防滴漏型光阻瓶制造技术

本发明专利技术涉及一种可防滴漏型光阻瓶，用于集成电路制造工艺，为蚀刻过程提供流量可控的腐蚀性光阻液剂。其结构包括瓶体、瓶盖、进气管和出液管，瓶体与瓶盖之间为螺纹连接，进气管和出液管经由瓶盖与瓶体内部通连，其特点是瓶盖与瓶体之间设有一段可伸缩软管，同时出液管分为吸液段和出液段，它们分别与可伸缩软管的上下两端连接，连接之后三者内部空间相互通连，构成中途密闭的吸液和出液通路。本发明专利技术可有效防止操作过程中光阻滴到瓶外，解决了工作环境易被污染难以清洁的难题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种液剂容器，尤其涉及一种通过外界施压控制瓶内液剂 出液流量的光阻瓶。
技术介绍
随着集成电路技术的飞速进步，集成度在不断提高，芯片面积在不断 縮小，由此对集成电路制造工艺也提出了更高的要求。经历了数十年反复的研究、实践、改进、再实践，如今的IC制程技术已经达到了一个较为成 熟的水平。蚀刻作为当前IC制程的一个重要环节对于集成电路的集成度提高正起着越来越重要的作用。在这个过程中，光阻是这道工序必不可 少的制备材料，通过光阻的覆盖、曝光、显影及去除完成蚀刻进而为后续 工序提供可能。现行比较通用的光阻瓶是液剂瓶附套一个功能型瓶盖，瓶盖上安装进气管、出液管，进气管向瓶内施压，液剂从出液管输出，从而为IC制程的蚀刻工序提供流量可控的腐蚀性光阻液剂。但是这种传统的光阻瓶在更换 或补充光阻时，出液管里面的残余光阻受重力作用会滴到高架地板上面， 对工作环境造成破坏。且光阻具有腐蚀性，工作环境一旦被污染，后续清 洁将很麻烦。
技术实现思路
针对上述情况，本专利技术提供了一种可以防止滴漏的光阻瓶，其目的是 在维持原功能的前提下，更换瓶盖时腐蚀性光阻不再滴漏，保持工作环境 清洁。本专利技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】
防滴漏型光阻瓶，用于集成电路制造工艺，为蚀刻过程提供流量可控的腐蚀性光阻液剂，其结构包括瓶体、瓶盖、进气管和出液管，瓶体与瓶盖之间为螺纹连接，进气管和出液管经由瓶盖与瓶体内部通连，其特征在于：所述瓶盖与瓶体之间设有一段可伸缩软管，该可伸缩软管的上下两端分别抵在瓶盖内表面以及瓶体的瓶口上面，当瓶盖安装于瓶体上面时，瓶口和瓶盖从两侧挤压可伸缩软管，使软管收缩；同时，所述出液管分为上下两段，下段为吸液段、上段为出液段，吸液段的下端插入瓶体底部，工作时浸入光阻液剂的内部，出液段的上端处于瓶体之外，并与光阻液剂的输出管线连接，而出液段的下端以及吸液段的上端，则分别与所述可伸缩软管的上下两端连接，连接之后...

【技术特征摘要】
1.防滴漏型光阻瓶，用于集成电路制造工艺，为蚀刻过程提供流量可控的腐蚀性光阻液剂，其结构包括瓶体、瓶盖、进气管和出液管，瓶体与瓶盖之间为螺纹连接，进气管和出液管经由瓶盖与瓶体内部通连，其特征在于所述瓶盖与瓶体之间设有一段可伸缩软管，该可伸缩软管的上下两端分别抵在瓶盖内表面以及瓶体的瓶口上面，当瓶盖安装于瓶体上面时，瓶口和瓶盖从两侧挤压可伸缩软管，使软管收缩；同时，所述出液管分为上下两段，下段为吸液段、上段为出液段，吸液段的下端插入瓶体底部，工作时浸入光阻液剂的内部，出液段...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛伟，
申请(专利权)人：和舰科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]