磁复制用主载体制造技术

本发明专利技术涉及一种磁复制用主载体，使主载体与从属介质密合，施加复制用磁场进行磁复制时，增大设置在主载体中基板的图形表面上的软磁性层的附着力，防止该软磁性层的脱落，提高耐久性并抑制复制不良。主载体３在形成于基板３１上的图形上具有软磁性层３２，基板３１与软磁性层３２的附着力为１×１０↑［２］Ｎ／ｍ↑［２］以上，同时，对基板３１的表面实施氧化处理，软磁性层侧表面中的氧元素浓度Ｄｏ随着离开表面的距离增大而变少，相对于图形形成深度部位中的氧元素浓度Ｄｈ为Ｄｏ＞Ｄｈ的关系。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种载置有磁复制在从属介质上的复制信息的磁复制用主载体。作为准确而有效地进行这种预格式化的方法，将主载体载置的伺服信号等信息磁复制在磁记录介质上的磁复制方法已在特开昭63-183623号公报、特开平10-40544号公报、特开平10-269566号公报等中公开。这种磁复制通过准备具有与要复制到磁盘介质等磁记录介质(从属介质)上的信息相对应的、由表面有磁性层的多个凸部构成的图形的主载体，在将该主载体与从属介质密合的状态下，施加复制用磁场，从而将与主载体的凸部图形载置的信息(例如伺服信号)相对应的磁性图形复制到从属介质上，从而可使主载体与从属介质的相对位置不变化地进行静音记录，可准确地进行预格式化记录，并且具有记录所需时间非常短的优点。磁复制中使用的主载体通过在硅基板、玻璃基板等上进行照相化学腐蚀制造法、溅射、蚀刻等处理，形成磁性体的凹凸图形而成。另外，认为可以应用在半导体等中使用的平版印刷技术或者制造光盘刻印机中使用的刻印制作技术，制作磁复制用主载体。为了提高上述磁复制中的复制品质，如何使主载体与从属介质无间隙地密合成为重要的课题。也就是说，如果密合不良，会产生未进行磁复制的区域，一旦没有进行磁复制，则在复制到从属介质上的磁信息中会发生信号遗漏，信号质量下降，记录的信号为伺服信号时，存在不能充分获得跟踪功能，可靠性下降的问题。另外，在上述磁复制中，为了由平坦的主载体以从单侧或两侧夹持地方式压接从属介质，并使之密合，必须以高标准除去尘埃。这是因为在密合部，如果存在尘埃，则不仅不能稳定地进行磁复制，也会存在损伤主载体或从属介质的可能性。另外，在磁复制中，为了对主载体和从属介质施加较强的压力，实现全面密合，反复进行多次磁复制，密合次数增多时，则通过该工序，在基板上制作的软磁性层剥落，其存在于密合部，复制信号质量降低，同时，成为主载体的耐久性劣化的主要原因。作为主载体的磁性层发生剥离等的原因，例如磁性层与从属介质的磁性层、保护层、润滑剂层的化学亲和力大、磁性层自身对外力脆等。即，使主载体与从属介质密合，进行磁复制后，与该从属介质剥离之际，作为密合部的主载体的磁性层与从属介质的润滑剂层、保护层、磁性层间的化学亲和力大，因此在主载体的磁性层上施加与基板侧相反的力，反复进行该操作，会产生剥离，另外，反复使用中，主载体因承受冲击等外力，磁性层也会产生局部剥离或脱落。作为减少主载体的磁性层剥离等的方法，在特开2000-195048公报或特开2001-14665公报等中公开了在主载体的磁性层表面设置DLC膜(类金刚石碳膜，diamond like carbon)的方法，或者再在成为与从属介质的接触面的最上层设置润滑剂层的方法等。通过设置DLC膜或润滑剂层，能够在某种程度上减少主载体的磁性层的剥离等，不言而喻，充分提高了耐久性，磁性层的剥离等并不是变得完全没有。另外，以往的磁性层多由于因剥离等导致的剥离物等的尺寸变大，一旦产生剥离，由于这种剥离物等，发生复制不良，复制性能降低。另外，在磁性层剥离等的场所遍布范围较宽时，复制信号的脱落量超过容许范围，主载体变得不能使用。该主载体为昂贵的主载体，用1块主载体可以在几块从属介质上进行复制，这对于抑制制造成本非常重要。另一方面，即使在磁性层剥离等情况下，剥离等的场所小，剥离物、脱落物的尺寸小的情况下，对复制信号的欠缺、密合性不良导致的复制不良等的影响也小，因而与复制品质的降低无关，即使作为主载体也认为可继续使用。本专利技术的磁复制用主载体在形成于基板上的图形上设有软磁性层，其特征在于，所述基板与软磁性层的附着力为1×109N/m2以上，同时，所述基板的软磁性层侧表面的氧元素浓度Do随着离开表面的距离加大而变少，相对于图形形成深度部位的氧元素浓度Dh，成为Do＞Dh的关系。优选对所述基板的软磁性层侧表面实施氧化处理，软磁性层侧表面的氧元素浓度Do与图形形成深度部位中的氧元素浓度Dh之比Dh/Do在0.05以上0.8以下的范围。另外，优选从基板表面到图形形成深度部位的沿深度方向的平均氧元素浓度为15at％以下。基板与软磁性层的附着力为1×109N/m2以上时，即使反复进行磁复制时的密合，软磁性层也不会剥落。研究各种材料的结果可知，对于提高密合力，陶瓷材料非常有效。但是，陶瓷材料具有非常大的内部应力。如果在基板上设置陶瓷层，则软磁性层与陶瓷层的密合提高，但在陶瓷层与基板表面之间由于陶瓷层的内部应力，存在发生膜剥落的可能性。为了提高该陶瓷层与基板的密合，通过氧化处理基板表面自身，形成同结晶系的氧化物，可大幅度改善密合力，另外，通过提高基板表面的氧元素浓度，可使陶瓷膜厚变薄，不会发生因内部应力导致的膜剥落。一种磁复制用主载体，在基板上设有至少表面有磁性层的多个凸部构成的图形而成，其特征在于，所述磁性层至少在表面有氧化、氮化和/或碳化的部分。“……有氧化、氮化和/或碳化的部分”的意思为，可以同时具有氧化的部分、氮化的部分、碳化的部分，也可以只有这些中的任意一种，或者也可以组合具有任意两种。磁性层优选不仅具有表面，而且遍布整个区域具有氮化、氧化和/或碳化的部分。另外，所述磁性层的表面侧的氧化、氮化和/或碳化量比所述磁性层的所述基板侧的氧化、氮化和/或碳化量大，即，希望软磁性层的表面侧的氧元素、氮元素和/或碳元素浓度比基板侧的氧元素、氮元素和/或碳元素浓度大，此时，也使表面侧的氧化、氮化和/或碳化量比磁性层全体的氧化、氮化和/或碳化量的平均值大。此外，所述氧化、氮化和/或碳化部分的氧元素、氮元素和/或碳元素的总量相对于所述软磁性层的所有元素量为0.5～40at％，优选为1～30at％。如果采用如上所述的本专利技术的主载体，基板与软磁性层的附着力高，并且，基板的软磁性层侧表面的氧元素浓度在表面高，在内部低，从而与磁复制对应，即使主载体与从属介质在强压力下反复进行全面密合，软磁性层也不会剥落，不会发生因存在破损片的复制不良引起的记录信号遗漏，可抑制复制信号质量的下降，同时，可提高主载体的耐久性，增大复制次数。另外，在基板与软磁性层之间存在陶瓷层提高密合力之际，也氧化处理基板表面自身，形成同结晶系的氧化物，提高表面部分的氧元素浓度，从而可使陶瓷膜厚变薄，防止内部应力导致的膜剥落。另外，主载体由在表面有磁性层的多个凸部构成的图形的该磁性层至少在表面有氧化、氮化和/或碳化的部分，则与作为从属介质的磁记录介质的润滑剂层、保护层、磁性层表面的化学亲和力与以往的相比变小。该氧化、氮化和/或碳化的部分与没有氧化等的磁性层相比，变得强韧，通过在磁性层上具有局部或全部进行了这种氧化等的部分，磁性层骨架自身与以往的相比，变得强韧，因而对外力的耐性高。另外，即使一部分发生剥离、脱落等，由来源于氧化、氮化和/或碳化的磁性层的剥离物、脱落物的凝聚性小，其尺寸也小，从而不会影响复制品质。即，来自以往的磁性层的剥离物尺寸大，因而产生复制品质显著劣化，但来自本专利技术主载体磁性层的剥离物的尺寸小，因而可抑制复制品质的劣化。另外，通过上述效果，可提高磁复制用主载体的耐久性，延长寿命，结果，可抑制磁复制后磁记录介质的制造成本。使所述磁性层的表面侧的氧化、氮化和/或碳化量比所述磁性层的所述基板侧的氧化、氮化和/或碳化量本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁复制用主载体，在形成于基板上的图形上具有软磁性层，其特征在于，所述基板与软磁性层的附着力为１×１０↑［９］Ｎ／ｍ↑［２］以上，同时，所述基板的软磁性层侧表面的氧元素浓度Ｄｏ随着距离表面的距离增大而变少，相对于图形形成深度部位的氧元素浓度Ｄｈ，为Ｄｏ＞Ｄｈ的关系。

【技术特征摘要】
JP 2001-6-25 2001-191315;JP 2001-6-26 2001-193180;1.一种磁复制用主载体，在形成于基板上的图形上具有软磁性层，其特征在于，所述基板与软磁性层的附着力为1×109N/m2以上，同时，所述基板的软磁性层侧表面的氧元素浓度Do随着距离表面的距离增大而变少，相对于图形形成深度部位的氧元素浓度Dh，为Do＞Dh的关系。2.按照权利要求1所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述基板的软磁性层侧表面进行了氧化处理。3.按照权利要求1所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述基板的软磁性层侧表面的氧元素浓度Do与所述图形形成深度部位的氧元素浓度Dh之比，Dh/Do在0.05以上0.8以下的范围内。4.按照权利要求1所述的磁复制用主载体，其特征在于，从所述基板的软磁性层侧表面到所述图形形成深度部位的沿深度方向的平均氧元素浓度为15at％以下。5.按照权利要求1所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述基板与所述软磁性层之间设有陶瓷层。6.按照权利要求5所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述基板的软磁性层侧表面进行了氧化处理。7.按照权利要求5所述的磁复制用主载体，其特征在于，所述基板的软磁性层侧表面的氧元素...

【专利技术属性】
技术研发人员：西川正一，安永正，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]