【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种用于原位形成毫微粒（５２０）的方法，包括：将来自打印头的第一毫微粒反应物（１６０，３００，３０４，３０８）沉积到期望的衬底（１７０）上；并且将来自所述打印头的第二毫微粒反应物（１６０，３００，３０４，３０８）基本上沉积到所述第一反应物（１６０，３００，３０４，３０８）上；其中所述第一毫微粒反应物（１６０，３００，３０４，３０８）被配置为与所述第二毫微粒反应物（１６０，３００，３０４，３０８）反应以形成毫微粒（５２０）。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：JJ卡特格纳德赫苏斯，
申请(专利权)人：惠普开发有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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