基板结构及薄膜图案层的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种基板结构，其包括一个基板及多个形成在该基板上的挡墙。该多个挡墙及基板间形成多个第一收容空间，第一收容空间用于收容一部喷墨装置喷入的墨水，两相邻的第一收容空间之间的挡墙进一步包括至少一个第二收容空间，第二收容空间用于收容过量填充而从所述第一收容空间溢出的墨水。藉此可避免两相邻第一收容空间内的墨水相混。本发明专利技术还涉及一种薄膜图案层的制造方法，其步骤如下：提供一种上述基板结构；通过一部喷墨装置将墨水填充在第一收容空间中；干燥固化第一收容空间中的墨水而形成薄膜图案层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种基板结构及一种薄膜图案层的制造方法。
技术介绍
目前制造薄膜图案层的方法主要包括光微影法及喷墨法。光微影法通过在预备涂敷所需薄膜的基板结构上，涂敷光阻材料，将具有预定图案的光罩设在光阻材料上，进行曝光及显影，或加上蚀刻制程，而形成具有预设图案的薄膜图案层。该光微影法需要抽真空装置等大型设备或复杂的制程，并且，材料的使用效率较低而造成制造成本高。喷墨法如图1所示，使用一部喷墨装置将由所需薄膜材料形成的墨水314喷射在一种基板结构300上的多个挡墙304形成的收容空间内，墨水314被干燥后在该基板结构上形成预定的薄膜图案层。该喷墨法能够一次形成薄膜图案层，使得制程大量简化，成本大幅降低。但是，喷墨法使用一般的挡墙结构，当墨水314填充过量而向四周溢出时，溢出墨水314会与相邻收容空间内的墨水相混合而使得干燥固化后所形成的薄膜图案层良率下降。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种可避免出现在制造薄膜图案层时发生墨水相混的情况的基板结构及一种薄膜图案层的制造方法。一种基板结构，包括一个基板及多个形成在该基板上的挡墙，该多个挡墙及基板间形成多个第一收容空间，该第一收容空间用于收容一喷墨装置喷入的墨水，其中，两相邻的第一收容空间之间的挡墙进一步包括至少一个第二收容空间，该第二收容空间用于收容过量填充而从所述第一收容空间溢出的墨水。一种薄膜图案层的制造方法，其步骤如下提供一种上述基板结构；通过一部喷墨装置将墨水填充在该多个第一收容空间中；干燥固化该多个第一收容空间中的墨水而形成薄膜图案层。相较于现有技术，所述的基板结构，其两相邻的第一收容空间之间的挡墙包括至少一个第二收容空间，该第二收容空间用于收容过量填充而从第一收容空间溢出的墨水，藉此可避免填充至两相邻第一收容空间的墨水出现相混的情况，从而可提高薄膜图案层的产品良率。所述的薄膜图案层的制造方法，利用所述基板结构制造薄膜图案层，因此，所制造的薄膜图案层产品良率高。附图说明图1为现有技术的一种带挡墙的基板结构的结构示意图。图2为本专利技术第一实施例提供的一种基板结构的平面示意图。图3为图2所示的基板结构的一种剖面示意图。图4为图2所示的基板结构的另一种剖面示意图。图5为本专利技术第二实施例提供的一种基板结构的平面示意图。图6至图20为本专利技术第三实施例提供的一种薄膜图案层的制造方法的流程图。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术实施例作进一步的详细说明。请一并参阅图2至图3，是本专利技术第一实施例提供一种基板结构100，其包括一个基板101及位于该基板101上的多个挡墙104。本实施例中，基板101选自玻璃。当然，基板101也可选自石英玻璃、硅晶圆、金属板或塑料板等。其中，多个挡墙104是通过光微影法形成于该基板101上(详后述)或该基板101与多个挡墙104是一体成型(详后述)。该多个挡墙104及基板101间形成多个第一收容空间106，该第一收容空间106用于收容一部喷墨装置喷入的墨水(详后述)。其中，两相邻的第一收容空间106之间的挡墙104进一步包括一个第二收容空间108，该第二收容空间108用于收容过量填充而从第一收容空间106溢出的墨水。本实施例中，第二收容空间108是一个方形槽，该方形槽的开口方向与第一收容空间106的开口方向相同，该方形槽的深度等于第一收容空间106的深度，如图3所示。另外，该方形槽的深度也可小于第一收容空间106的深度，如图4所示。第二收容空间108可为V形槽或U形槽等其它形式，或可于挡墙104内设置多个第二收容空间108，能起到收容溢出墨水的功效即可，而不必以具体实施例为限。该基板结构100用于制造薄膜图案层时，填充墨水至第一收容空间106内，然后进行固化干燥墨水后第一收容空间106内形成薄膜图案层。当填充墨水过量而溢出流向四周时，流出的墨水会流入第二收容空间108内而不至于流向相邻的第一收容空间106内。当填充至两相邻的第一收容空间之间的墨水是不同时，第二收容空间108的设置可避免两相邻第一收容空间106内的墨水相混，从而提高不同颜色薄膜层(如颜色滤光片的颜色层等)的产品良率或不同材料薄膜层(如有机发光二极管的发光层等)的产品良率。当填充至两相邻的第一收容空间之间的墨水是相同时，为增加相同薄膜图案层的均匀度会填充过量的墨水至第一收容空间106，此时溢出的墨水可流到第二收容空间108内。或在制造该导电薄膜图案层时，溢出的墨水可流到第二收容空间108内，并间隔两相邻的导电薄膜图案层，从而可防止两相邻的导电薄膜图案层间发生短路。请参阅图5，本专利技术第二实施例提供的一种基板结构100’。第二收容空间108’是仅设置在横向排列的两相邻第一收容空间106’间的挡墙104’内。本实施例提供的基板结构100’，其纵向排列的第一收容空间106’是用于填充相同的墨水，横向排列的第一收容空间106’是用于填充不同的墨水。请一并参阅图6到图20，是本专利技术第三实施例提供一种薄膜图案层的制造方法的流程图，其步骤如下步骤一提供一种基板结构，该基板结构选自本专利技术第一实施例提供的基板结构100。该具有多个挡墙104的基板结构100的制造方法(一)具体包括以下步骤利用干膜法(Dry Film Lamination)、湿式旋转法(Wet Spin Coating)或湿式裂缝式涂敷法(Wet Slit Coating)在该基板101上表面涂敷负型光阻材料层202，如图6所示；利用光罩式曝光机，将具有预定第一收容空间及第二收容空间的挡墙图案的第一光罩200设置在该第一负型光阻材料层202与一部曝光机(图未示)光源间，并曝光该第一负型光阻材料层202，如图7所示；利用显影方式，将未曝光处的第一负型光阻材料层去除，形成设在基板结构100上表面的多个挡墙104，如图3所示。该方法(一)是利用第一负型光阻材料202在基板101表面形成的多个挡墙104。可以理解，上述方法(一)亦可使用正型光阻材料，其相应的光罩设计及制程中曝光处材料是留下或去除具有差异外，并不影响本专利技术的实施。该具有多个挡墙104的基板结构100的制造方法(二)具体包括以下步骤在该基板101上表面以蒸镀或溅镀形成一层薄膜层204；在该薄膜层204的表面上涂敷一层第一负型光阻材料层202，如图8所示；将具有预定第一收容空间的挡墙图案的第二光罩206设置在该第一负型光阻材料层202与一个曝光机光源间，曝光该第一负型光阻材料层202，如图9所示；依序利用显影及蚀刻方式将未曝光处的第一负型光阻材料层202及第一收容空间图案的该薄膜层204去除，如图10所示；完全去除剩下的该第一负型光阻材料层202；在该薄膜层204上表面涂敷一层第二负型光阻材料层208，如图11所示；将具有预定第二收容空间的挡墙图案的第三光罩210设置在该第二负型光阻材料层208与一个曝光机光源间，曝光该第二负型光阻材料层208，如图12所示；利用显影方式将未曝光处的第二负型光阻材料层208去除，形成设立在基板101上表面的多个挡墙104，如图4所示。另外，方法(二)可改进为在该基板101上表面涂敷一层第一负型光阻材料层202；将具有预定第一收容空间的挡墙图案的第二光罩206设置在该第一负型光阻材料层202与曝光机光源间，曝光该第一负型光阻材料层2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板结构，包括：一个基板；及多个形成在该基板上的挡墙，该多个挡墙及基板间形成多个第一收容空间，该第一收容空间用于收容一部喷墨装置喷入的墨水；其特征在于：两相邻的第一收容空间之间的挡墙进一步包括至少一个第二收容空间 ，该第二收容空间用于收容过量填充而从所述第一收容空间溢出的墨水。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：周景瑜，
申请(专利权)人：虹创科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]