阵列基板及其制备方法、显示面板技术

本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，阵列基板包括衬底基板以及设置于所述衬底基板的上方的栅极，所述栅极包括靠近所述衬底基板设置的第一侧面以及与所述第一侧面背向设置的第二侧面，所述第一侧面的粗糙度大于所述第二侧面的粗糙度。通过对第一侧面进行处理，以增大第一侧面的粗糙度，可以增大自然光照射到第一侧面时的漫反射，减小第一侧面的镜面反射，从而降低光在第一侧面上的反射率，防止进入阵列基板中的环境光在栅极的第一侧面的反射率较大导致视觉效果受到不良影响。

Array substrate and its preparation method, display panel

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、显示面板
本申请涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。
技术介绍
随着液晶显示装置生产技术不断的发展，液晶显示装置逐步趋向窄边框化，乃至于无边框化；如图1所示，液晶显示面板一般包括相对设置的CF基板12和TFT基板11，无边框显示产品设计需要将TFT基板11侧朝外，以便进行印刷电路板的绑定。然而，TFT基板11中的金属层(如栅极)没有挡光层遮挡，进入TFT基板11中的环境光(图1中箭头指示的方向为光射入的方向)在金属表面的反射率较大，影响视觉效果。
技术实现思路
本申请实施例提供一种阵列基板，以解决进入阵列基板中的环境光在金属表面的反射率较大，影响视觉效果的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：一种阵列基板，其包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的阵列层；其中，所述阵列层包括设置于所述衬底基板的上方的栅极，所述栅极包括靠近所述衬底基板设置的第一侧面以及与所述第一侧面背向设置的第二侧面，所述第一侧面的粗糙度大于所述第二侧面的粗糙度。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的阵列层；/n其中，所述阵列层包括设置于所述衬底基板的上方的栅极，所述栅极包括靠近所述衬底基板设置的第一侧面以及与所述第一侧面背向设置的第二侧面，所述第一侧面的粗糙度大于所述第二侧面的粗糙度。/n

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的阵列层；
其中，所述阵列层包括设置于所述衬底基板的上方的栅极，所述栅极包括靠近所述衬底基板设置的第一侧面以及与所述第一侧面背向设置的第二侧面，所述第一侧面的粗糙度大于所述第二侧面的粗糙度。


2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极的第一侧面上设置有多个凹槽。


3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述衬底基板靠近所述栅极的一侧上设置有多个凸起，所述栅极在所述衬底基板上的正投影覆盖所述凸起在所述衬底基板上的正投影。


4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起位于所述凹槽中并与所述凹槽一一对应。


5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起的形状与所述凹槽的形状相同，所述凸起的大小与所述凹槽的大小相同。


6.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述凸起与所述衬底基板一体成型。


7.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述衬底基板与所述栅极之间还设置有缓冲层，所述凸起位于所述缓冲层靠近所述栅极的一侧上，所述凸起与所述缓冲层一体成型。


8.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述栅极的第一侧面的纵截面整体呈波状。


9.一种阵...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡小波，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44