经过显色处理的基材及用于其的基材的显色处理方法技术

本发明专利技术所涉及的经过显色处理的基材在包含镁的基体表面形成薄膜时，通过在表面形成温度不同的区域来引发薄膜的平均厚度偏差，从而维持基材固有的金属质感，同时通过一次的显色处理在基材表面呈现多个颜色，因此能够有效地使用在使用镁材料的建筑外装材料、汽车饰品尤其是手机壳体部件等电气、电子部件材料领域。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】201480071333

【技术保护点】
一种经过显色处理的基材，其包括：包含镁的基体；以及薄膜，其形成于所述基体上，且含有下述化学式1所示的化合物，[化学式1]M(OH)m在所述化学式1中，M包含选自Na、K、Mg、Ca及Ba中的1种以上，m为1或2，对于位于所述基体上的任意位点A，满足下述数学式1及2的条件:[数学式1]ΔE1*<1.0[数学式2]ΔE2*>2.0在所述数学式1及2中，ΔE1*表示位点A的平均色坐标与位于同一轴线上的任意位点B的平均色坐标之间的偏差，ΔE2*表示位点A的平均色坐标与位点C的平均色坐标之间的偏差，其中，位点C位于与第一轴线具有75°～105°的平均偏差的第二轴线上，并且与位点A的平均色坐标位于同一轴线上，且与位点A的距离为3cm以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.12.26 KR 10-2013-0164044;2013.12.26 KR 10-2011.一种经过显色处理的基材，其包括：包含镁的基体；以及薄膜，其形成于所述基体上，且含有下述化学式1所示的化合物，[化学式1]M(OH)m在所述化学式1中，M包含选自Na、K、Mg、Ca及Ba中的1种以上，m为1或2，对于位于所述基体上的任意位点A，满足下述数学式1及2的条件:[数学式1]ΔE1*<1.0[数学式2]ΔE2*>2.0在所述数学式1及2中，ΔE1*表示位点A的平均色坐标与位于同一轴线上的任意位点B的平均色坐标之间的偏差，ΔE2*表示位点A的平均色坐标与位点C的平均色坐标之间的偏差，其中，位点C位于与第一轴线具有75°～105°的平均偏差的第二轴线上，并且与位点A的平均色坐标位于同一轴线上，且与位点A的距离为3cm以上。2.根据权利要求1所述的经过显色处理的基材，其中，位于包含镁的基体上的任意位点A的薄膜平均厚度与位于第二轴线上的位点C的薄膜平均厚度的偏差满足下述数学式3的条件：[数学式3]10nm≤│d1-d2│在所述数学式3中，d1为位点A的薄膜平均厚度，d2为位点C的薄膜平均厚度。3.根据权利要求1所述的经过显色处理的基材，其中，薄膜的平均厚度为50nm～2μm。4.根据权利要求1所述的经过显色处理的基材，其中，薄膜包含镁氢氧化物(Mg(OH)2)。5.根据权利要求1所述的经过显色处理的基材，其中，基体还包括不锈钢或钛(Ti)。6.根据权利要求1所述的经过显色处理的基材，其中，还包括形成于薄膜上的波长变换层；以及形成于波长变换层上的表面涂层(top coat)。7.根据权利要求6所述的经过显色处理的基材，其中，波长变换层包括选自包含...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑铉珠，全英遇，李钟锡，徐旼弘，安钢焕，
申请(专利权)人：POSCO公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR