光信息记录介质的压模的制造方法技术

一种光信息记录介质的压模的制造方法，在基板（１）上形成由无机材料构成的抗蚀剂（２）而成的记录原盘（３）上，进行曝光及显影，制作具有凹凸图形的原盘（６）。然后，在原盘（６）的凹凸图形上，利用旋转涂布法等形成有机层（７）。另外，在有机层（７）的上面形成导电膜（８），通过在导电膜（８）的上面实施电镀，形成金属层（９）。之后，从原盘（６）只剥离金属层（９）或者剥离金属层（９）及导电膜（８），制造具有形状与原盘（６）的凹凸图形相补的凹凸图形的压模（１０ａ）或（１０ｂ）。本发明专利技术提供即使在采用无机材料作为抗蚀剂的情况下，在形成金属层时也能够防止无机材料与导电膜及金属层反应或电分解的光信息记录介质的压模的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种。
技术介绍
在通常情况下，光盘等光信息记录介质大多采用具有规定凹凸图形的压模，通过注射模塑成形等成形加工方法完成制造。以下，参照图7(A)～(E)，说明一例以往的光信息记录介质的压模制造方法。在压模的以往制造工序中，首先，如图7(A)所示，向在基板101上形成薄膜状的抗蚀剂102而成的记录原盘103用激光或电子束等记录光进行曝光，由此作为潜影105形成导向槽及信息坑等所要求的图形。然后，如图7(B)所示，通过对曝光后的记录原盘103实施显影处理，制作作为潜影105所记录的所需图形形成为凸部或凹部的具有凹凸图形的原盘106。另外，在DVD及其下一代的光信息记录介质的原盘的制造中，广泛采用利用紫外线激光的曝光及利用碱溶液的显影。接着，如图7(C)所示，在原盘106上，利用溅射法或非电解镀膜法，形成导电膜107。之后，如图7(D)所示，通过以导电膜107作为电极的电镀处理，形成金属层108。其后，如图7(E)所示，从原盘106只剥离金属层108，或随导电膜107一起剥离金属层108，并对该金属层108实施背面研磨或冲裁等整形加工。由此，完成不带有导电膜107的压模109a或带导电膜107的压模109b。或者，有时也可对从原盘106剥离的金属层108，再实施1次以上电镀或2P法处理等，由此，得到转印有金属层108上的凹凸图形的压模。光信息记录介质的圆盘基板，是采用如此制造的压模109a或109b，通过注射模塑成形等制造的。以上说明的是采用正型光致抗蚀剂(利用显影去除潜影的光致抗蚀剂)时的情形，而在采用负型光致抗蚀剂时，除了原盘上的凹凸相反以外，也能够按如上所述方法制造压模。作为其他方法，有时也可以对从原盘106剥离的金属层108，再实施1次以上电镀或2P法等，由此，也能得到转印有金属层108上的凹凸图形的压模，并将其利用于光信息记录介质的制造。在参照图7说明的以往的光信息记录介质的压模的制造中，作为抗蚀剂102，一般采用由有机材料构成的光致抗蚀剂。但是，作为抗蚀剂102，在采用光致抗蚀剂时，在曝光部和非曝光部的边界部，由于曝光量不是阶梯状变化而呈连续变化的状态，因此光致抗蚀剂也不能以阶梯状去除，而是会倾斜一定角度。这样，采用光致抗蚀剂时很难形成微细的凹凸图形。为此，提出了用相变化材料等具有热敏性的无机材料形成抗蚀剂102的方法。具体为，通过加热使热敏材料升温，使其产生相变化，通过在产生相变化的部分和未产生相变化的部分实施不同速率的刻蚀，制造出具有凹凸图形的原盘。在用热敏性的相变化材料形成的抗蚀剂中，由于相变化发生在通过曝光升温到一定温度以上的部分，因此，产生相变化的部分和未产生相变化的部分之间的边界更为清晰。所以，如果使用采用热敏材料的抗蚀剂，相对于同一波长的记录光，与采用光致抗蚀剂时相比，能够形成更微细的图形。如前所述，通过将热敏材料用作抗蚀剂，能够制造出具有微细的凹凸图形的压模。但是，采用以热敏材料作为抗蚀剂的原盘利用以往的方法制造压模，会产生如下的问题。以往，广泛用于制造光信息记录介质压模的光致抗蚀剂，由酚醛清漆树脂及PMMA等有机材料组成，此种光致抗蚀剂一般在通过电镀形成金属层的期间内也具有比较高的稳定性，而相变化材料等热敏材料一般是无机材料。无机材料，在通过电镀形成金属层时，具有与导电膜或通过电镀形成的金属层进行反应的倾向，此外，还有发生电分解的倾向。无机材料和其他物质的反应，会成为损伤形成在原盘上的凹凸图形等的原因，结果导致不能赋予金属层所要求的凹凸图形。如上所述，如果采用以无机材料作为抗蚀剂的原盘，存在不能完美地实施随通电形成金属层(即，电镀)的操作的问题。
技术实现思路
本专利技术是针对上述现状而提出的，目的是提供一种，采用方法方法时，即使在使用相变化材料等无机材料作为抗蚀剂的情况下，在通过电镀等形成金属层时，也能够防止无机材料与导电膜及金属层的反应或被电分解，由此，能够通过电镀完美地形成金属层。本专利技术中，作为制造光信息记录介质的压模(简称为“压模”)第1方法，提供一种制造方法，其包括(i)通过对由无机材料组成的抗蚀剂形成在基板上而成的记录原盘进行曝光及显影，制作具有凹凸图形的原盘的工序；(ii)在该原盘的凹凸图形的上面形成有机层的工序；(iii)在该有机层的上面形成导电膜的工序；(iv)在该导电膜的上面形成金属层的工序；及(v)从该原盘只剥离该金属层或者剥离该金属层及该导电膜的工序。该压模的制造方法的特征在于，在抗蚀剂和导电膜的之间形成有机层。在此，所谓的“有机层”，指的是作为主成分含有有机材料的层。该有机层，具有物理隔离抗蚀剂和导电膜的作用，由此，可抑制在抗蚀剂和导电膜的之间产生化学反应。此外，由于有机材料的导电率一般较低，有机层也具有电隔离(绝缘)抗蚀剂和导电膜的作用，由此，可抑制被电促进的抗蚀剂的分解反应及抗蚀剂和导电膜的反应。本专利技术中，作为第2制造方法提供一种制造方法，其特征在于在上述第1制造方法中，用于上述记录原盘制造的上述无机材料是受由曝光产生的温度变化的影响，其状态发生变化的热敏材料。此处，热敏材料是受由曝光产生的温度变化(具体是升温)的影响，其状态发生变化的材料。此处，所谓的“状态变化”，指的是热敏材料的化学和/或物理性质发生变化。“状态发生变化的部分”，例如成为相变化的部分或热交联的部分等。此外，在本说明书中，所谓的“曝光”不仅是光的照射，也包括电子束照射等。本专利技术中，作为第3制造方法提供一种制造方法，其特征在于在上述第1或第2制造方法中，通过电镀形成上述金属层。本专利技术的制造方法，目的是解决在以往的压模制造方法中，特别是在电镀时产生的问题。因此，本专利技术的制造方法，特别适用于通过电镀形成金属层的情形。本专利技术中，作为第4制造方法提供一种制造方法，其特征在于在上述第1～第3中的任何一种制造方法中，利用旋转涂布法形成上述有机层。通过采用旋转涂布法，能够高效率地形成含有有机材料的层。在利用旋转涂布法形成有机层时，有机层中优选含有酚醛树脂、丙烯酸树脂或苯乙烯系树脂等。或者，有机层也可以是由以酚醛树脂或丙烯酸树脂等为主成分的光致抗蚀剂构成。在采用这些树脂或光致抗蚀剂材料，利用旋转涂布法形成有机层时，有机层的厚度，优选设定在5nm以上60nm以下，更优选设定在15nm以上40nm以下。如果有机层的厚度低于5nm，难于物理隔离及电隔离抗蚀剂和导电膜之间。如果有机层的厚度超过60nm，不能在原盘整面上均匀地形成有机层，有时会导致最终得到的压模表面的凹凸图形不均匀。本专利技术中，作为第5制造方法提供一种制造方法，其特征在于在上述第1～第3中的任何一种制造方法中，利用真空工艺形成有机层。作为真空工艺，例如，可以采用真空蒸镀法或溅射法等。真空工艺是为了减小起因于有机层的形成的凹凸图形的平坦化程度而优选采用的。当作为真空工艺而采用真空蒸镀法时，有机层中优选含有酚醛树脂、丙烯酸树脂、苯乙烯系树脂、聚酰胺、聚酰亚胺、聚脲或聚氨酯等。在采用这些树脂中的任何一种树脂并利用真空蒸镀法形成有机层时，有机层的厚度，优选设定在5nm以上60nm以下，更优选设定在15nm以上60nm以下。因有机层的厚度过薄或过厚而产生的问题，与前面利用旋转涂布法形成有机层时的说明相同。在上述第5制造方法中，作为真本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光信息记录介质的压模的制造方法，是具有凹凸图形的光信息记录介质的压模的制造方法，其中包括：通过对具有含无机材料的抗蚀剂及基板的记录原盘进行曝光及显影，制作具有凹凸图形的原盘的工序；在该原盘的凹凸图形的上面形成有机层的工序 ；在该有机层的上面形成导电膜的工序；在该导电膜的上面形成金属层的工序；及从该原盘只剥离该金属层或者剥离该金属层及该导电膜的工序。

【技术特征摘要】
JP 2003-6-23 2003-1781331.一种光信息记录介质的压模的制造方法，是具有凹凸图形的光信息记录介质的压模的制造方法，其中包括通过对具有含无机材料的抗蚀剂及基板的记录原盘进行曝光及显影，制作具有凹凸图形的原盘的工序；在该原盘的凹凸图形的上面形成有机层的工序；在该有机层的上面形成导电膜的工序；在该导电膜的上面形成金属层的工序；及从该原盘只剥离该金属层或者剥离该金属层及该导电膜的工序。2.如权利要求1所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，上述无机材料为，根据由曝光造成的温度变化，其状态发生变化的热敏材料。3.如权利要求1所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，通过电镀形成上述金属层。4.如权利要求1所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，利用旋转涂布法形成上述有机层。5.如权利要求4所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，上述有机层中含有酚醛树脂、丙烯酸树脂或苯乙烯系树脂。6.如权利要求5所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，上述有机层由以酚醛树脂或丙烯酸树脂为主成分的光致抗蚀剂构成。7.如权利要求5所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，将上述有机层的厚度设定在5nm以上60nm以下。8.如权利要求6所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，将上述有机层的厚度设定在5nm以上60nm以下。9.如权利要求7所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，将上述有机层的厚度设定在15nm以上40nm以下。10.如权利要求8所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，将上述有机层的厚度设定在15nm以上40nm以下。11.如权利要求1所述的光信息记录介质的压模的制造方法，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：伊藤英一，大野锐二，富山盛央，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]