无接点晶圆级老化制造技术

技术编号:2630256 阅读:203 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种用于执行晶圆级老化的方法和设备。所述方法包含以下步骤:将晶圆(310)提供到老化腔室中;和经由无线信号将功率和测试起始信号输出到晶圆(310)。所述设备包括测试腔室、位于所述测试腔室中的传送机构、位于所述测试腔室中的温度控制设备和位于腔室(410)中的RF转发器。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术针对用于确保半导体装置中的可靠性,且尤其用于提供晶圆级老化的设备和 方法。
技术介绍
半导体晶圆通常包含多个实质上隔离的含有电路的"晶粒"或"芯片",其通过划 片线区域而彼此分离。在正常的集成电路生产流程中,将已完成制造的集成晶圆切割成 许多个别晶粒。包含在晶圆内的个别晶粒通过锯切而分离,且个别地封装或以多芯片模 块的形式封装。接着将这些晶粒安装到个别插槽中,接着可对所述个别插槽进行老化, 且使用标准测试设备和夹具对所述个别插槽进行测试。对越来越小的消费型装置(例如,无线电话和PDA)的需求已导致更小的半导体装 置封装,且甚至导致在一些装置中使用裸(未经封装的)晶粒。特定半导体晶圆上并非所有晶粒均完全起作用; 一些晶粒具有制造缺陷。某些缺陷 不会在制造后立即展现出来。举例来说,两个导体之间的绝缘氧化物层可能在特定区域 中过分薄。电压和温度应力将导致过分薄的绝缘氧化物的所述特定区域破裂,从而导致 两个导体之间的短路,其可在电测试期间被检测出来。如果制造商能够利用已知良好晶粒(known good die, KGD),那么可大大减少更换 存在故障的封装零件的成本。KGD通常是指由IC制造商提供的晶粒级产品。裸晶粒的 常见用途是在多芯片模块(MCM)的生产中。通过使用KGD来辅助以低故障率生产 MCM。由于MCM上的晶粒的数目和修复MCM的难度的缘故,KGD对MCM的制造 是有利的。MCM的故障率随着MCM上的晶粒的数目而增加。在组装在MCM中之前, 晶粒的完全老化和测试可能对MCM的良率和可靠性具有重要影响。用于实现KGD的方法根据装置类型且根据晶粒制造商的不同而不同,但可包括晶 圆级电测试(其包括内建在测试结构中的技术)和晶粒级测试(其使用临时、半永久和 永久封装技术)。在制造工艺结束时,制造商可对产品执行许多不同的性能测试。对装置执行老化和 其它制造测试的标准方法要求对晶粒进行封装且使用自动测试设备(ATE)来测试。为 了进行老化测试,接着将良好装置放置到安装在定制设计的老化板上的插槽中。这些老化插槽是特定为高温应用而设计的。接着将装载的板安装到大腔室中,所述大腔室控制 环境温度并提供用于将刺激励介接到封装的构件。此时,使用测试向量来激励装置,且如鉴定规范中所规定,测试例行程序运行许多 个小时。实现KGD的方法的一个实例是晶圆级老化。晶'圆级老化测试涉及在从晶圆分割集 成电路之前,测试含有所述集成电路的整个晶圆或整个晶圆的若干部分。 一般来说,为 了执行晶圆测试,晶圆制造有测试点,且将测试设备形成为接触所述测试点,从而允许 .测试信号从信号源传播通过测试设备且到达集成电路上。测试点可形成到集成电路本身 上,或相对于集成电路而设置在较远处,以使测试设备对集成电路的损害最小化。在老 化之后,卸载所述零件,并使用ATE重新测试所述零件。为了实现此类测试中的高处理 量,使用定制探针板(probe card)同时接触较大数目的晶粒。通常,功能总故障出现在 应力测试的最初48个小时内,其中较高环境温度为125'C,且电压电平比额定操作值高 10%。当分析了故障数据,且调节了制造参数,l工艺变得更成熟时,可减小缺陷等级。现有技术晶圆级老化的缺点涉及老化期间测试设备与晶圆的热膨胀系数之间的失 配,以及老化期间有缺陷的测试设备的不良影响。举例来说,通常难以判定被标识为有 缺陷的集成电路是集成电路中的缺陷导致的结果还是有缺陷的测试设备中的缺陷导致 的结果,从而导致具有可操作的集成电路的整个晶圆被不恰当地丢弃。另外,有缺陷的 测试设备可能导致使整个晶圆变得有缺陷的灾难性故障。或许,晶圆级老化或实际上任何测试中的最重要的障碍是提供用于在个别晶粒级介 接测试电子设备与1/0垫和电源层的接触方法。在晶圆级将测试电子设备介接到处于测 试中的装置的问题面临强大的挑战,所述挑战尤其与测试能力、功率耗散、电压干线容 许值、物理限制(小工作区中待测试的大量晶粒)、节约成本的工程设计、可维持的质 量和与ATE结果的相关性有关。 '针对介接晶圆的问题的每一种方法均必须提供必要的插脚/垫分配以执行足够的测 试例行程序,以便使裸晶粒的KGD符合要求。存在三种截然不同的实现此要求的方法。 一种方法是接触每一晶粒上的所有相关垫。第二种方法涉及使用经修改的探针硬件。第 三种方法是将接口连接的数目限制为易处理的大小,且将接口设计重新引导到直接施加 在晶圆上的钝化层上方的牺牲金属层上。在当前方法中,必须在实施测试时和判定测试 的结果时两者期间均维持与垫的接触。在此类测试期间,还必须为每一类型的产品制造探针板。探针板制造起来非常昂贵。 在一些情况下,每晶圆可能存在(例如)130个插脚和500个晶粒需要测试。这可能导致建立一个探针板需要相当大的资金和时间资源。当晶粒由于不同的密度或产品配置的 缘故而变化时,此类资源又被消耗。对前述问题的解决方案将为制造商提供相当大的成本节约。
技术实现思路
粗略地来说,本专利技术涉及一种用于改进装置测试的方法和设备。在一个方面,本发 明包含一种用于执行晶圆级内建测试的方法。所述方法包含以下步骤将晶圆提供到测 试腔室中;和经由无线信号将功率和测试起始信号输出到晶圆。在一个方面,所述输出 步骤包括输出用于起始晶圆上的装置应力测试序列的信号,且在另一方面,所述输出步 骤可包含在腔室中产生RF信号。在又一方面,本专利技术是一种用于提供晶圆级内建测试工艺的方法。所述方法可包含 以下步骤在晶圆上提供内建测试电路;和在晶圆上提供耦合到所述内建测试电路的 RF接口。在另一方面,所述在晶圆上提供内建测试电路的步骤包括提供功率提取组件 和解调器。在另一方面,本专利技术包含一种半导体晶圆。在此方面,晶圆包括至少一个内建应 力控制电路,其耦合到晶圆上的装置;和RF接口,其经耦合以将功率和数据信号提供 到BIST电路。晶圆可包括多个装置,且针对晶圆上的每一装置提供一内建应力控制电 路。在又一方面,本专利技术是一种包括多个晶粒的半导体晶圆,每一晶粒均通过划片线而 分离。本专利技术包括提供在晶圆上的至少一个RF接口电路;耦合到所述至少一个RF接 口电路的至少一个划片线RF天线;和耦合到RF接口的至少一个老化电压控制电路。在另一方面,本专利技术是一种提供在半导体晶圆晶粒上的内建老化自测试电路。所述电路包括装置接口,其输出电压控制以在装置的选定组件中引发应力;和RF接口, 其包括功率整流器和信号解调器。在又一方面,本专利技术是一种用于装置的老化自测试的设备。所述设备包括测试腔室、 位于所述测试腔室中的传送机构、位于测试腔室中的温度控制设备和位于腔室中的RF 转发器。所述设备可进一步包括测试控制器,所述测试控制器至少耦合到所述温度控制 设备和所述RF转发器。在另一方面,本专利技术是一种用于制造半导体装置的方法。所述方法包括以下步骤 在半导体晶圆上制造多个装置;通过经由RF信号将功率和控制信号耦合到晶圆来执行 所述装置中的每一者的老化自测试;测试所述装置;和使所述装置与所述晶圆分离。在另一方面,提供一种非易失性存储器系统。所述系统包括存储元件阵列与控制 电路;耦合到所述控制电路的BIST电路;和耦合到所述BIST电路的RF接口。可使用硬件、软件或硬件与软件两者的组合来实现本本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种用于执行晶圆级测试序列的方法,其包含:    将所述晶圆提供到测试腔室中;和    经由无线信号将功率和测试起始信号输出到晶圆。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈健
申请(专利权)人:桑迪士克股份有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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