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模版形成方法技术
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文档序号:3062029
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一种模版形成方法,其用以形成一模版,其特征在于,包含: 于一基版上涂布一光阻层; 于该光阻层上形成一图案化的半遮蔽层; 以一光束曝光该光阻层,其中该半遮蔽层削减该光束的能量以部分遮蔽该光束; 显影该光阻层;以及 ...
该专利属于精碟科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过精碟科技股份有限公司授权不得商用。
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