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一种曝光方法、曝光装置、组件制造方法、以及膜的评估方法，该曝光方法具有以下步骤：于基板（Ｐ）上形成液体（ＬＱ）的液浸区域（ＬＲ）的步骤；根据在基板（Ｐ）表面与液体（ＬＱ）之间作用的附着力来决定曝光条件的步骤；根据曝光条件，透过液浸区域（ＬＲ...
该专利属于株式会社尼康所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社尼康授权不得商用。

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