一种晶圆胶膜移除装置，包含用于承载一晶圆的一置料模组以及可沿一工作方向改变与置料模组距离的一撕胶膜组，一贴撕胶带经由该撕胶膜组的位移以贴附或分离于该晶圆表面，该贴撕胶带于该晶圆表面分离时一并移除设置该晶圆表面的一薄膜。

本技术公开了一种晶圆曝光机，其包含有一机台、一图形板、一承载台、一样品片置放架及一工作片置放架，该图形板固定于机台，该图形板上形成有特定电路布局的图案，该承载台可相对机台升降移动，该承载台与图形板位置相对应，且位于图形板的下方，该样品置...

本实用新型公开了一种下对位的晶元曝光机，其包含有一机台

本发明的光罩清洁设备应用于一光罩盒，光罩盒包括一上盖及一底盘，底盘上供容置一光罩，光罩具有一光罩护膜，光罩清洁设备包括一主壳体、一次壳体、一光罩开盖装置、一运送装置及至少一风刀装置，次壳体是连接该主壳体。光罩开盖装置包括一升降元件及一开...

本实用新型提供一种曝光机的光学装置，其包含一发光二极管灯板、一复眼透镜组及一转向反射镜；发光二极管灯板用以朝向一水平方向投射一光束；复眼透镜组配置在发光二极管灯板的投射路径上且与发光二极管灯板层叠排列；转向反射镜配置在发光二极管灯板的投...

本实用新型提供一种曝光机灯板散热装置，其包含一循环管路、一致冷模块、一温控模块以及一热交换模块；循环管路填充有一工作流体；致冷模块连通循环管路且致冷模块将输入致冷模块的工作流体降温至低于环境空气的室温后输出；温控模块连通循环管路且热连接...

一种可发光辅助校准的定位装置，包括一机台；一工作承座设于机台上；一定位结构设于工作承座上；定位结构具有一第一及一第二面；至少一发光部；一真空吸引部设于定位结构上，其包括一吸引槽道，内凹分布于定位结构的第二面上；一第一气孔开设于定位结构的...

一种曝光机的对准定位装置，包括：一机台、一工件承座、一光罩承座、一曝光头；该工件承座是设于该机台上，其是用以固定一工件，工件承座至少有一第一伸缩装置、一固定座、一活动座及一活动座固定装置；第一伸缩装置是介于机台与固定座间，固定座设一半球...

一种具有可分别三轴调整的双影像撷取装置的曝光机，包括曝光机台、曝光头、光罩组件、工作物载体、一对影像撷取装置；曝光机台至少有一工作空间；曝光头可移至工作空间的上方且可垂直向下发出预定的光线；光罩组件可移至工作空间中，用以承载一预定的光罩...