【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电子产品用玻璃领域，特别是涉及一种玻璃表面纹理的制作方法、具有炫光纹理的玻璃和应用。
技术介绍
1、玻璃是一种常用的手机外壳的材质，目前多采用gdf（glass deco film，即玻璃装饰膜）工艺在玻璃表面形成纹理修饰，即将纹理或图案通过uv转印的方式印到膜材表面，再剪裁已转印图案的膜材，通过贴膜的方式贴敷在玻璃基板上，得到炫光纹理图案，但该方法所得到的图案亮度、炫光色彩等效果一般，且精细度不够，同时该方法在玻璃基板上增加了薄膜，从而了增加玻璃基板的整体厚度，也会损失玻璃基板的透光性。有研究人员通过先在玻璃表面涂布光刻胶，再曝光、显影，而使光刻胶层具有纹理，再对玻璃进行蚀刻，使未被光刻胶层保护的玻璃被蚀刻，而在玻璃表面形成炫光纹理。该方法较gdf工艺虽然未增加玻璃基板的整体厚度，也不会影响透光性，但仍存在精细度不够，炫光效果较差的问题。
技术实现思路
1、基于此，本专利技术一些实施例提供一种玻璃表面纹理的制作方法，能够在不增加玻璃整体厚度且保证透光性的同时，提高炫光效果和...
【技术保护点】
1.一种玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，所述第一子层的厚度为190nm~500nm，所述第二子层的厚度为900nm~2500nm。
3.根据权利要求1所述的玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，采用磁控溅射镀膜的方式在所述玻璃表面形成所述保护层；
4.根据权利要求1所述的玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，采用铝酸蚀刻剂除去裸露的所述保护层，所述铝酸蚀刻剂包括二氢铝酸、苯酐和硝酸铈铵。
5.根据权利要求4所述的玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于...
【技术特征摘要】
1.一种玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，所述第一子层的厚度为190nm~500nm，所述第二子层的厚度为900nm~2500nm。
3.根据权利要求1所述的玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，采用磁控溅射镀膜的方式在所述玻璃表面形成所述保护层；
4.根据权利要求1所述的玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，采用铝酸蚀刻剂除去裸露的所述保护层，所述铝酸蚀刻剂包括二氢铝酸、苯酐和硝酸铈铵。
5.根据权利要求4所述的玻璃表面纹理的制作方法，其特征在于，采用铝酸蚀刻剂除去裸露的所述保护层的步骤中，蚀刻温度为30℃~40℃，蚀刻机的蚀刻传动速度为3m/min~4m/min，蚀刻压力为1kg/cm2~2kg/cm2。
6.根据权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员：易伟华，张迅，刘松林，胡剑义，洪华俊，
申请(专利权)人：江西沃格光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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