【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术有关于将光掩膜的图案转印于基板上的曝光装置、及使用该曝光 装置的元件制造方法。本案根据2005年7月11日提出的日本特愿2005-201582号主张优先权，在此援用其内容。
技术介绍
在半导体元件、液晶显示元件、摄影装置(CCD(Charge Coupled Device)等)、薄膜磁头等元件的制造步骤之一的光刻步骤，为要将标线片(光掩膜) 的图案，通过投影光学系统转印于涂布有光刻胶的晶片(或玻璃板等)上，而 使用曝光装置。该曝光装置，使用步进机等整批曝光型(静止曝光型)的投影 曝光装置，或扫描步进机等扫描曝光型的投影曝光装置(扫描型曝光装置)等。近年来，由于元件的高积体化而要求曝光精度(分辨率、转印忠实度、 叠合精度、线宽误差等)的提高。从元件制造效率提高的观点，也要求产能(单 位时间内能曝光处理的晶片片数)的提高。为要满足这些要求，而谋求保持 晶片的晶图载台的高精度化及高速化，及在曝光处理前进行的各种测量所需 时间的縮短及高精度化。为要同时达成上述曝光精度的提高及高产能，已开发具有2个晶片载台 的双载台曝光装置。在以下的专利文献1揭示有一种曝光装置...
【技术保护点】
一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备：第１载台；第２载台；维护装置，其进行所述第２载台的维护；及控制装置，用于在载置于所述第１载台的基板的曝光处理中通过所述维护装置执行所述维护。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2005-7-11 201582/20051.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备第1载台；第2载台；维护装置，其进行所述第2载台的维护；及控制装置，用于在载置于所述第1载台的基板的曝光处理中通过所述维护装置执行所述维护。2. 如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置进一步具备投影光学系统，其将图案像投影于所述基板；第1驱动装置，其能将所述第1载台移动至与投影光学系统对向的位置；以及第2驱动装置，其能将所述第2载台移动至与投影光学系统对向的位置。3. 如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于， 所述第2载台是进行曝光相关测量的测量载台。4. 如权利要求1至3中任一项所述的曝光装置，其特征在于，所述维护 装置用以洗净所述第2载台。5. 如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述维护装置具备供 应装置，用以将洗净剂供应至所述第2载台；及用以回收所述洗净剂的回收装置。6. 如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，所述维护装置具备光洗 净装置，以将紫外线照射于所述第2载台的至少一部分区域。7. 如权利要求1至6中任一项所述的曝光装置，其特征在于， 所述第2载台具备能交换的交换构件；所述维护装置用以交换所述交换构件。8. 如权利要求7所述的曝光装置，其特征在于，所述维护装置具备调整 装置，以调整所述交换构件相对于所述第2载台的位置。9. 如权利要求3所述的曝光装置，其特征在于， 在所述第2载台的至少一部分设置疏液涂层；所述维护装置进行所述疏液涂层的维护。10. —种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置具备 第l载台；第2载台；及调温装置，用以控制所述第1载台与所述第2载台间的空间的气体流动， 将所述第1载台及...
【专利技术属性】
技术研发人员：水谷刚之，奥村正彦，河野博高，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。