光罩清洁设备及光罩清洁方法技术

本发明专利技术的光罩清洁设备应用于一光罩盒，光罩盒包括一上盖及一底盘，底盘上供容置一光罩，光罩具有一光罩护膜，光罩清洁设备包括一主壳体、一次壳体、一光罩开盖装置、一运送装置及至少一风刀装置，次壳体是连接该主壳体。光罩开盖装置包括一升降元件及一开盖元件，开盖元件是包括一后背连接部及一罩盖部，而升降元件是用以升降该后背连接部。罩盖部是嵌入于次壳体内，罩盖部与后背连接部形成一光罩入口，且上盖是抵靠于罩盖部上。运送装置包括一滑轨及一光罩盒乘载台。光罩盒乘载台是经由滑轨移动到该光罩入口。其中，当升降元件上升开盖元件时，上盖、罩盖部、主壳体及该次壳体形成一密闭空间。闭空间。闭空间。

【技术实现步骤摘要】
光罩清洁设备及光罩清洁方法


[0001]本专利技术涉及一种光罩清洁设备及光罩清洁方法，特别涉及一种用来清除光罩护膜上的污染物的光罩清洁设备及光罩清洁方法。

技术介绍

[0002]在半导体工艺中，是包括一曝光工艺，其是先将一具有图案的光罩置于晶圆的上方，再利用一曝光光源通过光罩射于一晶圆上。之后，将该晶圆浸入一显影液中，就可以在晶圆上看到光罩的图案了。
[0003]该光罩上会有一层光罩护膜，该光罩护膜能避免光罩受到刮伤。此外，由于该光罩护膜会因静电而附着污染物(污染粒子)、化学物质等，所以需要对该光罩护膜进行清洁，才不会影响到半导体工艺的良率。然而，现有的光罩护膜的除尘效果与除尘效率仍有改良必要。并且，在取出该光罩的过程中，外部的污染粒子也容易附着于该光罩护膜上。
[0004]因此，如何改善上述的问题，便是本领域具有通常知识者值得去思量地。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一光罩清洁设备，该光罩清洁设备对于光罩护膜具有极佳的除尘效果，且在取出该光罩的过程中还能避免外部的污染粒子附着于该光罩护膜上。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光罩清洁设备，应用于一光罩盒，该光罩盒包括一上盖及一底盘，该底盘上供容置一光罩，该光罩具有一光罩护膜，其特征在于，该光罩清洁设备包括：一主壳体；一次壳体，连接该主壳体；一光罩开盖装置，设有：一升降元件；及一开盖元件，设有：一后背连接部，该升降元件用以升降该后背连接部；及一罩盖部，嵌入于该次壳体内，该罩盖部与该后背连接部形成一光罩入口，且该上盖抵靠于该罩盖部上；一运送装置，设有：一滑轨；及一光罩盒乘载台，经由该滑轨移动到该光罩入口，且该底盘设置于该光罩盒乘载台上；以及至少一风刀装置，用以产生一气流至该光罩护膜；其中，当升降元件上升该后背连接部与该罩盖部时，该上盖、该罩盖部、该主壳体及该次壳体形成一密闭空间。2.根据权利要求1所述的光罩清洁设备，其特征在于，该风刀装置包括：一方位调整元件；及一风刀喷嘴，连接该方位调整元件，该方位调整元件用以调整该风刀喷嘴的角度。3.根据权利要求2所述的光罩清洁设备，其特征在于，该方位调整元件包括一第一轴心，该风刀喷嘴包括一第二轴心，且该第一轴心垂直于该第二轴心。4.根据权利要求1或2所述的光罩清洁设备，其特征在于，该风刀装置的数量为多个，且这些风刀装置排列成ㄇ字型。5.根据权利要求1所述的光罩清洁设备，其特征在于，还包括一静电中和装置，该静电中和装置以多个α粒子制造出多个带电粒子，且这些带电粒子经由一干净气体传送至该光罩护膜。6.根据权利要求1所述的光罩清洁设备，其特征在于，该底盘包括一旋转开关，该光罩盒乘载台包括一旋转单元，该旋转单元对应于该旋转开关。7.根据权利要求5所述的光罩清洁设备，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：高哈尔，林宪维，
申请(专利权)人：科毅科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：