磁复制用主载体的制作方法技术

本发明专利技术提供一种磁复制用主载体的制作方法。一边使具有电子束描绘用抗蚀剂（１２）的圆形衬底（１１）在Ｘ方向旋转，一边使电子束（ＥＢ）在衬底直径方向（Ｙ方向）从Ｙ１到Ｙ２扫描。据此，从Ｙ１１到Ｙ１２斜着描绘元素（１２ａ）。通过电子束容易并且高精度地描绘磁复制用主载体的相位伺服图形。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于向磁记录介质磁复制信息的具有凹凸图形的，特别是涉及制作该主载体的原盘的方法，即凹凸图形是对于磁道方向具有倾斜角度的相位伺服图形，并且通过电子束描述该图形的方法。以形成了与伺服信号相应的抗蚀剂的凹凸图形(伺服图形)的原盘为基础而制作磁复制中使用的主载体的方法广为人知。该凹凸图形是通过在玻璃等的圆形衬底上通过旋转镀膜涂敷抗蚀剂，照射按照信息而调制的激光或电子束，通过使抗蚀剂显影而形成。现在，主要使用激光作为曝光光源，但是伴随着记录密度的增大，如果要求磁道宽度和图形宽度的微细化，则在激光的描绘直径中，无法对应。因此，考虑到使用具有更小的束径的电子束，例如通过一边使衬底旋转，一边进行电子束的通/断控制，一次或分多次照射构成图形的一个元素。这样的照射方法当伺服图形是与磁道方向(圆周方向)垂直的矩形上时比较容易，但是当象相位伺服图形那样，与磁道方向具有倾斜角度的图形时，如上所述，如果通过一边使衬底旋转，一边进行电子束的通/断控制，分多次照射元素，就会产生元素的斜边变为阶梯状，无法以良好的精度形成的缺点。另外，在使衬底旋转的状况下，很难把微小的电子束的斑点以高精度与倾斜的元素内的下一曝光位置对齐，很难以高精度控制亚微细粒单位的图形宽度部分的照射时间，所以会产生在一个元素内发生照射不均匀，无法形成鲜明的图形的问题。本专利技术鉴于所述问题，其目的在于在中，提供使用电子束，以高精度描绘对于磁道方向具有倾斜角度的相位伺服图形的方法。(解决问题的手段)本专利技术的，通过电子束的扫描，制作描绘了相位伺服图形的磁复制用主载体，其特征在于一边在一个方向，以一定速度使涂敷了电子束描绘用抗蚀剂的圆形衬底旋转，一边对于构成相位伺服图形的各元素，在圆形衬底的直径方向，使具有该元素的最小宽度以下的束径的电子束扫描，描绘元素。须指出的是，所述径向并不局限于圆形衬底的半径方向，还意味着与半径方向所成角度α(o)为0≤α＜90的范围。(专利技术的效果)根据本专利技术的，因为对于构成相位伺服图形的各元素，在圆形衬底的直径方向，使具有该元素的最小宽度以下的束径的电子束扫描，描绘元素，所以能以高精度形成相位伺服图形。具体而言，象所述的
技术介绍
那样，如果一边使圆形衬底旋转，一边断续地以多次描绘一个元素，就会发生元素的斜边变为阶梯状的问题，但是根据本专利技术，当以与元素的宽度相等的束径的电子束连续描绘一个元素时，斜边形状几乎变为直线，能取得良好的图形形状。另外，在直径方向使比图形宽度小的束径的电子束微扫描，即使涂满一个元素，在本来应该照射的区域中也不会发生照射不均匀，所以能取得良好的图形形状。因为在使衬底旋转的状况的基础上，电子枪的扫描是控制性高的一维扫描，所以能进行再现性良好的图形的形成。如果在磁复制中使用由本专利技术的制作方法制作的具有高精度的图形的主载体，就能实施复制质量高的磁复制。附图说明图1是表示本专利技术的基于电子束的相位伺服图形的描绘方法的模式图。图2是表示相位伺服图形的俯视图。图3是表示本专利技术的实施例1的电子束描绘方法的模式图。图4是表示本专利技术的实施例2的电子束描绘方法的模式图。图5是表示本专利技术的实施例3的电子束描绘方法的模式图。图6是表示本专利技术的的剖视模式图。图7是表示磁复制的基本步骤的一个例子的剖视模式图。下面简要说明附图符号。11—圆形衬底；12—电子束描绘用抗蚀剂；13—喷嘴；14—电子枪；15—相位伺服图形。下面，说明本专利技术的。图1是表示制作该磁复制用主载体的原盘的过程的模式图。图2是原盘的相位伺服图形的俯视图。下面，说明本实施例的磁复制用主载体的原盘的制作方法。如图1(a)所示，一边使例如由玻璃或石英构成的圆形衬底11在1方向旋转，通过旋转镀膜法，一边从喷嘴13向圆形衬底11上涂敷在有机溶剂中溶解了正片型电子束描绘用抗蚀剂12的抗蚀剂溶液12’后，进行烘焙。接着，如图1(b)所示，一边使具有电子束描绘用抗蚀剂12的圆形衬底11在X方向旋转，一边把与伺服信号等的复制信息对应而调制的电子束EB在Y方向(衬底直径方向)微扫描，在电子束描绘用抗蚀剂12上照射相位伺服图形的每个元素。所述电子束EB由众所周知的电子枪14，汇聚为元素的最小宽度以下的束径后照射。接着，如图1(c)所示，对电子束描绘用抗蚀剂12进行显影处理，取得在电子束描绘用抗蚀剂12上复制了相位伺服图形15的衬底11。它成为磁复制用主载体的原盘。如图2所示，按如上所述而形成的相位伺服图形是配置了多个与衬底直径方向(Y方向)成角度α的元素12a而形成的。接受电子束照射的区域12a的电子束描绘用抗蚀剂12由显影处理除去，隔开给定的间隔形成了由电子束描绘用抗蚀剂12构成的凸部(斜线区域)。须指出的是，电子束描绘用抗蚀剂12使用了正片型，但是也可以使用负片型。另外，作为圆形衬底11的材料，能使用硅、玻璃或石英。下面，具体说明本专利技术的各种相位伺服图形的描绘方法。下面，说明实施例1的描绘方法。图3表示了该描绘方法的模式图。图3所示的相位伺服图形是配置了多个与衬底直径方向(Y方向)成角度α1、长度11的元素12a而形成的。通过一边使具有电子束描绘用抗蚀剂12的圆形衬底11在X方向旋转，一边使发出具有与元素的宽度相同的束径d的电子束EB的电子枪14从Y1到Y2沿着直径方向扫描，能描绘构成该图形的一个元素。即如果用最左边的元素说明，就从Y11到Y21斜着描绘。在描绘到Y21的时刻停止电子束的照射，通过使电子枪14再返回Y1的位置，在Y12的位置使电子束的照射开始，通过使电子枪14从Y1到Y2扫描，从Y12到Y22斜着描绘了正中间的元素。同样，从Y13到Y23斜着描绘了最右边的元素。下面，说明实施例2的描绘方法。图4表示了该描绘方法的模式图。图4所示的相位伺服图形是配置了多个与衬底直径方向(Y方向)成角度α2、长度12的元素12a而形成的。通过一边使具有电子束描绘用抗蚀剂12的圆形衬底11在X方向旋转，一边使具有与图形的宽度相同的束径d的电子束EB从Y1到Y2在直径方向振动，能描绘构成该图形的一个元素。即如果用最左边的元素说明，就从Y11到Y21斜着描绘。在描绘到Y12的时刻停止电子束的照射，使电子枪14再次回到Y1的位置。在该相位伺服图形中，因为描绘到Y12，电子枪14回到Y1的位置之间，衬底在X方向旋转，所以在回到Y1的时刻，不可能从相邻的元素的开始点Y12开始描绘。因此，这时，不描绘不从起点开始的元素，而是跳过它，从由起点开始的最初的元素开始描绘。然后，在旋转一圈后，描绘刚才的旋转跳过的元素。正中央的元素是在第二圈，通过一边使衬底旋转，一般把电子枪14从Y1到Y2扫描在直径方向扫描，从Y12到Y22斜着描绘的。这样，在描绘了一个磁道内的所有元素之前，多次描绘一个磁道。所述实施例1和2所示的元素的描绘方法是通过与元素宽度相同的束径进行描绘，所以能容易地在短时间进行图形的描绘。可是，因为无法连图形端部都进行良好的曝光，所以会有角变圆的缺点。下面，说明实施例3的描绘方法。图5表示了该描绘方法的模式图。图5所示的相位伺服图形是配置了多个与衬底直径方向(Y方向)成角度α3、长度13的元素12a而形成的。该图形的一个元素是通过一边使具有电子束描绘用抗蚀剂12的圆形衬底11在X方向旋转，一边使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁复制用主载体的制作方法，是通过电子束的扫描，制作描绘了相位伺服图形的磁复制用主载体的制作方法，其特征在于：一边在一个方向，以一定速度使涂敷了电子束描绘用抗蚀剂的圆形衬底旋转，一边对于构成所述相位伺服图形的各元素，在所述圆形衬底的直 径方向，使具有该元素的最小宽度以下的束径的电子束扫描，描绘所述元素。

【技术特征摘要】
JP 2002-2-26 2002-0494131.一种磁复制用主载体的制作方法，是通过电子束的扫描，制作描绘了相位伺服图形的磁复制用主载体的制作方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：小松和则，宇佐利裕，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]