【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术主要涉及在半导体制造设备和化学设备等上使用的压力传感器、压力控制装置及压力式流量控制装置。更详细地说,涉及因温度的漂移使计测流体压力的压力传感器的输出漂移的场合,通过自动地消除该温度漂移,可正确地检测流体压力且可控制流体压力和流量的压力传感器、压力控制装置及压力式流量控制装置的温度漂移修正装置。
技术介绍
在半导体制造设备和化学设备等上,大多按规定的流量供给作为原料的数种气体,使原料气体在反应炉中发生化学反应而生成目标气体。在这种情况下,如果原料气体的供给流量不正确,则会产生化学反应很不充分,产生在目标气体中残留原料气体的情况。尤其在该原料气体为易燃性气体的场合,有产生爆炸的危险性。因此,为了使原料气体充分地进行化学反应,必须正确地控制所供给的气体的流量。以往,为了正确地控制气体流量,在配管内配置节流装置,选择可以用尽量高的精度表示通过该节流装置的气体流量的理论流量式,用该流量式计算出通过节流装置的流量。最初使用的流量式把流体当作非压缩性流体来对待,用流量Qc=KP21/2(P1-P2)1/2表示。在此,P1表示节流装置上游侧的压力,P2表示节流装置 ...
【技术保护点】
一种压力传感器的温度漂移修正装置,是在测定流体压力的压力传感器上的使用的温度漂移修正装置,其特征在于,由测定流体温度的温度传感器,存储流体温度与压力传感器输出漂移的关系的存储机构,以及温度漂移修正机构构成,其中,温度漂移修正机构是在流体温度发生变化的情况下,根据存储机构的数据运算压力传感器的输出漂移量,根据该运算输出漂移量的消除压力传感器的输出漂移,从而修正温度漂移;即使流体温度变动,也可正确地测定流体压力。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:大见忠弘,宇野富雄,中村修,池田信一,土肥亮介,西野功二,松本笃咨,杉山一彦,
申请(专利权)人:株式会社富士金,东京毅力科创株式会社,大见忠弘,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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