处理基材的设备和方法技术

本发明专利技术公开一种基材处理设备，包括：带有卡盘的基材支撑单元，基材装载在该卡盘上；底部室，该底部室具有打开的顶部并用于围住该卡盘的周边；顶部室，该顶部室用于打开或关闭该底部室的顶部，使得在该顶部室与外部隔离时使该基材干燥；以及直接喷嘴部件，该直接喷嘴部件安装在该顶部室，用于在该底部室的顶部关闭时将流体直接喷射到该基材上。使用这种基材处理设备，可以提高整个基材的干燥效率，抑制外部污染，并防止生成氧化物层。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基材处理设备，包括：带有卡盘的基材支撑单元，基材装载在所述卡盘上；底部室，所述底部室具有打开的顶部并用于围住所述卡盘的周边；顶部室，所述顶部室用于打开或关闭所述底部室的顶部，使得在所述顶部室与外部隔离时使所述基材 干燥；以及直接喷嘴部件，所述直接喷嘴部件安装在所述顶部室，用于在所述底部室的顶部关闭时将流体直接喷射到所述基材上。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金贤钟，具教旭，赵重根，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]