光学元件及其生产方法和生产薄膜的方法技术

一种在基材上具有抗反射膜的光学元件，其中抗反射膜的层包含作为主要组分的通过汽相淀积而沉积的二氧化硅；所述层进一步外设有含氟防水层；且所述光学元件具有以下特性（１）和（２）：（１）如果提供防水层，对水的起始静止接触角（摩擦之前的静止接触角）是１０４°或更多，和（２）如果将麂皮在水中在２５℃下浸渍５分钟，并随后在施加负荷５００ｇ的同时用麂皮将防水层的表面摩擦１０，０００次，对水的静止接触角（摩擦之后的静止接触角）比摩擦之前的静止接触角小０－１０°。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
专利说明 本专利技术涉及一种具有优异耐久性的防水薄膜的光学元件和生产光学元件的方法。在光学元件如镜片上提供的抗反射膜一般由无机氧化物如ZrO2和SiO2形成。为此，出汗或指印造成的污染往往附着其上，且难以去除这些污染。为了解决这种问题，熟知在抗反射膜上提供防水膜。近年来，已经要求这种防水膜的防水性能保持尽可能更长的时间。作为得到该性能的一种方法，JP-A-5-215905公开了一种方法，其中将有机硅化合物在真空中进行热汽相淀积以在抗反射膜上形成防水膜。但如果采用公开于JP-A-5-215905的方法，按照其中所述，静止水接触角在耐久性增强处理前后的差异是10°-13°。因此，需要进一步提高该性能。本专利技术的一个目的是提供一种具有改进的长期性能特性的光学元件和生产光学元件的方法。为了解决上述问题，本专利技术人进行深入细致的研究。结果，已经发现该目的可通过以下方式而实现，从而完成本专利技术。具体地，已经发现本专利技术的目的通过一种包括基材和在基材上的抗反射膜的光学元件而实现，其中抗反射膜层是相对基材的最外层，该层包含作为主要组分的通过汽相淀积而沉积的二氧化硅，并在抗反射膜的最外层上进一步本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学元件，包括基材和在基材上的抗反射膜，其中抗反射膜层是相对基材的最外层，该层包含作为主要组分的通过汽相淀积而沉积的二氧化硅；且其中在抗反射膜的最外层上进一步外设含氟防水层；且其中光学元件具有以下特性（１）和（２）： （１）防水层对水的起始静止接触角（摩擦之前的静止接触角）是１０４°或更大，和 （２）如果将麂皮在水中在２５℃下浸渍５分钟，并随后在施加负荷５００ｇ的同时用麂皮将防水层的表面摩擦１０，０００次，对水的静止接触角（摩擦之后的静止接触角）比摩擦之前的静止接触角小０－１０°。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高桥幸弘，松本雅一，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]