磁复制用母载体制造技术

技术编号:3065681 阅读:130 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种磁复制用母载体,该载体具备由磁性材料构成的基板和在该基板上至少沿上述凸部形成的磁性层,上述基板的表面具有与应该复制到平面内磁记录介质的信息对应的图形状凹凸,其特征在于: 上述基板的饱和磁化Ms和上述磁性层的饱和磁化Mm的关系为: 1.0<Mm/Ms≤100。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种为把信息复制到磁记录介质上的具备图形状凹凸的磁复制用母载体。用于磁道定位的伺服信号或该磁道的地址信号,再生时钟信号等的伺服信息在磁记录介质的制造时作为预格式化事先记录在磁记录介质上是必要的,现在使用专用的伺服记录装置(伺服磁道读取器)进行预格式化。因为目前的伺服记录装置所完成的预格式化必须每次一块磁记录介质,由磁头记录,所以问题是需要相当长的时间来生产,其效率较低。另一方面,作为正确且有效地进行预格式化的方法,利用磁复制把形成在母载体上的承载伺服信息的图形复制到磁记录介质上的方法已被专利文献1-3披露。磁复制是在把承载应该复制的信息的母载体与磁盘介质等的磁记录介质(从属介质)密切接触的状态下,施加复制用磁场,把母载体所具有的与信息图形对应的磁图形磁性地复制到从属介质上的方法。能够不改变母载体和从属介质的相对位置地静静地实施记录,可进行正确的预格式化,而且,记录所需的时间极短。特别地,专利文献2及3等揭示的磁复制中使用的母载体具备基板和该基板的至少凸部表面上的磁性层,该基板具有与应该复制到从属介质上的信息对应的凹凸图形。作为形成这种图形化基板的方法,公知的是使用半导体领域中常用的光刻技术在非磁性体构成平板状基板表面上形成凹凸图形。然而,已经非常清楚的是使用具备由非磁性体构成的基板的母载体进行磁复制而记录到从属介质上的信号因为发生非对称性,所以信号质量大幅度降低。专利文献1特开照63-183623号公报专利文献2特开平10-40544号公报专利文献3特开2001-14667号公报本申请的专利技术人对于现有母载体,发现因为是非磁性层的基板,只有形成在该基板上的磁性层起到复制磁场的收缩作用,因为磁通的收缩集中于磁性层上,对从属介质侧(从属介质复制区域)产生的磁场产生干扰,导致对称性变差(不对称性增加)。基板上形成的磁性层的厚度薄到数十nm到数百nm,此外,图形端(凸部上表面端部)呈急剧起伏形状。为了利用该磁性层的厚度及形状在图形端上,复制磁场的能量实现稳定,在该图形端上产生磁通集中,而该磁通集中就是导致复制区内的磁场均匀性降低的原因。为了改善从属介质复制区域内的磁场干扰,采取了对基板自身使用磁性体,但必须对通过从属介质的复制磁场进行整流。然而,经本专利技术人的研究,业已发现只用磁性体构成基板,未必可以对从属介质复制区内的复制磁场进行整流。本专利技术的磁复制用母载体具备由磁性材料构成的基板和在该基板上沿上述凹凸形成的磁性层,上述基板的表面具有与应该复制到平面内磁记录介质的信息对应的图形状凹凸,其特征在于 上述基板的饱和磁化Ms和上述磁性层的饱和磁化Mm的关系如下1.0<Mm/Ms≤100上述Ms和上述Mm最好是2.0≤Mm/Ms<3.9。这里,所谓[由磁性材料构成的基板]中的磁性材料是指在施加磁场后,具有使磁力线穿透基板内的性质的材料,也可以是单独的元素构成,也可以是由多种元素构成,而且如果从整体上看是强磁性材料,则含有其它的磁性/非磁性元素的材料也可以。上述磁性层的结晶结构希望是体心立方结构(bcc),面心立方结构(fcc),或者非晶形结构中的任何一种。上述磁性层也可形成在上述基板的凹部上,上述基板的凸部的高度h1和上述凸部上的磁性层的表面的/距上述凹部上磁性层的表面的高度h2希望具有0.2≤h2/h1≤0.8的关系,更好的是0.3≤h2/h1≤0.6。这里,凸部的高度h1是从凹部表面起测定的高度。上述Ms希望是5.65T(4500Gauss)以上。上述基板的凸部的高度希望是40nm以上。作为应该复制的信息,举例来说如伺服信号。本专利技术人认为如上所述那样使用磁性体,需要对通过从属介质的复制磁场进行整流。作为由磁性材料构成的基板,把基板的饱和磁化(Ms)和磁性层的饱和磁化(Mm)作为参数进行了实验。实验结果,在100≤Mm/Ms时,使用磁性材料的效果变小,不能充分防止磁通向磁性层图形端的集中,Mm/Ms≤1,进入母载体内的磁通从母载体凸部放出不足,另一方面,设定1<Mm/Ms<100,能够防止复制磁场向磁性层图形端的集中,而且,能够从母载体的凸部放出磁通,防止了复制磁场的不均匀性,发现能够对从属介质内的复制磁场进行整流。根据本专利技术的磁复制用母载体,因为使用了由磁性材料构成的基板的饱和磁化Ms和该基板上形成的磁性层的饱和磁化Mm的比为1.0<Mm/Ms≤100的关系的材料来形成,所以能够整流从属介质内的复制磁场,能够在从属介质上形成良好的磁化图形。采用形成了良好磁化图形的从属介质,能够得到高品质的再生信号。本专利技术人把Mm/Ms的范围设定在2.0≤Mm/Ms<3.9,此外,发现能够整流复制磁场,提高信号品质。另外,作为由磁性体构成的基板,使得基板的饱和磁化和配置其上的磁性层的饱和磁化为上述关系所带来的效果在具有最小图形间距离(凸部间距离)低于300nm的凹凸图形的母载体上特别显著。若对基板上形成的磁性层的结晶结构采用体心立方结构/面心立方结构或者非晶结构的任何一种,很显然能提高复制信号的品质。在专利文献2中,磁性层使用Co。该Co是通常在C轴方向具有磁化容易轴的六面最密实充填结构的材料。磁复制时,在从属介质为面内磁记录介质的情况下,必须沿圆周方向施加磁场,在从属介质为垂直磁记录介质的情况下,必须沿垂直方向施加磁场。在具有容易轴的磁性材料构成母载体的磁性层的情况下,若容易轴不能受控成为所希望的方向(施加磁场的方向),则磁复制时的复制信号强度变弱,信号输出降低,或者信号边缘变钝。这是因为复制磁场和容易轴不一致之故,导致磁化未能朝向复制磁场的方向的状态。另一方面,因为具有bcc,fcc或者非晶结构的材料没有磁化容易轴,所以与是hcp结构的材料,控制其容易轴没有形成的情况相比,全部的磁化容易朝向复制时施加的磁场方向,所以能够确保有效的复制磁场。因为容易轴的控制困难,所以使用无容易轴的材料能够使制造过程简化,并可提高生产效率。也可以在基板的凹部上形成磁性层,基板的凸部的高度h1,凸部上的磁性层的表面的距凹部磁性层的表面的高度h2的比若为0.2≤h2/h1V0.8,则能够进一步提高复制磁场的整流效果,这是本专利技术经过研究后发现的现象。即,若h2/h1不到0.2时,因从图形端(凸部端部)放出的磁通所发生的复制磁场朝向膜面垂直方向的距离变短,所以复制时的母载体。从属介质间距离增大时,磁通不能足够地进入从属介质内部,信号的复制品质将会下降。另外,h2/h1大于0.8时,因为复制磁场向母载体的凹部磁性层中泄漏,难以确保足够的复制磁场强度。对本专利技术的第1实施形式的磁复制用母载体进行说明。附图说明图1示出本实施形式的磁复制用母载体的表面的局部立体图。图2是示出母载体的凸部的局部截面图。图3是示出从属介质2和母载体3、4的立体图。图4是说明向磁记录介质上进行磁复制的基本步骤的图。图2示出图1所示的包含母载体3的凸部31的A-A`截面图。即,是基板3a的凸部31的/沿垂直于基板3a平行于磁道方向X的平面的截面图。本实施形式的母载体3,选择基板3a和磁性层3b的材料来构成的,使之所选的材料应满足由磁性材料构成的基板3a的饱和磁化Ms和磁性层3b的饱和磁化Mm为1.0<Mm/Ms≤100,更好是2.0≤Mm/Ms<3.9的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁复制用母载体,该载体具备由磁性材料构成的基板和在该基板上至少沿上述凸部形成的磁性层,上述基板的表面具有与应该复制到平面内磁记录介质的信息对应的图形状凹凸,其特征在于上述基板的饱和磁化Ms和上述磁性层的饱和磁化Mm的关系为1.0<Mm/Ms≤100。2.根据权利要求1所述的磁复制用母载体,其特征在于上述Ms和上述Mm满足2.0≤Mm/Ms<3.9的关系。3.根据权利要求1或2所述的磁复制用母载体,其特征在于上述磁性层的结晶结构是体心立方结构(bcc),面心立方结构(fcc),或者非晶形结构中的任何一种。4.根据权利要求1至3中任何一项所述的磁复制用母载体,其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员:西川正一新妻一弘安永正宇佐利裕小松和则
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:

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