【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术有关于使用投影光学系统投影既定图案的像的曝光装置及使用 此曝光装置的曝光方法，适用于例如用以在制造半导体元件及液晶显示器等 各种元件的光刻工艺中，将光掩膜图案转印至基板上所使用者。
技术介绍
例如于半导体元件的工艺之一的光刻工艺中，为了将形成于作为光掩膜 的标线片(或光掩膜等)的图案转印曝光至作为基板的涂有光刻胶的晶片(或 玻璃板等)上，使用步进器等一次曝光型的投影曝光装置、及扫描步进器等 扫描曝光型的投影曝光装置等的曝光装置。这些曝光装置中，进行标线片及晶片的定位与移动的载台、该载台的支 撑机构、以及投影光学系统的支撑机构等机构部的刚性，对除振性能及曝光 精度(重叠精度等)等装置性能、机构部的重量、以及曝光装置的制造成本会 有重大影响。 一般而言，具有高刚性机构部的曝光装置，虽具有较高装置性 能，但另一方面，却有机构部重量变大、制造成本上升的倾向。因此，提出 了一种于必要部分维持高刚性，但为了减轻机构部整体的重量，而将标线片 载台及晶片载台的底座等以具有能分别伸縮的复数杆的平行连杆机构，予以 独立支撑的曝光装置(例如，参照专利文献l)。此外，最近，也...
【技术保护点】
一种曝光装置，其以投影光学系统投影图案像，其特征在于，所述曝光装置具备：测量单元，其具备用以测量所述投影光学系统、与和所述投影光学系统相关连定位的构件间的位置关系的传感器；以及第１支撑装置，其具有第１柔性构造，用以将所述测量单元与所述投影光学系统分离悬吊支撑。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2006-10-4 273493/2006;JP 2005-10-5 292186/20051.一种曝光装置，其以投影光学系统投影图案像，其特征在于，所述曝光装置具备测量单元，其具备用以测量所述投影光学系统、与和所述投影光学系统相关连定位的构件间的位置关系的传感器；以及第1支撑装置，其具有第1柔性构造，用以将所述测量单元与所述投影光学系统分离悬吊支撑。2. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置进一步 具备第2支撑装置，此第2支撑装置具有第2柔性构造、用以悬吊支撑所述 投影光学系统。3. 如权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述第l支撑装置支 撑所述测量单元的支撑点数，与所述第2支撑装置支撑所述投影光学系统的 支撑点数相同；所述第l、第2支撑装置于所述投影光学系统的侧面，是配置在实质上 相同的角度位置。4. 如权利要求2或3所述的曝光装置，其特征在于，所述第1、第2 支撑装置包含金属线或链条。5. 如权利要求2至4中任一项所述的曝光装置，其特征在于，于所述 第2支撑装置的一部分设置用以减轻所述投影光学系统的光轴方向振动的防 振部。6. 如权利要求1至5中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝 光装置具备以非接触方式将所述投影光学系统加以定位的定位装置。7. 如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述第l支撑装置具 有支撑所述第1柔性构造的框架；所述定位装置是相对所述框架定位所述投影光学系统。8. 如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述定位装置具备-位移传感器，用以测量所述投影光学系统相对所述框架的6自由度位移信息；以及6自由度致动器，根据所述位移传感器的测量结果，将所述投影光学系 统相对所述框架以非接触方式加以定位。9. 如权利要求1至8中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述第1 支撑装置具备移动机构，其使所述测量单元沿所述投影光学系统的光轴方向 移动。10. 如权利要求1至9中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述曝 光装置具备保持物体并进行移动的第1载台，所述物体是以所...
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