曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法制造方法及图纸

一种曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法，该曝光方法具有以下步骤：于基板（Ｐ）上形成液体（ＬＱ）的液浸区域（ＬＲ）的步骤；根据在基板（Ｐ）表面与液体（ＬＱ）之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；根据曝光条件，透过液浸区域（ＬＲ）的液体（ＬＱ）使基板（Ｐ）曝光的步骤。根据本发明专利技术，可对设有不同种类膜的复数基板分别良好地进行液浸曝光。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术有关于一种透过液体使基板曝光的曝光方法、曝光装置、组件制 造方法、以及膜的评估方法。本案基于2005年4月27日所提出申请的日本特愿2005 — 129517号案、 以及2005年7月21日所提出申请的日本特愿2005_211319号案主张优先 权，而将其内容援用于本文中。
技术介绍
半导体组件或液晶显示组件等微组件制造工艺之一的光刻步骤中，采用 将掩膜上所形成的图案投影曝光在感旋光性基板上的曝光装置。此曝光装 置，具有用以保持掩膜的掩膜载台、以及用以保持基板的基板载台， 一边使 掩膜载台与基板载台依序移动、 一边透过投影光学系统将掩膜图案投影曝光 在基板。在微组件的制造中，为了达成组件的高密度化，要求于基板上所形 成的图案的微细化。为了因应此要求，故希望曝光装置可更进一步高分辨率 化，用以实现该高分辨率化的方法之一，如下述专利文献1所揭示的液浸曝 光装置，于基板上形成液体的液浸区域，透过该液浸区域的液体来使基板曝 光。[专利文献l]国际公开第99 / 49504号说明书。然而，为曝光对象的基板表面所设置的光刻胶膜、或是其上层所设置的 覆涂膜等通常使用各种材料，但是作为与本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法具有：　　　　于基板上形成液体的液浸区域的步骤；　　　　根据在所述基板表面与所述液体之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；以及　　　　根据所述曝光条件透过所述液浸区域的所述液体使所述基板曝光的步骤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2005-4-27 129517/2005;JP 2005-7-21 211319/20051.一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法具有于基板上形成液体的液浸区域的步骤；根据在所述基板表面与所述液体之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；以及根据所述曝光条件透过所述液浸区域的所述液体使所述基板曝光的步骤。2. 如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于，所述附着力是根据所述 液体于所述基板表面的静态接触角、以及所述液体于所述基板表面的滑落角 来决定。3. 如权利要求1或2所述的曝光方法，其特征在于，所述附着力E为 E=(m X g X sina)/(2 X兀X R)其中，m:在基板上的液体的液滴质量g:重力加速度OU对水平面的滑落角R:在基板上的液体的液滴半径。4. 一种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法具有 于基板上形成液体的液浸区域的步骤；根据所述液体于所述基板表面的静态接触角、与所述液体于所述基板表面的滑落角来决定曝光条件的步骤；以及根据所述曝光条件透过所述液浸区域的所述液体使所述基板曝光的步骤。5. 如权利要求4所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光条件是根据式(e — t X (X)来决定；其中， e:所述液体于所述基板表面的静态接触角 0t:所述液体于所述基板表面的滑落角t:既定的常数。6. 如权利要求2至5中任一项所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光 条件的决定，包含对所述液体于所述基板表面的静态接触角进行测量的步骤；以及 对所述液体于所述基板表面的滑落角进行测量的步骤。7. —种曝光方法，其特征在于，所述曝光方法具有 于基板上形成液体的液浸区域的步骤；根据所述基板倾斜时所述液体于所述基板表面的后退接触角来决定曝 光条件的步骤；以及根据所述曝光条件透过所述液浸区域的所述液体使所述基板曝光的步骤。8. 如权利要求1至7中任一项所述的曝光方法，其特征在于，所述基板 的所述曝光，具有一边移动所述基板一边透过所述液体对所述基板照射曝光 用光的步骤；所述曝光条件包含移动所述基板时的移动条件。9. 如权利要求8所述的曝光方法，其特征在于，所述移动条件包含所述 基板的移动速度、以及加速度中至少一者。10. 如权利要求1至9中任一项所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光 条件包含形成所述液浸区域时的液浸条件。11. 如权利要求IO所述的曝光方法，其特征在于，所述液浸条件包含对 所述液浸区域供给所述液体的供给条件。12. 如权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述供给条件包含每 单位时间的液体供给量。13. —种组件制造方法，其特征在于，所述方法使用权利要求1 12中任 一项所述的曝光方法。14. 一种曝光装置，该曝光装置透过基板上形成的液浸区域的液体使所述 基板曝光，其特征在于-所述曝光装置具备测量装置，用以测量在所述基板表面与所述液体之间 作用的附着力。15. 如权利要求14所述的曝光装置，其特征在于，所述测量装置具有 第1测量器，用以测量所述液体于所述基板表面的静态接触角；以及 第2测量器，用以测量所述液体于所述基板表面的滑落角。16. —种曝光装置，该曝光装置透过基板上形成的液浸区域的液体使所述基板曝光，其特征在于所述曝光装置具备测量装置，用以测量所述基板倾斜时所述液体于所述 基板表面的后退接触角。17. 如权利要求14或15所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置进一步具备储存装置，供事先储存与所述附着力对应的信息；以及 控制装置，根据所述测量装置的测量结果与所述储存装置的储存信息来 决定曝光条件。18. 如权利要求14或15所述的曝光装置，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：长坂博之，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]