磁复制用主信息载体制造技术

技术编号:3066008 阅读:158 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种针对面内磁记录介质的磁复制用主载持体,具有对应于应复制在面内磁记录介质上的信息而在磁道方向上排列配置的图形状的凹凸的基板和在该基板上沿着所述凹凸所形成的磁性层,其特征在于:形成在所述基板的凸部上面的所述磁性层厚度da1与形成在该凸部的侧面的所述磁性层厚度da2的关系满足0.05<da2/da1≤1.3。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于在磁记录介质上复制信息的具有图形状凹凸的磁复制用主载持体。用于决定磁道位置的伺服信号、其磁道地址信号、再生时钟信号等伺服信息在制造磁记录介质时,作为预格式化化,必须预先记录在磁记录介质上,目前使用专用的伺服记录装置(伺服磁道记录器)进行预格式化化。由于通过以往的伺服记录装置进行预格式化,必须将磁记录介质逐张通过磁头进行记录,所以存在着预格式化的时间相当长的生产效率的问题。一方面,作为进行正确并且高效的预格式化方法,例如在专利文献1~3等中提出了通过磁复制,将形成在主载持体上的伺服信息图形复制到磁记录介质上的方法。磁复制是在使载持所需复制信息的主载持体与磁盘介质等磁记录介质(从属介质)紧密接触的状态下,通过施加复制用磁场,在从属介质上磁性复制对应主载持体所具有信息图形的磁图形,所以能够在主载持体和从属介质的相对位置不发生变化的状态下安静地进行记录,因此具有能够正确地进行预格式化记录,并且记录所需时间极短的优点。特开昭63-269566号公报[专利文献2]特开平10-40544号公报[专利文献3]特开平10-269566号公报在上的专利文献2及3中所公开的用于磁复制的主载持体,具有对应需要向从属介质复制的信息的凹凸图形的基板和至少在该基板的凸部表面上的磁性层。由于磁复制需要使主载持体与从属介质形成紧密接触而进行,所以在使用凹凸图形的凸部上具备的磁性层的主载持体时,在和许多从属介质反复紧密接触以及脱离的过程中,会出现图形上的磁性层等部分形成脱落、从基板上脱离的现象。磁性层的脱落关系到与从属介质紧密接触性的恶化等,将降低复制信号的品质。另外,虽然当磁性层的脱落部位变多时要更换主载持体,但是由于该主载持体价格高昂,所以由1张主载持体所能够复制的从属介质的张数,在磁记录介质制造成本的控制中致关重要。本专利技术人通过观察磁性层脱落的主载持体,了解到位于凸部图形平坦部的端部上的脱落尤为严重。进而通过将主载持体和从属介质紧密接触时的施加压力作为参数,对磁性层脱落状况进行观察,结果是,显然随施加压力增高而脱落频度增加。即,可以推测磁性层脱落是起因于力学性构造弱的可能性大。作为支配主载持体的力学性构造强度的有例如在图形上形成磁性层的厚度、基板和磁性层紧密接触的强度。通过进一步的实验,明确了当凸部图形侧面部的磁性层膜的厚度非常薄或者没有时,在平坦部的端部则多发脱落现象,即,判明了形成在基板上的磁性层的膜厚度分布致使发生构造强度分布,力集中在强度弱的部分上,从而产生磁性层脱落现象。另一方面,本专利技术人通过研究,判明了形成在主载持体凸部侧面上的磁性层厚度对通过磁复制而形成磁图形的从属介质的再生信号质量具有很大影响。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决所述的问题,提供一种提高了耐久性的,使磁复制后的从属介质能够得到良好的复制信号的磁复制用主载持体。本专利技术之一的磁复制用主载持体,具有对应于应复制在面内磁记录介质上的信息而排列设置在磁道方向上的图形状凹凸的基板和在该基板上沿着所述凹凸所形成的磁性层,其特征在于形成在所述基板的凸部上面的所述磁性层厚度da1与形成在该凸部的侧面的所述磁性层厚度da2的关系满足0.05<da2/da1≤1.3。在所述本专利技术之一的磁复制用主载持体中,理想的是,形成在所述凸部侧面上的所述磁性层厚度db2与所述图形状凹凸的,最接近磁道方向的凸部之间的凹部的在该磁道方向的长度S满足关系式0.05<da2/S<0.4。本专利技术之2是一种针对垂直磁记录介质的磁复制用主载持体,具有对应于应复制在垂直磁记录介质上的信息而在磁道方向上排列配置的图形状的凹凸的基板和在该基板上沿着所述凹凸所形成的磁性层,其特征在于形成在所述基板的凸部上面的所述磁性层厚度da1与形成在该凸部的侧面的所述磁性层厚度da2的关系满足0.1<da2/da1≤0.5。上述本专利技术之2的磁复制用主载持体,其理想的情况是,形成在所述凸部的侧面上的所述磁性层的厚度da2与所述图形状凹凸的在所述磁道方向上最接近的凸部之间的凹部的在该磁道方向上的长度S的关系满足0.05<da2/S<0.4。还有,所谓“凸部侧面”是指构成该凸部4个侧面的各个面,形成在各个侧面上的磁性层厚度与凸部上面的磁性层厚度分别满足所述关系。另外,这里的“凹部的在该磁道方向上的长度S”被定义为把凸部的上面向凹部开口延长而形成的面的在磁道方向上的长度。在本专利技术之1及之2的磁复制用主载持体中,理想的是所述基板的所述凹部表面的向所述凸部内延长的延长面与所述凸部的侧面所形成的该凸部内侧的角度θ满足30度≤θ<80度。另外,所述被复制的信息也可以为伺服信号。另外,理想的是所述磁性层为软磁性或半硬质磁性本专利技术的磁复制方法之1是一种向面内磁记录介质进行磁复制的磁复制方法,向面内磁记录介质施加朝向该面内磁记录介质的磁道的一个方向的初始直流磁场,对该面内磁记录介质的磁性层进行朝向该磁道的一个方向的初始直流磁化,然后通过在使所述面内磁记录介质的磁性层与磁复制用主载持体的磁性层紧密接触的状态下向这些磁性层施加与所述初始直流磁化方向相反的复制用磁场,进行磁复制,其特征在于所述磁复制用主载持体包括具有与应向所述面内磁记录介质复制的信息相对应的图形形状凹凸的基板和沿着该基板上的所述凹凸而形成的磁性层,形成在所述基板凸部上面的所述磁性层的厚度da1与形成在该凸部侧面的所述磁性层的厚度da2的关系满足0.05<da2/da1≤1.3。本专利技术的磁复制方法之2是一种向垂直磁记录介质进行磁复制的磁复制方法,向垂直磁记录介质施加朝向该垂直磁记录介质的磁道的一个方向的初始直流磁场,对该垂直磁记录介质的磁性层进行朝向与该磁道垂直的一个方向的初始直流磁化,然后通过在使所述垂直磁记录介质的磁性层与磁复制用主载持体的磁性层紧密接触的状态下向这些磁性层施加与所述初始直流磁化方向相反的复制用磁场,进行磁复制,其特征在于所述磁复制用主载持体包括具有与应向所述垂直磁记录介质复制的信息相对应的图形形状凹凸的基板和沿着该基板上的所述凹凸而形成的磁性层,形成在所述基板凸部上面的所述磁性层的厚度da1与形成在该凸部侧面的所述磁性层的厚度da2的关系满足0.1<da2/da1≤0.5。用于向面内磁记录介质进行磁复制的本专利技术之一的磁复制用主载持体,由于在具有图形状的凹凸基板上沿着凹凸所形成的磁性层,在凸部上面的厚度da1与在该凸部侧面上的厚度da2满足0.05<da2/da1≤1.3的关系,所以提高了耐久性,并可提高从属介质的复制数量,在向从属介质进行磁复制时,能够在从属介质上形成良好的磁化图形。形成良好的磁化图形的从属介质可得到高品质的再生信号。即,关于对于面内磁记录介质进行磁复制所使用的磁复制用主载持体,如果da2/da1小于0.05则易发生大量脱落,使耐久性下降。膜越厚则磁性层脱落越少,并使耐久性明显提高。然而,如果da2/da1大于1.3,则在施加磁复制磁场时,从凸部上面的磁性层应该侵入从属介质侧的磁通量容易被引入凸部侧面的磁性层,复制磁场强度下降,得不到良好的信号品质。对于本专利技术之1的磁复制用主载持体,当形成在所述凸部的侧面上的所述磁性层的厚度da2与所述图形状凹凸的在所述磁道方向上最接近的凸部之间的凹部的在该磁道方向上的长度S的关本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种针对面内磁记录介质的磁复制用主载持体,具有对应于应复制在面内磁记录介质上的信息而在磁道方向上排列配置的图形状的凹凸的基板和在该基板上沿着所述凹凸所形成的磁性层,其特征在于形成在所述基板的凸部上面的所述磁性层厚度da1与形成在该凸部的侧面的所述磁性层厚度da2的关系满足0.05<da2/da1≤1.3。2.根据权利要求1所述的针对面内磁记录介质的磁复制用主载持体,其特征在于形成在所述凸部的侧面上的所述磁性层的厚度da2与所述图形状凹凸的在所述磁道方向上最接近的凸部之间的凹部的在该磁道方向上的长度S的关系满足0.05<da2/S<0.4。3.根据权利要求1或2所述的针对面内磁记录介质的磁复制用主载持体,其特征在于所述基板上,所述凹部表面的向所述凸部内延长的延长面与所述凸部的侧面所形成的该凸部内侧的角度θ满足30度≤θ<80度。4.根据权利要求1或2或3所述的针对面内磁记录介质的磁复制用主载持体,其特征在于所述被复制的信息为伺服信号。5.根据权利要求1至4中的任意一项所述的针对面内磁记录介质的磁复制用主载持体,其特征在于所述磁性层为软磁性或半硬质磁性。6.一种针对垂直磁记录介质的磁复制用主载持体,具有对应于应复制在垂直磁记录介质上的信息而在磁道方向上排列配置的图形状的凹凸的基板和在该基板上沿着所述凹凸所形成的磁性层,其特征在于形成在所述基板的凸部上面的所述磁性层厚度da1与形成在该凸部的侧面的所述磁性层厚度da2的关系满足0.1<da2/da1≤0.5。7.根据权利要求6所述的针对垂直磁记录介质的磁复制用主载持体,其特征在于形成在所述凸部的侧面上的所述磁性层的厚度da2与所述图形状凹凸的在所述磁道方向上最接近的凸部之间的凹部的在该磁道方向上的长度S的关系满足0.05<da2/S<0.4。8.根据权利要求6或7所述的针对垂直磁记录介质的磁复制用主载持...

【专利技术属性】
技术研发人员:西川正一新妻一弘安永正宇佐利裕小松和则
申请(专利权)人:富士胶片株式会社
类型:发明
国别省市:

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