【技术实现步骤摘要】
集成电路封装体的制造方法
本专利技术大体上涉及半导体领域,更具体地,涉及集成电路封装体的制造方法。
技术介绍
电磁波干扰(EMI)是集成电路系统中常见的干扰,其影响着电子产品内部集成电路封装体的电气性能。目前克服EMI通常的做法是:通过在集成电路封装体的塑封外壳上溅镀金属屏蔽层来减少EMI。具体而言:将切割后的单个集成电路封装体平铺放置在带有双面胶材的载板上,载板带着该集成电路封装体经过等离子溅射腔室,经由真空溅射使得在该集成电路封装体的塑封外壳上形成一金属屏蔽层,并使金属屏蔽层与集成电路封装体的接地引脚连接,以此达到减少EMI的目的。由于集成电路封装体与双面胶材垂直相交的侧壁上的金属屏蔽层的沉积速度远远大于其它部分,因此在将该具有金属屏蔽层的集成电路封装体从带有双面胶材的载板上剥离时会在集成电路封装体的表面形成金属毛刺/金属碎屑。这些金属毛刺/金属碎屑主要是该侧壁的位置处撕扯出来的自金属屏蔽层的部分金属,并会给后续的电子产品组装和使用带来了潜在的短路风险。虽然可以通过使用毛刷等方式对金属毛刺进行清洁,但是这种清洁效 ...
【技术保护点】
1.一种集成电路封装体的制造方法,其包含:/n提供载板;/n在所述载板上形成涂层,所述涂层可粘结在所述载板上;/n提供经塑封的集成电路封装体,所述集成电路封装体的引脚底面上覆盖有胶材层;/n将所述集成电路封装体安装在所述载板上,其中所述胶材层与所述涂层粘结在一起;/n在所述集成电路封装体的暴露表面上形成金属屏蔽层;/n自所述胶材层上移除所述涂层及所述载板;以及/n自所述集成电路封装体的引脚底面上移除所述胶材层从而形成单独的具有金属屏蔽层的集成电路封装体。/n
【技术特征摘要】
1.一种集成电路封装体的制造方法,其包含:
提供载板;
在所述载板上形成涂层,所述涂层可粘结在所述载板上;
提供经塑封的集成电路封装体,所述集成电路封装体的引脚底面上覆盖有胶材层;
将所述集成电路封装体安装在所述载板上,其中所述胶材层与所述涂层粘结在一起;
在所述集成电路封装体的暴露表面上形成金属屏蔽层;
自所述胶材层上移除所述涂层及所述载板;以及
自所述集成电路封装体的引脚底面上移除所述胶材层从而形成单独的具有金属屏蔽层的集成电路封装体。
2.根据权利要求1所述的集成电路封装体的制造方法,其中所述涂层是硅胶涂层。
3.根据权利要求1所述的集...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭桂冠,林子翔,王政尧,
申请(专利权)人:苏州日月新半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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