【技术实现步骤摘要】
一种TOPCon电池双面镀膜设备
本专利技术涉及用于太阳能电池表面的钝化膜镀膜设备。
技术介绍
TOPCon(TunnelOxidePassivatedContact，隧穿氧化钝化接触)作为一种新型钝化技术已经成为研究热点，该技术是在电池表面生成一层超薄的可隧穿的氧化层和一层高掺杂的多晶硅层，氧化层的钝化作用和高掺杂多晶硅层的场钝化作用可以极大地降低少子复合速率，同时高掺杂的多晶硅层对于多子来说具有良好的传导性，因而TOPCon电池具有高的开路电压和填充因子。现有技术中的一种双面TOPCon电池表面钝化方法，通常按照以下步骤来执行：首先，对硅片进行清洗制绒、硼扩散、刻蚀、湿氧化(或下一步进行热氧化)等工艺处理；然后，利用LPCVD设备对硅片进行热氧化(或上一步进行湿氧化)、利用LPCVD设备进行本征硅生长，再通过热扩散掺杂工艺或者离子注入掺杂工艺或直接利用LPCVD设备进行原位掺杂工艺；然后利用湿法工艺去除绕扩绕镀层；然后，有两种方式，方式1利用ALD设备对非掺杂面进行氧化铝薄膜生长后再利用PECVD设备分别...
【技术保护点】
1.一种TOPCon电池双面镀膜设备，包括用于镀膜操作的真空炉腔，所述真空炉腔上设有炉口，炉口能够通过炉门封闭，其特征是，包括能够用于装载硅片的硅片载具、电极组结构、载板升降组件、载板升降模组，以及用于对所述电极组结构进行移动的电极组平移机构，所述硅片载具能够装载到炉门上，所述炉门能够在所述载板升降模组的驱动下移动从而封闭或者打开炉口；所述电极组结构能够在所述电极组平移机构的驱动下在所述真空炉腔内移动从而与所述硅片载具结合或者分离，所述硅片载具能够在所述载板升降组件的驱动下在所述真空炉腔内上下移动，从而改变硅片载具上所装载的硅片与所述电极组结构之间的相对位置，以实现正反面双面镀膜。/n
【技术特征摘要】
1.一种TOPCon电池双面镀膜设备，包括用于镀膜操作的真空炉腔，所述真空炉腔上设有炉口，炉口能够通过炉门封闭，其特征是，包括能够用于装载硅片的硅片载具、电极组结构、载板升降组件、载板升降模组，以及用于对所述电极组结构进行移动的电极组平移机构，所述硅片载具能够装载到炉门上，所述炉门能够在所述载板升降模组的驱动下移动从而封闭或者打开炉口；所述电极组结构能够在所述电极组平移机构的驱动下在所述真空炉腔内移动从而与所述硅片载具结合或者分离，所述硅片载具能够在所述载板升降组件的驱动下在所述真空炉腔内上下移动，从而改变硅片载具上所装载的硅片与所述电极组结构之间的相对位置，以实现正反面双面镀膜。
2.根据权利要求1所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备，其特征是，所述硅片载具包括框架，所述框架内可为一个镂空区域，也可以设有隔离支架，所述隔离支架将框架内的镂空部位隔离成至少两个镂空区域，所述镂空区域设有卡点，所述卡点位于所述镂空部位的内侧壁上，且设置在内侧壁上靠近下表面的位置。
3.根据权利要求2所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备，其特征是，所述框架的一侧设有安装部位，所述安装部位用于将框架安装固定；所述安装部位上设有至少一个安装孔，所述安装孔最好沿所述框架的中心线对称；所述硅片载具还包括安装杆，所述安装杆与所述安装孔一一对应，所述框架通过安装孔套装在安装杆上。
4.根据权利要求1所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备，其特征是，所述炉门连接在载板升降组件上；所述载板升降组件包括第一载板升降驱动件，所述第一载板升降驱动件通过驱动件支架固定连接在炉门上表面；所述载板升降组件包括载板升降驱动杆，所述炉门上设有能够允许载板升降驱动杆穿过的开孔，所述载板升降驱动杆能够穿过所述炉门连接所述硅片载具。
5.根据权利要求4所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备，其特征是，所述开孔的外侧设有腔体焊接法兰，所述载板升降驱动件的输出端通过一浮动接头连接一动密封法兰，所述腔体焊接法兰和所述动密封法兰之间通过焊接波纹管密封连接；所述驱动件支架内设有直线导轨，所述动密封法兰的一侧与所述直线导轨配合并能够沿所述直线导轨移动。
6.根据权利要求1所述的一种TOPCon电池双面镀膜设备，其特征是，所述载板升降模组包括升降滑动杆，所述升降滑动杆上设有升降滑轨，所述升降滑轨上设有升降滑块，所述升...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘群，林佳继，庞爱锁，林依婷，
申请(专利权)人：深圳市拉普拉斯能源技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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