柔性基板及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种柔性基板及其制备方法。柔性基板包括基板及层叠在基板上的镀膜层，镀膜层包括依次层叠的第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层，其中，第一石墨烯层层叠在基板上。上述柔性基板中基板与镀膜层之间的附着性较好，不易开裂且柔性基板的弯折性较好。

Flexible substrate and its preparation

【技术实现步骤摘要】
柔性基板及其制备方法
本专利技术涉及柔性显示
，特别是涉及一种柔性基板及其制备方法。
技术介绍
曲面技术在显示领域内取得了长足的进展，无论是曲面手机、曲面电视，还是曲面显示器都深受市场和用户的青睐。曲面并不是显示技术发展的终极，可随意弯曲的柔性显示屏才是行业的未来趋势。柔性屏与传统液晶显示屏的区别在于，柔性屏采用OLED技术代替液晶发光，并用塑料基板代替传统的玻璃基板，以达到“柔性”的效果。尤其是对于未来显示行业的新领域：VR和可穿戴智能设备等，柔性技术显得更为重要。柔性显示技术和柔性显示屏，都将成为显示行业未来的发展趋势。但传统柔性基板的附着力较差、膜层易开裂，且膜层弯折性较差，使得传统柔性基板不能满足使用。
技术实现思路
基于此，有必要提供一种镀膜层与基板的附着力强，且弯折性良好的柔性基板。此外，还提供一种柔性基板的制备方法。一种柔性基板，包括基板及层叠在所述基板上的镀膜层，所述镀膜层包括依次层叠的第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层，所述第一石墨烯层层叠在所述基板上。在其中一个实施例中，所述镀膜层的厚度为80nm～100nm。在其中一个实施例中，所述第一ITO层的材料中氧化锡和氧化铟的重量百分含量分别为85％～95％和10％～15％，所述第二ITO层的材料中氧化锡和氧化铟的重量百分含量分别为85％～95％和10％～15％。在其中一个实施例中，所述基板的材料为聚对苯二甲酸乙二酯或聚酰亚胺。一种柔性基板的制备方法，包括以下步骤：提供基板；及在所述基板上依次形成第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层。在其中一个实施例中，所述在所述基板上依次形成第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层的步骤中，采用真空溅镀的方式。在其中一个实施例中，所述真空溅镀的过程中，采用偏压溅射，偏置电压为-70V～-100V。在其中一个实施例中，所述在所述基板上依次形成第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层的步骤包括：以石墨烯为靶材，所述基板的运行速度为0.7m/min～1.0m/min，溅镀的时间为100s～150s，溅镀的功率为350w～1000w，在所述基板上形成所述第一石墨烯层；及依次以ITO、石墨烯和ITO为靶材，所述基板的运行速度为1.0m/min～2.0m/min，溅镀的时间为150s～250s，溅镀的功率为6.3kW～7.5kW，在所述基板上形成所述第一ITO层、所述第二石墨烯层和所述第二ITO层。在其中一个实施例中，所述在所述基板上依次形成第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层的步骤之前，还包括对所述基板进行冷阱处理的步骤。在其中一个实施例中，所述在所述基板上依次形成第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层的步骤之后，还包括对所述基板进行退火处理的步骤。上述柔性基板，通过在基板上依次形成第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层，使得柔性基板的基板与镀膜层间的附着力好，且柔性基板的弯折性良好。石墨烯是一种新型碳素材料，具有优良的吸附性能，而第一ITO层和第二ITO层的材料为氧化锡与氧化铟的混合物，氧化锡为一种活性氧化物，具有半导体特性，而氧化铟的透过率好，能够提高柔性基板的透光率。因此，氧化锡能够改变石墨烯的表面性质，石墨烯的高孔隙率、大表面积的特点又能够提升氧化锡的分散性，三者的协同作用使得柔性基板具有优良的附着力和弯折性能。经实验证明，上述柔性基板上的镀膜层与基板之间的附着力为5B，将柔性基板经多次压重和弯曲处理后，镀膜层无开裂现象，因此，柔性基板的附着力和弯折性均较好。附图说明图1为一实施方式的柔性基板的结构示意图；图2为一实施方式的柔性基板的制备方法的工艺流程图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将结合具体实施方式对本专利技术进行更全面的描述。具体实施方式中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。请参阅图1，一实施方式的柔性基板10包括基板100及镀膜层。其中，镀膜层包括第一石墨烯层200、第一ITO层300、第二石墨烯层400及第二ITO层500。第一石墨烯层200层叠在基板100上。其中，基板100的材料为聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜基板或聚酰亚胺(PI)薄膜基板。基板100的厚度为0.01mm～0.50mm。镀膜层的厚度为80nm～100nm。具体地，第一石墨烯层200的厚度为20nm～25nm，第一ITO层300的厚度为20nm～30nm，第二石墨烯层400的厚度为15nm～20nm，第二ITO层500的厚度为20nm～25nm。第一ITO层300的材料中，SnO2和In2O3的重量百分含量分别为85％～95％和10％～15％。第二ITO层500的材料中，SnO2和In2O3的重量百分含量分别为85％～95％和10％～15％。在其他实施方式中，柔性基板10还可以包括第三石墨烯层、第三ITO层、第四石墨烯层、第四ITO层等。经实验证明，镀膜层为四层或四层以上，且为相互间隔的石墨烯层和ITO层时，上述柔性基板10的镀膜层与基板100间的附着力强、弯折性良好，导电性和透光率均较好。上述柔性基板10的镀膜层中石墨烯是一种新型碳素材料，具有优良的吸附性能，而第一ITO层300和第二ITO层500中的氧化锡为一种活性氧化物，具有半导体特性。氧化锡可改变石墨烯的表面性质，石墨烯的高孔隙率、大表面积的特点又能够提升氧化锡的分散性，而氧化铟具有良好的透过率，三者的协同作用使得石墨烯层和ITO层的混合膜层具有优良的吸附性能、弯折性能和电学特性。上述柔性基板10至少具有以下优点；(1)上述柔性基板10的基板100与镀膜层之间的附着力好，不易开裂，且柔性基板10的弯折性较好。(2)上述柔性基板10的透光率大于95％，且电阻低，电学性能良好。请参阅图2，一实施方式的柔性基板的制备方法包括以下步骤：步骤S210：提供基板。其中，基板为聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜基板或聚酰亚胺(PI)薄膜基板。基板的厚度为0.01mm～0.50mm。进一步地，提供基板之后还包括对基板进行清洗的步骤。具体地，对基板进行清洗的步骤包括：对基板进行擦洗，然后将基板分别进行去离子水超声清洗和酒精超声清洗，最后将基板置于酒精蒸汽中进行干燥。当基板由酒精蒸汽中取出来时，因为凝结的蒸汽由表面蒸发掉，所以基板很快就可以干燥完全。进一步地，采用酒精对基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柔性基板，其特征在于，包括基板及层叠在所述基板上的镀膜层，所述镀膜层包括依次层叠的第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层，所述第一石墨烯层层叠在所述基板上。/n

【技术特征摘要】
1.一种柔性基板，其特征在于，包括基板及层叠在所述基板上的镀膜层，所述镀膜层包括依次层叠的第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层，所述第一石墨烯层层叠在所述基板上。


2.根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述镀膜层的厚度为80nm～100nm。


3.根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第一ITO层的材料中氧化锡和氧化铟的重量百分含量分别为85％～90％和10％～15％，所述第二ITO层的材料中氧化锡和氧化铟的重量百分含量分别为85％～90％和10％～15％。


4.根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述基板的材料为聚对苯二甲酸乙二酯或聚酰亚胺。


5.一种柔性基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
提供基板；及
在所述基板上依次形成第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层。


6.根据权利要求5所述的柔性基板的制备方法，其特征在于，所述在所述基板上依次形成第一石墨烯层、第一ITO层、第二石墨烯层和第二ITO层的步骤中，采用真空溅镀的方式。


7.根据权利要求6所述的柔性基板的制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：易伟华，张迅，郑芳平，周慧蓉，杨会良，刘明礼，刘松林，周成，阳威，孔线宁，何智斌，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36