具有溅射电极的电容薄膜压力传感器制造技术

本实用新型专利技术涉及到一种具有溅射电极的电容薄膜压力传感器，属于真空测量技术领域。它由两个弹性金属片Ａ、Ａ′构成参考真空室，固定电极Ｂ和Ｂ′是采用磁控溅射方法分别在陶瓷基片Ｆ，Ｆ′上沉积的金属薄膜，陶瓷基片Ｆ，Ｆ′同时构成绝缘外壳。其优点是：１．被测压强由大到小（由大气向真空）变化时，电容Ｃ↓［ＡＢ］和Ｃ″↓［ＡＢ］由小变大，因而灵敏度（ΔＣ↓［ｘ］／ΔＰ）不断提高，与测量要求相适应；２．成品率高，测量范围可达五个数量级，３．可单边也可双边使用，Ｃ↓［ＡＢ］和Ｃ″↓［ＡＢ］并联使用时，灵敏度可提高一倍，它可广泛用于真空度测量。（*该技术在2002年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于真空测量
，可广泛用于气象、航天部门的高空气压与太空模拟室气压的测量以及真空冶炼、薄膜制备、微细加工、电真空工艺等部门的真空度测量。电容薄膜压力传感器(又称电容薄膜规)有单边单电极，单边双电极和双边双电极等结构形式，它们的共同特点都是由弹性金属膜片和金属电极构成电容的两个电极，通过电容量的变化反映被测压强的大小。例如上海市通用机械技术研究所研制的电容式薄膜规就是较好的一种，它由弹性金属膜片A、金属固定电极B、外壳D和绝缘件E构成，如附图1所示，参考真空室抽成高真空Pr≈0，Px为被测压强。当被测压强Px由大到小(由大气向真空)变化时，电容Cx(CAB)值也由大到小变化(“电容式薄膜真空计精度分析”作者刘家澍、朱耕建、陈宗宝，1983年1月载于<<真空科学与技术>>第20至22页)。这种结构的电容薄膜压力传感器的不足之处是1.由于电容(CAB)间距是随被测压强Px的减小而变大的，电容量由大变小，故压强灵敏度△C／△P逐渐减小，而在实际测量时，则需要越是小压强测量越希望灵敏度高，显然这与测量要求不相适应；2.测本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有溅射电极的电容薄膜压力传感器，由弹性金属膜片、陶瓷基片上的薄膜固定电极组成，陶瓷基片同时构成绝缘外壳，参考真空室抽成高真空，其特征是两个弹性金属膜片Ａ和Ａ’构成参考真空室，所说的薄膜固定电极是采用磁控溅射方法分别在陶瓷基片Ｆ，Ｆ’上沉积的金属薄膜Ｂ，Ｂ’，被测压强由大到小（由大气向真空）变化时，电容Ｃ↓〔ＡＢ〕和Ｃ↓〔Ａ’Ｂ’〕均由小变大。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴家庆，
申请(专利权)人：清华大学，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]