下载模版形成方法的技术资料

文档序号:3062029

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一种模版形成方法,其用以形成一模版,其特征在于,包含:    于一基版上涂布一光阻层;    于该光阻层上形成一图案化的半遮蔽层;    以一光束曝光该光阻层,其中该半遮蔽层削减该光束的能量以部分遮蔽该光束;    显影该光阻层;以及   ...
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