【技术实现步骤摘要】
一种生成用于测量共相误差的数字式色散条纹的装置及方法
本专利技术属光电测量
,涉及一种生成用于测量共相误差的数字式色散条纹的装置及方法,适用于拼接式光学系统中拼接子镜平移误差的大量程快速检测。
技术介绍
目前,传统单镜面式光学系统受到镜面加工技术、大口径光学元件检测技术、面型控制技术、地面运输或火箭运载能力及成本等方面的限制而遭遇技术瓶颈。拼接式光学系统采用诸多小尺寸的反射镜,通过共面拼接,可获得与大口径光学镜面等效的成像效果,从根本上解决了单镜面大口径系统所面临的问题。从上世纪90年代开始,包括已运营的KECK、SALT、HET、GTC、LAMOST等,及下一代甚大望远镜,包括E-ELT、TMT、JWST、ATLAST等均采用拼接式镜面。然而,伴随而来的各子镜间共面误差的检测及控制技术更具挑战性。影响拼接镜成像质量的共面误差主要包括倾斜误差及平移误差,本
技术实现思路
将聚焦于平移误差的探测。目前,平移误差的探测方法分为两类,分别为基于远场像的传感方法及基于专用硬件的传感方法。不论哪类方案,单色光照明下最高仅能测 ...
【技术保护点】
1.一种生成用于测量共相误差的数字式色散条纹的装置,其特征在于:由拼接式光学系统(1)、准直透镜(2)、可调谐滤光片(3)、掩模模板(4)、微透镜阵列(5)、探测器(6)及计算机(7)组成;拼接式光学系统(1)的像方焦点与准直透镜(2)的物方焦点重合,可调谐滤光片(3)、掩模模板(4)及微透镜阵列(5)依次位于准直透镜(2)之后,探测器(6)位于微透镜阵列焦平面上。/n
【技术特征摘要】
1.一种生成用于测量共相误差的数字式色散条纹的装置,其特征在于:由拼接式光学系统(1)、准直透镜(2)、可调谐滤光片(3)、掩模模板(4)、微透镜阵列(5)、探测器(6)及计算机(7)组成;拼接式光学系统(1)的像方焦点与准直透镜(2)的物方焦点重合,可调谐滤光片(3)、掩模模板(4)及微透镜阵列(5)依次位于准直透镜(2)之后,探测器(6)位于微透镜阵列焦平面上。
2.根据权利要求1所述的一种生成用于测量共相误差的数字式色散条纹的装置,其特征在于:从拼接式光学系统(1)出射的汇聚光经准直透镜(2)变为准直光束,后经可调谐滤光片(3)的滤光及掩模模板(4)上的子孔径采样,经微透镜阵列(5)汇聚于探测器(6),并由计算机(7)存储由探测器(6)记录的像。
3.根据权利要求1所述的一种生成用于测量共相误差的数字式色散条纹的装置,其特征在于:准直透镜(2)为消色差透镜,以确保经准直透镜(2)变换后的光束能够保持足够高的准直度。
4.根据权利要求1所述的一种生成用于测量共相误差的数字式色散条纹的装置,其特征在于:可调谐滤光片(3)有足够宽的调谐范围,且对每个调谐的波长均具有较窄线宽的特点。
5.根据权利要求1所述的一种生成用于测量共相误差的数字式色散条纹的装置,其特征在于:掩模模板(4)上包含众多用于采样对应相邻子镜拼缝处拼接波前的子孔径...
【专利技术属性】
技术研发人员:张永峰,鲜浩,
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所,
类型:发明
国别省市:四川;51
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