一种测量系统辅助治具技术方案

本实用新型专利技术公开了一种测量系统辅助治具，包括：量测部件、用于竖直支承放置被测物的辅助治具、用于调节所述辅助治具的测量选定位置的调节装置以及用于提供所述被测物的基准面中心与所述量测部件的光轴之间的相对位置信息的测试装置，所述量测部件可拆卸地设置于所述被测物的基准面上，所述辅助治具与所述调节装置相连接，所述测试装置设置于所述辅助治具的上方。相比于传统技术，本实用新型专利技术能够实时获取被测物的基准面测量平坦情况并根据实际情况来对应调节辅助治具的位置，可为被测物提供更佳的测量位置，从而减少测量误差，使被测物的加工及改善工序更加优化。

A measuring system auxiliary jig

【技术实现步骤摘要】
一种测量系统辅助治具
本技术涉及光学测量领域，尤其是一种测量系统辅助治具。
技术介绍
光学镜头朝着高解析、高清晰方向发展，市场对镜头的解析能力要求越来越高，同时对零部件的精度要求也越来越高；在行业内，零部件的精度是否达到要求，是要通过专门测量来体现的，即使零部件的加工精度达到要求，若测量数据不准确，也会很大程度的影响到零部件的加工精度和改善方向。目前，该研究方向上的常见测量系统有很多，存在着待测物品与测量设备间的对准匹配不佳的技术问题，容易产生较大的测量误差，不利于零部件的加工及改善。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术的目的是提供一种测量系统辅助治具，能够实时获取被测物的测量匹配对准情况并根据实际情况来对应调节辅助治具的位置，可为被测物提供更佳的测量位置，从而减少测量误差，使被测物的加工及改善工序更加优化。为了弥补现有技术的不足，本技术实施例采用的技术方案是：一种测量系统辅助治具，包括：量测部件、用于竖直支承放置被测物的辅助治具、用于调节所述辅助治具的测量选定位置的调节装置以及用于提供所述被测物的基准面中心与所述量测部件的光轴之间的相对位置信息的测试装置，所述量测部件可拆卸地设置于所述被测物的基准面上，所述辅助治具与所述调节装置相连接，所述测试装置设置于所述辅助治具的上方。进一步地，所述测试装置包括光测探头和计算机，所述光测探头设置于所述量测部件的正上方，所述光测探头与所述计算机相连接。进一步地，本技术方案还包括放置平台和支撑座，所述辅助治具设置于所述放置平台上，所述放置平台设置于所述支撑座上。进一步地，所述调节装置包括用于配合实现所述辅助治具的不同状态调节的微调整装置和粗调整装置，所述微调整装置包括用于在第一方向上调节所述辅助治具位置的第一调节旋钮以及用于在第二方向上调节所述辅助治具位置的第二调节旋钮，所述粗调整装置包括用于在第一方向上调节所述辅助治具位置的第三调节旋钮以及用于在第二方向上调节所述辅助治具位置的第四调节旋钮，所述第一调节旋钮和第二调节旋钮均嵌入设置于所述放置平台上，第三调节旋钮和第四调节旋钮均嵌入设置于所述支撑座上；其中，所述第一方向和所述第二方向为所述辅助治具所在平面内所述辅助治具的两相互垂直的轴向。进一步地，所述放置平台设置为两层矩形机构，所述两层矩形机构内开有用于稳固安装所述第一调节旋钮和第二调节旋钮的活动间隙。进一步地，所述量测部件为平面玻璃。本技术实施例中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下有益效果：通过测试装置可实时获取被测物与量测部件之间的匹配程度，进而在匹配程度未达到要求的时候，可以控制调节装置来对应调节辅助治具的位置，从而实现被测物的位置调整，以此类推，最终可以找到被测物与量测部件之间的完美匹配位置，从而实现测量，相对来说，误差较小，得到的被测物测试数据更准确，使被测物的加工及改善工序可对应优化。因此，本技术能够实时获取被测物的测量匹配对准情况并根据实际情况来对应调节辅助治具的位置，可为被测物提供更佳的测量位置，从而减少测量误差，使被测物的加工及改善工序更加优化。附图说明下面结合附图给出本技术较佳实施例，以详细说明本技术的实施方案。图1是本技术实施例的结构示意图；图2是本技术实施例的被测物的基准面中心与量测部件的光轴之间的相对位置测量效果显示图；其中，(a)是被测物的基准面中心与量测部件的光轴未重合的情况，(b)是被测物的基准面中心与量测部件的光轴重合的情况。具体实施方式本部分将详细描述本技术的具体实施例，本技术之较佳实施例在附图中示出，附图的作用在于用图形补充说明书文字部分的描述，使人能够直观地、形象地理解本技术的每个技术特征和整体技术方案，但其不能理解为对本技术保护范围的限制。在本技术的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、后、左、右等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，如果有描述到第一、第二等只是用于区分技术特征为目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量或者隐含指明所指示的技术特征的先后关系。本技术的描述中，除非另有明确的限定，设置、安装、连接等词语应做广义理解，所属
技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本技术中的具体含义。下面结合附图，对本技术实施例作进一步阐述。参照图1，本技术实施例提供了一种测量系统辅助治具，包括：量测部件100、用于竖直支承放置被测物110的辅助治具120、用于调节辅助治具120的测量选定位置的调节装置130以及用于提供被测物110的基准面中心与量测部件100的光轴之间的相对位置信息的测试装置140，量测部件100可拆卸地设置于被测物110的基准面上，辅助治具120与调节装置130相连接，测试装置140设置于辅助治具120的上方，其中,量测部件100为平面玻璃。在本实施例中，平面玻璃具有良好的透光及反射性，便于匹配测量，效果较好，但并不限定，也可用具有类似功能的光学反射元件进行代替；“可拆卸”的限定，表明量测部件100可以不是一直放置在被测物110上面，即可仅在需要测量时才放上去，而且隐含表明了可以随时更换量测部件100，使用更加方便；在测试时，将量测部件100放置于被测物110的基准面上，通过测试装置140可实时获取来自量测部件100的反射光以检测被测物110的基准面是否平坦，进而在发现其不平坦的时候，可以控制调节装置130来对应调节辅助治具120的位置，从而实现被测物110的位置调整，以此类推，最终可以找到使被测物110得基准面平坦的测量位置，从而实现准确测量，相对来说，误差较小，得到的被测物110测试数据更准确，使被测物110的加工及改善工序可对应优化。因此，本技术能够实时获取被测物110的基准面测量平坦情况并根据实际情况来对应调节辅助治具120的位置，可为被测物110提供更佳的测量位置，从而减少测量误差，使被测物110的加工及改善工序更加优化。具体地，基准面是本领域的一个现有概念，用于描述物体的参照，量测部件100的光轴是指通过量测部件100的中心位置的光线所在轴线；辅助治具120的形状一般可与被测物110的形状相匹配，因此对其形状不做限定；参照图2，在光学中，被测物110(或者叫做零部件)的基准面用于通光，因此在测试时可以通过其与量测部件100的光轴是否重合来判断光线效果，若重合，则出光好，测量稳定，否则测量不稳定，由于被测物110靠辅助治具120承载，因此当辅助治具120移动调整的时候，被测物110会被对应地移动调整，可见，测试人员只需通过测试装置140了解相关信息即可，若不匹配则进行调整，非常方便有效。进一步地，参照图1，本本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测量系统辅助治具，其特征在于，包括：量测部件、用于竖直支承放置被测物的辅助治具、用于调节所述辅助治具的测量选定位置的调节装置以及用于提供所述被测物的基准面中心与所述量测部件的光轴之间的相对位置信息的测试装置，所述量测部件可拆卸地设置于所述被测物的基准面上，所述辅助治具与所述调节装置相连接，所述测试装置设置于所述辅助治具的上方。/n

【技术特征摘要】
1.一种测量系统辅助治具，其特征在于，包括：量测部件、用于竖直支承放置被测物的辅助治具、用于调节所述辅助治具的测量选定位置的调节装置以及用于提供所述被测物的基准面中心与所述量测部件的光轴之间的相对位置信息的测试装置，所述量测部件可拆卸地设置于所述被测物的基准面上，所述辅助治具与所述调节装置相连接，所述测试装置设置于所述辅助治具的上方。


2.根据权利要求1所述的一种测量系统辅助治具，其特征在于：所述测试装置包括光测探头和计算机，所述光测探头设置于所述量测部件的正上方，所述光测探头与所述计算机相连接。


3.根据权利要求1所述的一种测量系统辅助治具，其特征在于：还包括放置平台和支撑座，所述辅助治具设置于所述放置平台上，所述放置平台设置于所述支撑座上。


4.根据权利要求3所述的一种测量系统辅助治具，其特征在于：所述调节装置包括用于配合实...

【专利技术属性】
技术研发人员：张廷力，
申请(专利权)人：捷西迪广州光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44