【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及将曝光用光照射于基板上以使基板曝光的曝光装置、 基板处理方法、以及器件制造方法。
技术介绍
在光刻工序中所使用的膝光装置中，已有提出一种如下述专利文 献所揭示的液浸曝光装置，在基板上形成液体的液浸区域，并经由该 液体使基板瀑光。专利文献1国际公开第99/49504号小册子 欲在基板上良好地形成液体的液浸区域，须使基板的与液体接触 的液体接触面成为所希望的状态。例如，形成于基板上的感光材等膜 未以所希望的状态形成时，无法良好地形成液浸区域，而产生从基板 上流出液体、或无法使所希望的图案像曝光于基板上等不良情形，导 致器件生产性降低。又，未以所希望的状态在基板上形成膜时，例如该膜的一部分有 可能从基板剥离。当膜的一部分剥离时，该剥离的膜的一部分有可能 成为异物，附着于基板上或混入液体中。在存在异物的状态下对基板 进行曝光时，有可能产生形成于基板上的图案产生缺陷等不良情形， 导致器件生产性降低。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述情形而完成的，其目的在于提供能使基板良好 地啄光、抑制器件生产性降低的曝光装置、基板处理方法、以及器件 制造方法。为解决上述问题，...
【技术保护点】
一种曝光装置，对形成有薄膜的基板照射曝光用光以使上述基板曝光，其特征在于，具备：用以检测上述基板上的薄膜形成状态的检测装置。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2005-6-29 190254/2005;JP 2006-4-17 113478/20061.一种曝光装置，对形成有薄膜的基板照射曝光用光以使上述基板曝光，其特征在于，具备用以检测上述基板上的薄膜形成状态的检测装置。2. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于 上述薄膜通过在上述基板上涂敷规定材料而形成； 上述检测装置检测上述薄膜的涂敷状态。3. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于具备用以在上述基板上形成液体的液浸区域的液浸机构； 经由上述液浸区域的液体将上述曝光用光照射于上述基板上。4. 如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于 上述检测装置在上述液浸区域形成于上述基板上前检测出上述薄膜的形成状态。5. 如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于 上述薄膜包含疏液性的膜。6. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于 上述检测装置以光学方式检测上述薄膜的形成状态。7. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于上述检测装置具有用以将检测光投射至上述基板上的投射系统、 以及可接收经由上述基板的上迷检测光的受光系统。8. 如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，具备 存储装置，预先存储上述薄膜的形成状态与上述受光系统的受光状态的关系；以及辨别装置，根据存储于上述存储装置的上述关系与上述受光系统 的受光结果，辨别上述薄膜的形成状态是否为所希望的状态。9. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，具备 用以保持上述曝光用光所照射的上述基板的保持构件；以及 可将上述基板搬送至上述保持构件的搬送装置， 其中，上述检测装置设于上述搬送装置的搬送路径上。10. 如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，具备控制装置，根据上述检测装置的检测结果来控制上述搬送装置的动作。11. 如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于 具备设于上述搬送装置的搬送路径上、用以处理上述基板的处理装置；上述检测装置检测搬入上述处理装置的上述基板的薄膜形成状态。12. 如权利要求1所述的啄光装置，其特征在于具备用以保持上述曝光用光所照射的上述基板的保持构件； 上述检测装置检测处于由上述保持构件保持的状态下的上述基 板上的上述薄膜形成状态。13. 如权利要求1至12中任一项所述的膝光装置，其特征在于 上述检测装置检测上述基板边缘的上述薄膜形成状态。14. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于 薄膜形成状态的检测是检测薄膜的存在。15. —种曝光装置，经由液体对基板照射膝光用光以使上述基板 曝光，其特征在于，具备检测装置，检测上述基板边缘的状态。16. 如权利要求15所述的曝光装置，其特征在于 上述检测装置检测上述基板边缘的薄膜形成状态。17. 如权利要求16所述的曝光装置，其特征在于 上述薄膜通过在上述基板上涂敷规定材料而形成； 上述检测装置检测上述基板边缘的薄膜涂敷状态。18. 如权利要求16所述的曝光装置，其特征在于 上述薄膜包含疏液性的膜。19. 如权利要求15所述的曝光装置，其特征在于 上述检测装置检测在上述基板边缘上是否存在有异物。20. 如权利要求15所述的曝光装置，其特征在于 上述检测装置在上述基板上的至少一部分形成上述液体的液浸区域前，检测出上述边缘的状态。21. 如权利要求20所述的曝光装置，其特征在于 其进一步具备基板保持构件，能将上述基板保持于上述曝光用光所能照射的位置；上述检测装置在将上述基板保持于上述基板保持构件前，检测出 上述边缘的状态。22. 如权利要求21所述的曝光装置，其特征在于 其进一步具备可将上述基板搬送至上述基板保持构件的搬送装置；上述检测装置设于上述搬送装置的搬送路径上。23. 如权利要求20所述的膝光装置，其特征在于 其进一步具备第l基板保持构件，能将上述基板保持于上述曝光用光所能照射的位置；上述检测装置在将上述基板保持于上述第l基板保持构件后，检 测出上述边缘的状态。24. 如权利要求23所述的曝光装置，其特征在于 在以上述检测装置检测出保持于上述第l基板保持构件的基板的边缘状态后，将上述第l基板保持构件移动至上述曝光用光...
【专利技术属性】
技术研发人员：藤原朋春，中野胜志，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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