一种真空溅射镀膜机的进气系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种真空溅射镀膜机的进气系统，其包括进气箱体，所述进气箱体上连接有进气管道，所述进气管道与进气箱体连通；所述进气箱体内设有挡板，所述挡板的三条边与进气箱体内壁连接，另一条边靠近进气箱体内壁，与进气箱体内壁之间形成进气间隙；所述进气箱体底部沿其轴向开设有至少两个进气孔。本实用新型专利技术具有进气均匀，镀膜效果更好，模具表面膜厚更均匀，平整的效果。

Air intake system of vacuum sputtering coater

【技术实现步骤摘要】
一种真空溅射镀膜机的进气系统
本技术涉及真空溅射镀膜机的
，尤其是涉及一种真空溅射镀膜机的进气系统。
技术介绍
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。真空镀膜广泛应用在在模具的保护上，镀膜可协助模具散热、延长模具使用寿命、增加脱膜性与成型率、提升产品良率等。真空镀膜方法包括阴极溅射镀膜法，这种方法是将作为膜的靶材放在阴极上，将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体如氩气通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3P导向壳体，然后将阴极接上2000V的直流电源，激发辉光放电，带正电的氩离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。参考授权公告号为CN204769364U的技术专利，由于批量生产的要求，传统的阴极溅射镀膜机真空室内放置有多个模具，模具上安装有进气管道，气体从进气管道一端的进气口通入真空室，从而对模具进行镀膜。上述中的现有技术方案存在以下缺陷：气体从单一进气口进入真空室，无法均匀分散在靶材附近，很容易导致模具上膜镀得不均匀，甚至导致模具远离进气口的部分的膜厚未达到要求，无法很好的保护模具以及改善模具特性，影响模具质量。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种真空溅射镀膜机的进气系统，其具有进气均匀，镀膜效果更好，模具表面膜厚更均匀，平整的效果。本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种真空溅射镀膜机的进气系统，包括进气箱体，所述进气箱体上连接有进气管道，所述进气管道与进气箱体连通；所述进气箱体内设有挡板，所述挡板的三条边与进气箱体内壁连接，另一条边靠近进气箱体内壁，与进气箱体内壁之间形成进气间隙；所述进气箱体底部沿其轴向开设有至少两个进气孔。通过采用上述技术方案，入射离子从进气管道进入进气箱体，由于入射离子具有较高的动能，快速在进气箱体内扩散，入射离子在进气箱体内壁经过不断碰撞与反射，以不同的角度从进气孔射出，更利于加快入射离子的快速扩散，更快更均匀的撞击多个靶材，利于提高模具表面镀膜的均匀度，镀膜效果更好，提高模具品质。入射离子与靶材撞击的角度对溅射率有非常大的影响，便于根据实际情况，如靶材的材料，入射离子的原子量大小，更灵活的调整入射离子与靶材的撞击角度，提高溅射率，在保证质量的同时，提高薄膜的溅射速率。本技术进一步设置为：所述挡板远离进气管道的一面逐层设有若干个下一挡板，相邻两个挡板与进气箱体内壁之间形成的进气间隙分别设于进气箱体相对的两侧。通过采用上述技术方案，入射离子的动能是比较大的，如果直接从进口进入真空室，很容易产生压差，不同靶材之间溅射出的原子数量和角度差别比较大，非常容易造成镀膜的不均匀；入射离子通过进气间隙在挡板之间流通，且进气间隙交错设置，挡板越多，入射离子碰撞与反射的路程越长，空间越大，入射离子从进气孔进入真空室的角度、速度更多样化，利于入射离子更均匀的撞击靶材。再加上入射离子的布朗运动，充满整个真空室，镀膜更加均匀。本技术通过多个挡板逐层设置挡板并控制进气间隙的位置，既能达到更好的效果，又利于大大缩短进气系统占用的体积。本技术进一步设置为：所述进气箱体内从上到下分别设有第一挡板、第二挡板与第三挡板；所述第一挡板与箱体内壁之间形成第一进气间隙，所述第二挡板与箱体内壁之间形成第二进气间隙，所述第三挡板与箱体内壁之间形成第三进气间隙，所述第一进气间隙与第三进气间隙设于进气箱体同一侧，所述第一进气间隙与第二进气间隙分别设于进气箱体两侧。通过采用上述技术方案，进气箱体上设置三个挡板，挡板之间形成供入射离子碰撞与反射的空间，入射离子在多层空间内经过反复运动，最后往随机方向从进气孔射出。入射离子运动范围越广，分布越均匀，真空溅射镀膜机镀膜效果越好，模具品质越高。本技术进一步设置为：所述进气孔均匀设置在进气箱体底部。通过采用上述技术方案，进气孔均匀设置在进气通道上，每个进气孔之间的距离相同，减轻进气孔之间压力差较大的情况，有助于解决布气不均匀的问题。本技术进一步设置为：所述进气箱体底部连接有导向壳体，所述导向壳体底部均匀开设有若干个导气孔，所述导气孔的数量大于进气孔的数量。通过采用上述技术方案，导向壳体底部设置导气孔，入射离子从进气孔进入导向壳体，从导气孔射出。导向孔的数量越多，气体扩散越均匀，越有利于均匀布气。本技术进一步设置为：所述所有导气孔覆盖的面积大于所有进气孔覆盖的面积。通过采用上述技术方案，入射离子在导向壳体内从进气孔射向导向孔，导气孔覆盖面积大于进气孔覆盖面积，增大入射离子在导向壳体内的反射面积，经过二次布气，更好的达到均匀布气的目的。本技术进一步设置为：所述进气孔与导气孔均为锥台状。通过采用上述技术方案，入射离子穿过进气孔或导向孔时，在锥台状孔内反射的空间越来越大，有利于气体更好的扩散，气体分布更加均匀。本技术进一步设置为：所述真空溅射镀膜机包括真空室，模具安装于真空室内，所述真空室内环绕模具设有若干个靶材；所述进气箱体设于真空室顶壁或侧壁，所述进气孔与真空室连通。通过采用上述技术方案，进气箱体设于真空室顶壁或者侧壁，进气孔与真空室连通，入射离子进入真空室内均能均匀撞击在靶材上，这样使模具上膜厚更均匀。综上所述，本技术的有益技术效果为：1.入射离子从进气管道进入进气箱体，由于入射离子具有较高的动能，快速在进气箱体内扩散，入射离子在进气箱体内壁经过不断碰撞与反射，以不同的角度从进气孔射出，更利于加快入射离子的快速扩散，更快更均匀的撞击多个靶材，利于提高模具表面镀膜的均匀度，镀膜效果更好，提高模具品质。入射离子通过进气间隙在挡板之间流通，且进气间隙交错设置，挡板越多，入射离子碰撞与反射的路程越长，空间越大，入射离子从进气孔进入真空室的角度、速度更多样化，利于入射离子更均匀的撞击靶材。再加上入射离子的布朗运动，充满整个真空室，镀膜更加均匀。本技术通过多个挡板逐层设置挡板并控制进气间隙的位置，既能达到更好的效果，又利于大大缩短进气系统占用的体积。2.通过设置进气壳体，增大进气系统的进气面积，入射离子与靶材充分接触，使模具表面膜厚更均匀、平整。附图说明图1是本技术实施例一的部分结构剖视图；图2是图1中A部分的放大示意图；图3是本技术实施例二的整体结构示意图；图4是本技术实施例三的整体结构示意图；图5是本技术实施例一的工作状态示意图；图6是本技术实施例四的工作状态示意图。图中，1、进气箱体；2、进气口；3、进气管道；4、第一挡板；5、第一进气间隙；6、第二挡板；7、第三挡板；8、第二进气间隙；9、第三进气间隙；10、进气孔；11、导向壳体；12、搭扣；13、弯钩；14、密封条；15、导气孔；16、真空室；17、模具；18、靶材。具体实施方式以下结合附图1-6本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空溅射镀膜机的进气系统，其特征在于：包括进气箱体（1），所述进气箱体（1）上连接有进气管道（3），所述进气管道（3）与进气箱体（1）连通；所述进气箱体（1）内设有挡板，所述挡板的三条边与进气箱体（1）内壁连接，另一条边靠近进气箱体（1）内壁，与进气箱体（1）内壁之间形成进气间隙；所述进气箱体（1）底部沿其轴向开设有至少两个进气孔（10）。/n

【技术特征摘要】
1.一种真空溅射镀膜机的进气系统，其特征在于：包括进气箱体（1），所述进气箱体（1）上连接有进气管道（3），所述进气管道（3）与进气箱体（1）连通；所述进气箱体（1）内设有挡板，所述挡板的三条边与进气箱体（1）内壁连接，另一条边靠近进气箱体（1）内壁，与进气箱体（1）内壁之间形成进气间隙；所述进气箱体（1）底部沿其轴向开设有至少两个进气孔（10）。


2.根据权利要求1所述的一种真空溅射镀膜机的进气系统，其特征在于：所述挡板远离进气管道（3）的一面逐层设有若干个下一挡板，相邻两个挡板与进气箱体（1）内壁之间形成的进气间隙分别设于进气箱体（1）相对的两侧。


3.根据权利要求2所述的一种真空溅射镀膜机的进气系统，其特征在于：所述进气箱体（1）内从上到下分别设有第一挡板（4）、第二挡板（6）与第三挡板（7）；所述第一挡板（4）与箱体内壁之间形成第一进气间隙（5），所述第二挡板（6）与箱体内壁之间形成第二进气间隙（8），所述第三挡板（7）与箱体内壁之间形成第三进气间隙（9），所述第一进气间隙（5）与第三进气间隙（9）设于进气箱体（1）同一侧，所述第一进气间隙（5）与第二进气...

【专利技术属性】
技术研发人员：张德军，
申请(专利权)人：深圳市创基真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44