体的静电电容式触摸面板，其透明导电膜的图案部可见的所谓“透视”的现象成为问题，使作为显示装置的品质下降。例如专利文献1、专利文献2等中提出了抑制透明导电膜图案的透视。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2011-84075号[专利文献2]日本专利第5110226号
技术实现思路
[专利技术所欲解决的课题]近年来，根据积层体的用途而在基材的单面或两面上多层化，在这些各层形成时或透明导电膜的图案化时照射大量的活性能量线。专利文献1或专利文献2的技术中，虽显现出抑制透明导电膜图案的透视的效果，但在树脂层接受到大量的活性能量线的情况下，存在与基材的密合性下降的课题。另外，为了确保基材与树脂层的密合性，若欲以活性能量线的累计光量不成为大量的方式设计层构成，则产生积层体的层构成受到限定的问题。因此，本专利技术的目的在于当制造具有透明导电性的积层体时，提供具有透明性以及对于大量的活性能量线照射也可耐受的密合性、与透明导电性的积层体。[解决课题的手段]本专利技术涉及一种在作为聚酯膜的基材上具有树脂层，且更具有透明导电膜的积层体，所述树脂层是将包含具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的活性能量线硬化性组合物进行硬化而成。另外，本专利技术涉及所述积层体，其中所述树脂层是将更包含具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)(其中，为化合物(A)的情况除外)的组合物硬化而成的层。另外，本专利技术涉及所述积层体，其中在具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)，与具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)(其中，为化合物(A)的情况除外)的固体成分的合计100重量％中，化合物(A)的含量为10重量％～90重量％。另外，本专利技术涉及所述积层体，其中所述化合物(A)为下述通式(1)所表示的化合物(A1)。通式(1)：[化1](通式(1)中，R1及R3中至少一个为下述所示的四价或一价有机残基，R2表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基)[化2][化3]另外，本专利技术涉及所述积层体，其中所述化合物(A)为下述通式(2)所表示的化合物(A2)。通式(2)：R5-O-R4-O-R5(通式(2)中，R4为下述所示的二价有机残基，R5表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基)[化4]另外，本专利技术涉及所述积层体，其中在照射累计光量为2000mJ/cm2以上的活性能量线的情况下，利用依据JISK5600-5-6的附着性交叉切割法来测定的所述基材与所述树脂层的密合性为每单位面积的剥离面积小于5％。另外，本专利技术涉及所述积层体，其中所述组合物还包含金属氧化物。另外，本专利技术涉及所述积层体，其中所述金属氧化物包含钛和/或锆原子。本专利技术涉及一种积层体的制造方法，其包括：在作为聚酯膜的基材上，涂敷包含具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的活性能量线硬化性组合物，照射活性能量线使其硬化而形成树脂层的步骤；以及形成透明导电膜的步骤。[专利技术的效果]通过本专利技术，可提供具有透明性以及对于大量的活性能量线照射也可耐受的密合性与透明导电性的积层体。具体实施方式本专利技术的积层体在基材膜上的单面或两面上依次设置作为活性能量线硬化膜的树脂层、以及透明导电膜。以下，对于构成本专利技术的具有作为聚酯膜的基材、将活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层、以及透明导电膜的积层体的各个构成要素进行详细说明。<聚酯膜>本专利技术的聚酯膜的折射率为1.61至1.70，特别优选使用聚对苯二甲酸乙二酯膜。聚酯膜的折射率优选为1.62至1.69的范围，尤其优选为1.63至1.68的范围，特别优选为1.64至1.67的范围。聚酯膜的厚度适当为20μm至300μm的范围，优选为50μm至250μm的范围，更优选为50μm至200μm的范围。本专利技术的聚酯膜可在其表面更具有包含有机物或无机物的层，其具体例可列举用以提高与其他层的粘接性的易粘接层。设置有易粘接层的聚酯膜的市售品可列举：东丽(Toray)公司制造：露米勒(Lumirror)系列，东洋纺公司制造：考斯摩辛(Cosmoshine)系列等。特别优选为透明性高且在光学用途中使用的东丽(Toray)公司制造：露米勒(Lumirror)UH13、U48系列。<树脂层>本专利技术的树脂层是将包含具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)的活性能量线硬化性组合物硬化而成的层。化合物(A)若在其结构中具有1个以上的芴结构和/或联苯结构、与2个以上的(甲基)丙烯酰基即可，该化合物(A)与聚酯膜的密合性优异。化合物(A)的优选具体例也可列举下述通式(1)所表示的化合物(A1)。化合物(A1)由于硬涂性优异而可适合使用。通式(1)：[化1]通式(1)中，R1及R3中至少一个为具有芴结构或联苯结构的四价或一价有机残基，R2表示具有(甲基)丙烯酰基的一价有机残基。通式(1)中，R1若为具有芴结构或联苯结构者，则并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的四价有机残基。优选为具有联苯结构的残基。[化2]通式(1)中，在R3具有芴结构或联苯结构的情况下，R1也可不具有芴结构或联苯结构。所述并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的四价有机残基。优选为具有芳香环的残基。[化3]通式(1)中，R3若为具有芴结构或联苯结构者，则并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的一价有机残基。[化4]通式(1)中，在R1具有芴结构或联苯结构的情况下，R3也可不具有芴结构或联苯结构。所述者并无特别限定，可列举氢原子、或者下述所示的一价有机残基。[化5]通式(1)中，R2若为具有(甲基)丙烯酰基者，则并无特别限定，适合的具体例可列举下述所示的一价有机残基。[化6]通式(1)所表示的化合物(A1)若具有2个以上的芴结构和/或联苯结构，则与基材的密合性优异，故而优选，进而，优选为R1及R3两者具有芴结构或联苯结构。化合物(A)的(甲基)丙烯酰基必须为2个以上。在2个以下的情况下，所获得的活性能量线硬化膜与作为聚酯膜的基材的密合性下降。进而，由于树脂层的硬涂性优异，故而(甲基)丙烯酰基的个数优选为3个以上，尤其优选为6个以上。通式(1)所表示的化合物(A1)中，R3为氢原子的化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种积层体，其特征在于：在作为聚酯膜的基材上具有将包含化合物(A)的活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层，所述化合物(A)具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基，且所述积层体还具有透明导电膜。

【技术特征摘要】
2015.08.10 JP 2015-1579681.一种积层体，其特征在于：在作为聚酯膜的基材上具有将包含化合物(A)的活性能量线硬化性组合物硬化而成的树脂层，所述化合物(A)具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基，且所述积层体还具有透明导电膜。2.根据权利要求1所述的积层体，其特征在于：所述树脂层是将如下组合物硬化而成的层，所述组合物还包含具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)，其中，化合物(X)为化合物(A)的情况除外。3.根据权利要求2所述的积层体，其特征在于：在具有芴结构和/或联苯结构、以及2个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(A)，与具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的化合物(X)的固体成分的合计100重量％中，化合物(A)的含量为10重量％～90重量％，其中，化合物(X)为化合物(A)的情况除外。4.根据权利要求1至3中任一项所述的积层体，其特征在于：所述化合物(A)为下述通式(1)所表示的化合物(A1)，通式(1)：通式(1)中，R1及R3中至少一个为...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤光人，
申请(专利权)人：东洋油墨SC控股株式会社，东洋油墨株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP