一种均匀纳米压印设备制造技术

本实用新型专利技术提出一种均匀纳米压印设备，包括：外壳；基台，位于外壳内；吸盘，位于基台上方与基台平行设置，涂有压印胶的基片放置在吸盘上；真空发生装置A，与吸盘连接；加热装置，位于吸盘下方；吸板，位于吸盘上方，吸板中心设置有透光孔，与透光孔连接有透明的平板；真空发生装置B，与吸板连接；光栅尺位移传感器，与吸板连接，光栅尺位移传感器至少设置有两个；紫外曝光装置，位于外壳顶部并朝向吸板，紫外曝光装置竖向移动至吸板上方并透过平板对模板与基片之间的压印胶进行固化；控制器。本实用新型专利技术能够保证压印的均匀性和连续性，不会产生气泡，并且能够在运输过程中实时纠正偏移和传输张力，压力分布均匀，适应性好。

A uniform nano imprinting device

【技术实现步骤摘要】
一种均匀纳米压印设备
本技术属于纳米压印
，尤其涉及一种均匀纳米压印设备。
技术介绍
随着半导体、光学组件的发展，市场对低成本、高产量的微纳加工技术需求量持续加大。纳米压印技术是通过机械转移的手段以达到超高的分辨率，其有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。CN101943859A公开了一种卷型纳米压印装置，利用此装置的传输装置将待压印材料进行胶液涂覆，然后，对胶液进行预固化，卷压，强固化，进而得到微纳图形。但是这种涂覆方式并不能保证涂胶的均匀性和连续性，容易产生气泡，并且采用卷压的方式进行纳米压印，难以控制材料在运输过程中的偏移纠正和传输张力，压力分布不均，适应性差。
技术实现思路
本技术针对上述的技术问题，提出一种均匀纳米压印设备，此设备能够保证压印的均匀性和连续性，不会产生气泡，并且能够在运输过程中实时纠正偏移和传输张力，压力分布均匀，适应性好。为了达到上述目的，本技术采用的技术方案为：一种均匀纳米压印设备，包括：外壳；基台，位于所述外壳内；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种均匀纳米压印设备，其特征在于，包括：/n外壳；/n基台，位于所述外壳内；/n吸盘，位于所述基台上方与所述基台平行设置，涂有压印胶的基片放置在所述吸盘上；/n真空发生装置A，与所述吸盘连接，用于将基片吸附在所述吸盘上；/n加热装置，位于所述吸盘下方用于对所述基台加热；/n吸板，位于所述吸盘上方，所述吸板中心设置有透光孔，与所述透光孔连接有透明的平板；/n真空发生装置B，与所述吸板连接，用于将模板吸附在与所述基片相对应的吸板底面上；/n光栅尺位移传感器，与所述吸板连接，用于调整所述吸板与所述基台之间的平行度并带动所述吸板做上下往复移动，所述光栅尺位移传感器至少设置有两个；/n紫外曝光装置，...

【技术特征摘要】
1.一种均匀纳米压印设备，其特征在于，包括：
外壳；
基台，位于所述外壳内；
吸盘，位于所述基台上方与所述基台平行设置，涂有压印胶的基片放置在所述吸盘上；
真空发生装置A，与所述吸盘连接，用于将基片吸附在所述吸盘上；
加热装置，位于所述吸盘下方用于对所述基台加热；
吸板，位于所述吸盘上方，所述吸板中心设置有透光孔，与所述透光孔连接有透明的平板；
真空发生装置B，与所述吸板连接，用于将模板吸附在与所述基片相对应的吸板底面上；
光栅尺位移传感器，与所述吸板连接，用于调整所述吸板与所述基台之间的平行度并带动所述吸板做上下往复移动，所述光栅尺位移传感器至少设置有两个；
紫外曝光装置，位于所述外壳顶部并朝向所述吸板，所述紫外曝光装置竖向移动至所述吸板上方并透过所述平板对模板与基片之间的压印胶进行固化；
控制器，与所述真空发生装置A、所述加热装置、所述真空发生装置B、所述光栅尺位移传感器以及所述紫外曝光装置电性连接。


2.根据权利要求1所述的均匀纳米压印设备，其特征在于：所述基台上设置有多个定位孔，以及与所述定位孔连接用于定位基片的定位板。


3.根据权利要求2所述的均匀纳米压印设备，其特征在于：所述定位孔位于所述基台中心的两侧，所述定位板包括第一定位部以及...

【专利技术属性】
技术研发人员：冀然，
申请(专利权)人：苏州天仁微纳智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32