可发光辅助校准的定位装置制造方法及图纸

一种可发光辅助校准的定位装置，包括一机台；一工作承座设于机台上；一定位结构设于工作承座上；定位结构具有一第一及一第二面；至少一发光部；一真空吸引部设于定位结构上，其包括一吸引槽道，内凹分布于定位结构的第二面上；一第一气孔开设于定位结构的第二面上，且连通吸引槽道；一第二气孔开设于定位结构的第一面上；一通气道设于定位结构内部，且连通第一及第二气孔；一工作气体供应部，设于定位结构内部，其包括多个第三气孔，开设于定位结构的第二面上；一第四气孔开设于定位结构的第一面上，连通多个第三气孔。本实用新型专利技术具有辅助背光的标号设计定位较准确，使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真空吸引部使工件可轻易定位。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种晶圆制程的定位装置，尤其涉及一种可发光辅 助校准的定位装置。
技术介绍
传统应用于晶圆制程的定位装置(例如中国台湾申请案号第5210816 号专利)，是如附图说明图1及图2所示，其于一机台71上设置一反应室壁72， 于该反应室壁72内再设一工作承座73;该工作承座73上则设一定位结 构74;该定位结构74用以固定一晶圆75，该晶圆75上具有一晶圆定位 标记751。传统定位装置存在如下缺点1、 无辅助背光的标号设计定位较不准确。如图2所示，传统定位装 置可能以可程序控制机械手臂76移动该晶圆75至该定位结构74的预定 位置，其上再放置一光罩77，并通过一影像处理装置(图中未示)来判断 该光罩77上的光罩定位标记771与该晶圆75上的晶圆定位标记751是 否对齐， 一旦完全对齐时，才算是定位完毕，否则需要进行位置的微调。 由于该晶圆75下方并无光源来辅助照明，因此，影像处理装置于定位过 程中进行取像时，取得的影像较暗，处理时的失误机率较高，故，定位 较不准确。2、 工作气体供应部相当复杂。传统定位装置需于机台上设置反应室 壁，而工作承座则设于该反应室壁内，当需要于预定气体(例如氮气)中 进行作业以避免氧化时，工作承座/定位结构本体并无法放出预定气体， 必需由机台上的工作气体供应部放出预定气体，并使工作气体充满于反 应室壁内，才能进行作业，这样的设计，工作承座与反应室壁间必有预 定距离，欲使预定气体散布于工作承座旁，则需大量的预定气体(气体会 消散，相当浪费)，且机台上另设反应室壁及工作气体供应部则使装置复 杂化。因此，有必要研发新技术以解决上述缺点。
技术实现思路
本技术所要解决的主要技术问题在于，克服现有技术存在的上 述缺陷，而提供一种可发光辅助校准的定位装置，其具有辅助背光的标 号设计定位较准确，使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真 空吸引部使工件可轻易定位。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是一种可发光辅助校准的定位装置，其特征在于包括 一机台； 一工 作承座，设于该机台上； 一定位结构，设于该工作承座上；该定位结构 具有一第一面及一第二面；至少一发光部，设于该定位结构上，其可朝 该第二面的方向发光； 一真空吸引部，设于该定位结构上，其包括一 吸引槽道，内凹分布于该定位结构的第二面上； 一第一气孔，开设于该 定位结构的第二面上，且连通该吸引槽道； 一第二气孔，开设于该定位 结构的第一面上； 一通气道，设于该定位结构内部，且连通该第一气孔 及该第二气孔，借此，使该真空吸引部产生预定吸引力； 一工作气体供 应部，设于该定位结构内部，其包括多个第三气孔，开设于该定位结 构的第二面上，且大体围绕于该吸引槽道外周； 一第四气孔，开设于该 定位结构的第一面上，且连通该多个第三气孔，借此，使该工作气体供 应部可发出预定气体以围绕该吸引槽道。前述的可发光辅助校准的定位装置，其中真空吸引部又包括一真空 产生装置，该真空产生装置连通该第二气孔；所述工作气体供应部又包 括一气压源，该气压源连通该第四气孔。前述的可发光辅助校准的定位装置，其中定位结构的第二面用以设 置一第一工件，该第一工件至少具有一可辅助背光的第一标号，该第一 标号对准该发光部发出的光线而呈辅助背光状；所述真空产生装置产生 一吸力，并经该通气道、该第一气孔，而通过该吸引槽道吸引该第一工 件，使该第一工件附着于该定位结构的第二面；借此，使一第二工件可 于该第一工件上移动，该第二工件上对应该第一标号而具有至少一个可 辅助背光的第二标号，借该发光部的光线，使呈辅助背光状的第二、第 一标号易于对准，使第一、第二工件达到校准定位；所述气压源经该第5四气孔而朝该第三气孔输出预定气体；使被吸附于该吸引槽道上的第一、 第二工件于该预定气体中进行作业；所述预定气体为氮气。前述的可发光辅助校准的定位装置，其中定位结构由一第一结构及 一第二结构组成；所述发光部、所述真空吸引部与所述工作气体供应部 分别设置于该第一、第二结构上；所述工作气体供应部包括多个上气 道，对应该多个第三气孔而设于该定位结构内部；多个中气道，对应该 上气道而设于该定位结构内部；多个下气道，对应该中气道而设于该定 位结构内部；又，该第四气孔连通该多个下气道。前述的可发光辅助校准的定位装置，其中发光部设多个。 本技术的有益效果是，其具有辅助背光的标号设计定位较准确， 使定位结构与工作气体供应部合一结构简单，其真空吸引部使工件可轻 易定位。以下结合附图和实施例对本技术进一步说明。 图1是现有装置的示意图 图2是现有装置的部分结构放大示意图 图3是本技术的外观示意图 图4是本技术的部分结构一的外观示意图 图5是本技术的部分结构二的外观示意图 图6是本技术的真空吸引部与工作气体供应部于该定位结构内 部的分布示意图图7是本技术的发光部及真空吸引部的动作示意图 图8是本技术的工作气体供应部发出预定气体的示意图 图9是本技术的实施例的平面示意图 图中标号说明10、 71机台 20、 73工作承座30、 74定位结构 30A第一结构30B第二结构 31第一面 32第二面 40发光部50真空吸引部 51吸引槽道52第一气孔53第二气孔54通气道55真空产生装置60工作气体供应部61第三气孔62上气道63中气道64下气道65第四气孔66气压源67预定气体72反应室壁75晶圆751晶圆定位标记76机械手臂77光罩771光罩定位标记91第一工件911第一标号92第二工件921第二标号具体实施方式本技术是为一种可发光辅助校准的定位装置，参阅图3至图6, 其包括-一机台10;一工作承座20，设于该机台10上；一定位结构30，设于该工作承座20上；该定位结构30具有一第一 面31及一第二面32;至少一发光部40，设于该定位结构30上，其可朝该第二面32的方向发光；一真空吸引部50，设于该定位结构30上，其包括 一吸引槽道51，是内凹分布于该定位结构30的第二面32上； 一第一气孔52，开设于该定位结构30的第二面32上，且连通该吸 引槽道51;一第二气孔53，开设于该定位结构30的第一面31上； 一通气道54，设于该定位结构30内部，且连通该第一气孔52及该 第二气孔53;一工作气体供应部60，设于该定位结构30内部(与该通气道54不相 通)，其包括多个第三气孔61，开设于该定位结构30的第二面32上，且大体围绕于该吸引槽道51外周围；多个上气道62，对应该多个第三气孔61而设于该定位结构30内部;多个中气道63，对应该上气道62而设于该定位结构30内部；多个下气道64，对应该中气道63而设于该定位结构30内部；一第四气孔65，开设于该定位结构30的第一面31上，且连通该多 个下气道64。此为本技术的可发光辅助校准的定位装置。实际上，该定位结构30是由一第一结构30A及一第二结构30B组成 (如图7及图8所示)，其中，该发光部40、该真空吸引部50与该工作气 体供应部60分别设置于该第一、第二结构30A与30B上。该发光部40设多个。该真空吸引部50又包括一真空产生装置55(如图7所示)，该真空产 生装置55连通该第二气孔53。该工作气体供应本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可发光辅助校准的定位装置，其特征在于包括：　　　　一机台；　　　　一工作承座，设于该机台上；　　　　一定位结构，设于该工作承座上；该定位结构具有一第一面及一第二面；　　　　至少一发光部，设于该定位结构上，其可朝该第二面的方向发光；　　　　一真空吸引部，设于该定位结构上，其包括：　　　　一吸引槽道，内凹分布于该定位结构的第二面上；　　　　一第一气孔，开设于该定位结构的第二面上，且连通该吸引槽道；　　　　一第二气孔，开设于该定位结构的第一面上；　　　　一通气道，设于该定位结构内部，且连通该第一气孔及该第二气孔，借此，使该真空吸引部产生预定吸引力；　　　　一工作气体供应部，设于该定位结构内部，其包括：　　　　多个第三气孔，开设于该定位结构的第二面上，且围绕于该吸引槽道外周；　　　　一第四气孔，开设于该定位结构的第一面上，且连通该多个第三气孔。

【技术特征摘要】
1.一种可发光辅助校准的定位装置，其特征在于包括一机台；一工作承座，设于该机台上；一定位结构，设于该工作承座上；该定位结构具有一第一面及一第二面；至少一发光部，设于该定位结构上，其可朝该第二面的方向发光；一真空吸引部，设于该定位结构上，其包括一吸引槽道，内凹分布于该定位结构的第二面上；一第一气孔，开设于该定位结构的第二面上，且连通该吸引槽道；一第二气孔，开设于该定位结构的第一面上；一通气道，设于该定位结构内部，且连通该第一气孔及该第二气孔，借此，使该真空吸引部产生预定吸引力；一工作气体供应部，设于该定位结构内部，其包括多个第三气孔，开设于该定位结构的第二面上，且围绕于该吸引槽道外周；一第四气孔，开设于该定位结构的第一面上，且连通该多个第三气孔。2. 根据权利要求1所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于所述真空吸引部又包括一真空产生装置，该真空产生装置连通该第 二气孔；所述工作气体供应部又包括一气压源，该气压源连通该第四气孔。3. 根据权利要求2所述的可发光辅助校准的定位装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢柏弘，罗世虎，林宪维，
申请(专利权)人：科毅科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]