【技术实现步骤摘要】
显示面板制备装置及方法
本专利技术涉及显示
，尤其是涉及一种显示面板制备装置及方法。
技术介绍
现有显示面板中制备金属走线的过程是通过在金属层上形成光刻较，对光刻胶照射形成光刻图案，然后根据光刻图案对金属层采用干式蚀刻或湿式蚀刻形成金属图案，从而使得金属层形成电路所需的金属图案，但在对显示面板中的栅极层和源漏极层进行湿式刻蚀时，由于栅极层和源漏极层所需要刻蚀形成的图案不同，形成的图案的锥角不同，使得对栅极层和源漏极层需要采用不同的机台和不同的酸，增加了机台的数量，提高了成本，且制备金属图案的效率较低。所以，现有显示面板存在制备过程中需要采用不同的机台制备不同的金属层，造成制备金属图案的效率较低的技术问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种显示面板制备装置及方法，用于解决现有显示面板存在制备过程中需要采用不同的机台制备不同的金属层，造成制备金属图案的效率较低的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种显示面板制备装置，该显示面板制备装置包括：
【技术保护点】
1.一种显示面板制备装置，其特征在于，包括：/n承载平台，用于承载显示面板，所述显示面板包括栅极层和源漏极层；/n刻蚀室，设置于所述承载平台上，用于提供刻蚀环境，对显示面板进行湿刻；/n存储腔，与所述刻蚀室连接，用于存储湿刻所述栅极层的第一刻蚀液；/n辅助腔，用于存储辅助添加剂，并将辅助添加剂加入至第一刻蚀液，形成第二刻蚀液，以对源漏极层进行湿刻；/n循环泵，与所述存储腔连接，用于将所述第一刻蚀液和第二刻蚀液分别混合均匀。/n
【技术特征摘要】
1.一种显示面板制备装置，其特征在于，包括：
承载平台，用于承载显示面板，所述显示面板包括栅极层和源漏极层；
刻蚀室，设置于所述承载平台上，用于提供刻蚀环境，对显示面板进行湿刻；
存储腔，与所述刻蚀室连接，用于存储湿刻所述栅极层的第一刻蚀液；
辅助腔，用于存储辅助添加剂，并将辅助添加剂加入至第一刻蚀液，形成第二刻蚀液，以对源漏极层进行湿刻；
循环泵，与所述存储腔连接，用于将所述第一刻蚀液和第二刻蚀液分别混合均匀。
2.如权利要求1所述的显示面板制备装置，其特征在于，所述辅助腔设置于所述存储腔内，并与所述存储腔顶部和存储腔侧面接触，所述辅助腔在与所述存储腔不接触的一侧形成有可封闭式开口。
3.如权利要求2所述的显示面板制备装置，其特征在于，所述辅助腔内存储有辅助添加剂，所述辅助添加剂包括唑类添加剂。
4.如权利要求3所述的显示面板制备装置，其特征在于，所述唑类添加剂包括1H-苯并三唑、5-甲基-1H-苯并三唑、3-氨基-1H-三唑、1H-四唑、5-甲基-1H-四唑、5-苯基-1H-四唑、5-氨基-1H-四唑、1H-苯并咪唑、1，3-噻唑、4-甲基噻唑中的至少一种。
5.如权利要求4所述的显示面板制备装置，其特征在于，所述存储腔内存储有第二刻蚀液，所述唑类添加剂占所述第二刻蚀液的质量分数的范围包括0.001％至1％。
6.如权利要求1所述的显示面板制备装置，其特征在于，还包括监测构件，所述监测构件用于监测所述存储腔内的第二刻蚀液的高度，并在所述第二刻...
【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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