模版形成方法技术

一种模版形成方法，其用以形成一模版，其特征在于，包含：　　　　于一基版上涂布一光阻层；　　　　于该光阻层上形成一图案化的半遮蔽层；　　　　以一光束曝光该光阻层，其中该半遮蔽层削减该光束的能量以部分遮蔽该光束；　　　　显影该光阻层；以及　　　　朝该光阻层的方向溅镀一金属层。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种，特别涉及一种用于数字激光视盘的。
技术介绍
在光盘片的生产过程中，首先必需将原始的数字资料或信号转换为激光刻版信号，接着于无尘的环境中，经过刻版与电镀等处理步骤，制造出用以量产光盘的母版(master)。接下来，再利用母版制成模版(stamper)以供后续工艺使用。如图1A所示，习知的DVD-RW的模版1于Readable Embossed区域(区域A)以及Unreadable Embossed区域(区域B)中形成有多个相同深度的沟槽，其沟槽深度H1约为25nm-30nm。接着，为了促进光盘片与光驱的兼容性，并使一般的DVD-ROM能够读取DVD-RW格式的光盘片，于DVD-RWVer1.1版本中，将Readable Embossed区域(区域A)信号作部分的修改，亦即将Readable Embossed区域(区域A)的沟槽深度H2增加为100nm，如图1B所示的模版1’，其用以增加信号读取的模式。承上所述，在目前的模版形成工艺中，直接利用不同强度的激光来曝光模版1’的正光阻；举例而言，在曝光Readable Embossed区域(区域A)的正光阻时，必须使用高能量的激光束，以便将ReadableEmbossed区域(区域A)的正光阻曝光至所需的沟槽深度(100nm)，而在曝光Unreadable Embossed区域(区域B)的正光阻时，必须使用较低能量的激光束，以便将Unreadable Embossed区域(区域B)的正光阻曝光至较浅的沟槽深度(约25nm-30nm)。然而，在上述工艺中，不同能量的激光束通常来自同一激光光源，而透过调整激光光源的方式来产生所需的不同强度的激光束，结果，在调整激光光源时，激光束的强度会呈现不稳定的状况，进而造成所形成的沟槽深度不均匀的情形，特别是在调整激光光源以产生较低能量的激光束、并用以曝光Unreadable Embossed区域(区域B)的正光阻时。因此，如何提供一种能够避免调整激光光源所造成的沟槽深度不均匀的，正是当前光盘制造技术的重要课题之一。
技术实现思路
有鉴于上述课题，本专利技术的目的为提供一种能够利用相同强度的激光束来形成不同沟槽深度的。为实现上述目的，依本专利技术的包括于一基版上涂布一光阻层、于光阻层上形成一图案化的半遮蔽层(patterned semi-blockedlayer)、以一光束曝光光阻层、显影光阻层、以及朝光阻层的方向溅镀一金属层。在本专利技术中，半遮蔽层用以削减光束的能量，以部分遮蔽此光束。承上所述，因依本专利技术的于光阻层上形成有用以削减光束的能量的半遮蔽层，所以本专利技术仅需使用单一强度的光束来进行光阻层的曝光，并形成所需的二种沟槽深度(如前述的沟槽深度H1及H2)，故能够避免调整激光光源所造成的沟槽深度不均匀的情形。附图说明图1A为一示意图，显示习知DVD-RW的模版的示意图；图1B为一示意图，显示DVD-RWVer1.1的模版的示意图；图2为一流程图，显示依本专利技术较佳实施例的的流程；以及图3A～3F为示意图，显示利用本专利技术较佳实施例的制造DVD-RWVer1.1的模版的示意图。元件符号说明1 模版 1′ 模版31基版 32光阻层33半遮蔽层 34金属层4 光束 A Readable Embossed区域 B Unreadable Embossed区域H1沟槽深度H2沟槽深度S01～S05的流程具体实施方式以下将参照相关附图，说明依本专利技术较佳实施例的，其中相同的元件将以相同的参照符号加以说明。请参照图2所示，依本专利技术较佳实施例的包括下列步骤于一基版上涂布一光阻层(S01)、于光阻层上形成一图案化的半遮蔽层(S02)、以一光束曝光光阻层(S03)、显影光阻层(S04)、以及朝光阻层的方向溅镀一金属层(S05)。需注意的是，依本专利技术较佳实施例的是用以制造一光盘模版，特别是指一用以制造数字激光视盘(Digital Versatile Disc，DVD)的光盘模版。为使本专利技术的内容更容易理解，以下将举一实例并参照图3A至3F，以说明依本专利技术较佳实施例的的流程。如图3A所示，于步骤S01中，于基版31上涂布一光阻层32。在此，基版31是一玻璃基版。在本实施例中，于涂布光阻层32之前，通常会先以一清洗剂清洗基版31表面，接着再涂布一底黏胶(primer)，藉以增强基版31与光阻层32之间的黏着度。其次，如图3B所示，于步骤S02中，于光阻层32上形成一图案化的半遮蔽层33。于本实施例中，半遮蔽层33先形成于光阻层32上，然后再进行半遮蔽层33的图案化，以便将半遮蔽层33形成于Unreadable Embossed区域(区域B)；此外，半遮蔽层33可以是一半反射层(semi-reflecting layer)，例如是由银金属所形成的半反射层，其能够反射部分的光束，并让部分光束透过。需注意的是，所欲形成的模版还包括一资料区域(data area)，而半遮蔽层33还形成于资料区域上。接着，于步骤S03中，以一光束4曝光光阻层32，其中半遮蔽层33削减光束4的能量以部分遮蔽光束4，如图3C与3D所示。在此，工作母带中的数字资料经由信号接口系统(Mastering Interface System，MIS)转换成高频信号，并传输至一读取器中；然后，驱动光束发射器(未显示于图)发射出光束4于涂有光阻层32的基版31上以进行转录。在本实施例中，当光束4照射在Readable Embossed区域(区域A)的光阻层32时，光束4可以将光阻层32曝光至较深的距离，例如前述的沟槽深度H2(100nm)；另外，当光束4照射在Unreadable Embossed区域(区域B)的光阻层32时，光束4会被半遮蔽层33遮蔽、削减，例如部分的光束4会被半遮蔽层33反射，因此被削减的光束4虽然能够穿透半遮蔽层33，但仅能将光阻层32曝光至较浅的距离，例如前述的沟槽深度H1(约25nm-30nm)。于本实施例中，光束4可为一紫外激光束，此紫外激光束所形成的光点可达到刻录高密度数字元激光视盘的标准。另外，于进行本步骤前，通常需先测试平整度，以确保成品的良率。在此，本实施例中的光束4利用相同光源所发射出，且维持相同强度。然后，于步骤S04中，以一显影液将经过曝光的光阻层32清除，如图3E所示。在本实施例中，显影液可为一碱性化学溶液(例如氢氧化钠、氢氧化钾)。需注意的是，本步骤同时移除半遮蔽层33，或是在显影光阻层32之前便先移除半遮蔽层33。最后，于步骤S05中，朝光阻层32的方向溅镀一金属层34，如图3F所示。在本实施例中，溅镀金属层34的功能系使曝光显影后的凹凸部分呈金属性质，以使其成为可导电的电极一样，用以在后续的电铸成形步骤中使用。于本实施例中，金属层34是一镍钒合金(Ni-V Alloy)。综上所述，由于依本专利技术的，于光阻层上形成半遮蔽层，以便削减光束的能量，所以利用本专利技术的仅需使用单一强度的光束来进行光阻层的曝光，并且能够同时形成所需的二种沟槽深度(如沟槽深度H1及H2)，故能够避免调整激光光源所造成的沟槽深度不均匀的情形，进而提高产品的良率。以上所述仅为举例，而非为限制性的。任何未脱离本专利技术的精神与范畴，而对其进行的等效修改或本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种模版形成方法，其用以形成一模版，其特征在于，包含于一基版上涂布一光阻层；于该光阻层上形成一图案化的半遮蔽层；以一光束曝光该光阻层，其中该半遮蔽层削减该光束的能量以部分遮蔽该光束；显影该光阻层；以及朝该光阻层的方向溅镀一金属层。2.如权利要求1所述的模版形成方法，其特征在于，其中该模版包含一readable embossed区域及一unreadable embossed区域，而该半遮蔽层形成于该unreadable embossed区域上，且未形成于该readableembossed区域上。3.如权利要求2所述的模版形成方法，其特征在于，其中该模版还包括一资料区域，而该半遮蔽层还形成于该资料区域上。4.如权利要求1所述的模版形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖元章，
申请(专利权)人：精碟科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：