传送单元及用于处理基板的装置和方法制造方法及图纸

公开了传送单元及用于处理基板的装置和方法，尤其是用于对基板进行液体处理的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括：液体处理室，其将液体供应到所述基板上以对基板进行液体处理；干燥室，其去除基板上的残留液体；以及传送单元，其将基板在液体处理室和干燥室之间传送，其中所述传送单元包括支撑基板的手构件，以及测量基板上残留液体的重量的重量测量单元。基板上残留液体的重量可以通过在传送基板时测量基板的重量来测量。

【技术实现步骤摘要】
传送单元及用于处理基板的装置和方法本申请是申请号为201710389450.8、申请日为2017年05月27日、专利技术名称为“传送单元及用于处理基板的装置和方法”的专利申请的分案申请。
本专利技术构思涉及一种用于处理基板的装置和方法，更具体地涉及基板液体处理装置和方法。
技术介绍
为了制造半导体器件，通过诸如光刻、蚀刻、灰化、离子注入和薄膜沉积等各种工艺在基板上形成期望的图案。在各工艺中使用各种处理液，并且在该工艺期间产生污染物和颗粒。为了解决这个问题，在该工艺之前和之后进行用于清洁污染物和颗粒的清洁工艺。通常，清洁工艺包括液体处理工艺和干燥工艺。在液体处理工艺中，将处理液供应到基板上，并且在干燥工艺中，去除基板上残留的液体。液体处理工艺包括化学处理操作、冲洗操作和溶剂置换操作。在化学处理操作中，用化学品从基板去除异物，并且在冲洗操作中，去除基板上残留的化学品。在溶剂置换操作中，用有机溶剂置换基板上残留的冲洗液。通常，化学处理操作、冲洗操作和溶剂置换操作在液体处理室中进行，并且干燥操作在干燥室中进行。因此，已完全进行溶剂置换操作的基板被传送到干燥室。残留在基板上的有机溶剂是挥发性材料，并且可以在传送基板时挥发。因此，当残留在基板上的有机溶剂的量小于预设范围时，可能引起图案倾斜现象，并且可能发生工艺缺陷。与此不同，当残留的有机溶剂的量大于预设范围时，有机溶剂可能形成为颗粒，污染外围装置。
技术实现思路
本专利技术构思提供了一种用于测量基板上的残留液体的重量的装置和方法。本专利技术构思还提供了一种用于在传送基板时测量残留液体的重量的装置和方法。本专利技术构思还提供了一种用于防止基板上的残留液体的量偏离预设范围从而导致工艺缺陷的装置和方法。本专利技术构思提供了一种用于对基板进行液体处理的装置和方法。根据本专利技术构思的一个方面，提供了一种用于处理基板的装置，该装置包括：液体处理室，其将液体供应到基板上以对基板进行液体处理；干燥室，其将基板上的残留液体去除；和传送单元，其在液体处理室和干燥室之间传送基板，其中所述传送单元包括支撑基板的手构件，以及测量基板上的残留液体的重量的重量测量单元。该装置还可以包括控制传送单元的控制器，并且所述控制器可以在将基板载入液体处理室之前接收基板的处理前重量，以及接收通过液体处理室经液体处理的基板的处理后重量，并基于处理前重量和处理后重量之间的差异来计算在基板上的残留液体的重量。该装置还可以包括控制传送单元的控制器，所述控制器可以接收在液体处理室中经液体处理的基板的处理后重量，经液体处理的基板的处理后重量还可以包括：在传送单元将基板载出液体处理室之前不久或之后立即测量的传送前重量；以及在将所述基板载入干燥室之前不久测量的基板的传送后重量，并且控制器可以基于传送前重量和传送后重量之间的差异来计算传送基板时的液体损失量。如果所述差异偏离预设值，则控制器可以控制传送单元将基板再次载入液体处理室中以对基板进行液体处理。如果所述差异偏离预设值，则控制器可以产生联锁。重量测量单元可以包括安装在手构件上的测压元件，用于测量残留有液体的基板的重量。根据本专利技术构思的一个方面，提供了一种用于处理基板的方法，该方法包括在液体处理室中对基板进行液体处理，在干燥室中干燥基板，并将基板从液体处理室传送到干燥室，其中对基板的传送包括测量在基板上的残留液体的重量。液体的重量可以通过将基板从液体处理室传送到干燥室的传送单元来测量。该方法还可以包括在对基板进行液体处理之前，通过传送单元将所述基板载入液体处理室中；对所述基板的载送包括在将基板载入液体处理室中之前测量基板的处理前重量；对基板的传送包括测量在液体处理室中经液体处理的基板的处理后重量；并且可以基于处理前重量和处理后重量之间的差异来计算残留液体的重量。对基板的传送可以包括在将基板载出液体处理室之前不久或之后立即测量基板的传送前重量，在将基板载入干燥室之前不久测量基板的传送后重量，并且基于传送前重量和传送后重量之间的差异来计算基板上的残留液体的损失量。如果所述差异偏离预设值，则可以将基板再次载入液体处理室中并进行液体处理。如果所述差异偏离预设值，则可以进行维护。液体可以包括异丙醇(IPA)液体。对基板的干燥可以包括在干燥室中进行超临界处理工艺。在基板被水平支撑时，传送单元可以将基板从液体处理室传送到干燥室。液体的重量可以通过设置在传送单元的手构件中的测压元件来测量。液体的重量可以通过暂时存放基板的缓冲单元来测量。根据本专利技术构思的另一个实施方式，提供了一种用于传送基板的单元，该单元包括可移动手构件，其以水平状态支撑基板；以及重量测量单元，其测量在位于手构件上的基板上的残留液体的重量。重量测量单元可以包括安装在手构件上的测压元件，用于测量残留有液体的基板的重量。根据本专利技术构思的另一方面，提供了一种用于处理基板的方法，该方法包括在液体处理室中对基板进行液体处理，以及在对基板进行液体处理之后测量基板的重量，其中对重量的测量包括测量基板上的残留液体的重量。对重量的测量可以包括在对基板进行液体处理之前测量基板的处理前重量，在对基板进行处理后测量基板的处理后重量，并基于处理前重量和处理后重量之间的差异来计算残留液体的重量。残留液体的重量可以通过从液体处理室载送基板的传送单元来测量。残留液体的重量可以通过暂时存放基板的缓冲室来测量。根据本专利技术构思的另一方面，提供了一种用于处理基板的装置，该装置包括第一处理室，其初次处理基板；第二处理室，其二次处理基板；和传送单元，其在第一处理室和第二处理室之间传送基板，其中传送单元包括支撑基板的手构件，以及测量基板的重量的重量测量单元。该装置还可以包括控制传送单元的控制器，并且所述控制器可以在将基板载入第一处理室之前接收基板的处理前重量，以及接收通过第一液体处理室经初次处理的基板的处理后重量，并基于处理前重量和所述处理后重量之间的差异来计算在基板上的残留液体的重量。该装置还可以包括控制传送单元的控制器，所述控制器可以接收在第一处理室中经初次处理的基板的处理后重量，并且其中经初次处理的基板的处理后重量还包括：在传送单元将基板载出第一处理室之前不久或之后立即测量的传送前重量；和将基板载入第二处理室之前不久测量的基板的传送后重量，并且其中控制器基于传送前重量和传送后重量之间的差异来计算传送基板时的液体损失量。根据本专利技术构思的另一方面，提供了一种用于处理基板的方法，所述方法包括在第一处理室中初次处理基板，在第二处理室中二次处理基板，以及将基板从第一处理室传送到第二处理室，并且其中对基板的传送包括测量基板上的残留液体的重量。液体的重量通过将基板从第一处理室传送到第二处理室的传送单元来测量。附图说明根据参考以下附图的以下描述，上述和其它目的和特征将变得显而易见，其中除非另有说明，相同的附图标记在所有各个附图中表示相同的部件，其中：图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：/n液体处理室，所述液体处理室将液体供应到所述基板上以对所述基板进行液体处理；/n干燥室，所述干燥室去除所述基板上的残留液体；/n传送单元，所述传送单元在所述液体处理室和所述干燥室之间传送所述基板；以及/n控制器，所述控制器控制所述传送单元，/n其中，所述传送单元包括：/n手构件，所述手构件支撑所述基板；和/n重量测量单元，所述重量测量单元测量所述基板上的残留液体的重量，/n其中，所述控制器在所述基板被送入所述液体处理室之前接收所述基板的处理前重量，以及接收通过所述液体处理室进行液体处理的所述基板的处理后重量，并基于所述处理前重量和所述处理后重量之间的差异来计算所述基板上的残留液体的重量，/n其中，如果所述差异偏离预设值，则所述控制器控制所述传送单元将所述基板再次载入所述液体处理室中以对所述基板进行液体处理。/n

【技术特征摘要】
20160527 KR 10-2016-00658481.一种用于处理基板的装置，所述装置包括：
液体处理室，所述液体处理室将液体供应到所述基板上以对所述基板进行液体处理；
干燥室，所述干燥室去除所述基板上的残留液体；
传送单元，所述传送单元在所述液体处理室和所述干燥室之间传送所述基板；以及
控制器，所述控制器控制所述传送单元，
其中，所述传送单元包括：
手构件，所述手构件支撑所述基板；和
重量测量单元，所述重量测量单元测量所述基板上的残留液体的重量，
其中，所述控制器在所述基板被送入所述液体处理室之前接收所述基板的处理前重量，以及接收通过所述液体处理室进行液体处理的所述基板的处理后重量，并基于所述处理前重量和所述处理后重量之间的差异来计算所述基板上的残留液体的重量，
其中，如果所述差异偏离预设值，则所述控制器控制所述传送单元将所述基板再次载入所述液体处理室中以对所述基板进行液体处理。


2.根据权利要求1所述的装置，
其中，所述控制器接收在所述液体处理室中经液体处理的所述基板的处理后重量，
其中，经液体处理的所述基板的处理后重量还包括：
在所述传送单元将所述基板载出所述液体处理室之前不久或之后立即测量的传送前重量；和
在将所述基板载入所述干燥室之前不久测量的所述基板的传送后重量，并且
其中，所述控制器基于所述传送前重量和所述传送后重量之间的差异来计算传送所述基板时的液体损失量。


3.根据权利要求1所述的装置，其中，如果所述差异偏离所述预设值，则所述控制器产生联锁。


4.根据权利要求1至3中任一项所述的装置，其中，所述重量测量单元包括安装在所述手构件上的测压元件，用于测量残留有所述液体的所述基板的重量。


5.一种用于处理基板的方法，所述方法包括：
在液体处理室中对所述基板进行液体处理；
在干燥室中干燥所述基板；和
将所述基板从所述液体处理室传送到所述干燥室，
其中，对所述基板的传送包括：测量所述基板上的残留液体的重量，
其中，对所述基板的传送还包括：
在将所述基板载出所述液体处理室之前不久或之后立即测量所述基板的传送前重量；
在将所述基板载入所述干燥室之前不久测量所述基板的传送后重量；以及
基于所述传送前重量和所述传送后重量之间的差异来计算在所述基板上的残留液体的损失量，
其中，如果所述差异偏离预设值，则将所述基板再次载入所述液体处理室中并进行液体处理。


6.根据权利要求5所述的方法，其中，通过将所述基板从所述液体处理室传送到所述干燥室的传送单元来测量所述液体的重量。


7.根据权利要求6所述的方法，还包括：
在对所述基板进行所述液体处理之前，通过所述传送单元将所述基板载入所述液体处理室中，
其中，对所述基板的载送包括：在将所述基板载入所述液体处理室中之前测量所述基板的处理前重量，
其中，对所述基板的传送包括：测量在所述液体处理室中经液体处理的所述基板的处理后重量，并且
其中，基于所述处理前重量和所述处理后重量之间的差异来计算残留液体的重量。


8.根据权利要求6所述的方法，其中，如果所述差异偏离预设值，则进行维护。


9.根据权利要求6至8中任一项所述的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：李暎熏，李载明，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR