曝光机的对准定位装置制造方法及图纸

技术编号:2752334 阅读:248 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种曝光机的对准定位装置,包括:一机台、一工件承座、一光罩承座、一曝光头;该工件承座是设于该机台上,其是用以固定一工件,工件承座至少有一第一伸缩装置、一固定座、一活动座及一活动座固定装置;第一伸缩装置是介于机台与固定座间,固定座设一半球凹部,活动座设一与该半球凹部相对应的半球凸部,使半球凹部与半球凸部相配合而可任意方向微量倾斜,活动座固定装置供固定活动座;光罩承座用以固定一光罩;曝光头用以发出预定光线穿透该光罩使工件曝光。本实用新型专利技术具有较佳的调整效果,且调整快速,可多方向自动调整,其调整后的光罩与工件间具有一预定间隙。(*该技术在2016年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种曝光机的对准定位装置,包括:一机台、一工件承座、一光罩承座、一曝光头;其特征在于,    该工件承座是设于该机台上,其是用以固定一工件,该工件承座至少具有一第一伸缩装置、一固定座、一活动座及一活动座固定装置;该第一伸缩装置是介于该机台与该固定座间,该固定座设一半球凹部,该活动座设一与该半球凹部相对应的半球凸部,使该半球凹部与该半球凸部相配合而可任意方向微量倾斜,该活动座固定装置供固定活动座;    所述光罩承座,用以固定一光罩;    所述曝光头,用以发出预定光线穿透该光罩。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林宪维
申请(专利权)人:科毅科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:71[中国|台湾]

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