一种真空镀遮蔽治具制造技术

本申请涉及一种真空镀遮蔽治具，属于真空镀膜技术领域，包括第一金属块和第二金属块，第一金属块的一端端面与第二金属块一端端面固定连接，第一金属块中设置有第一通孔，第一通孔的内侧边缘与待镀物料的外侧边缘相紧密配合，第一通孔上连通有用于容置待镀物料的物料容置腔，物料容置腔的底部与所述第二金属块相接，物料容置腔的深度不大于第一通孔内的待镀物料的高度。从而待镀物料的顶端可从第一通孔伸出，以对其进行真空镀膜，而待镀物料中其他的部位则被第一金属块所遮蔽，因此对待镀物料进行局部真空镀膜时，只需要将待镀物料通过第一通孔放入于该物料容置腔中即可进行真空镀膜，其极大地提升了真空镀膜的生产效率，利于产品的大批量生产。于产品的大批量生产。于产品的大批量生产。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀遮蔽治具


[0001]本申请涉及真空镀膜
，尤其是涉及一种真空镀遮蔽治具。

技术介绍

[0002]随着社会的发展，人们对工业生产材料的要求也越来越高，为了在材料的表面增加不同的化学特性，人们常常会在工业生产材料的表面进行真空镀膜；真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于金属、半导体或绝缘体等镀件表面而形成薄膜的一种方法；现有的真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积技术和化学气相沉积技术；其被广泛地应用于光学器件、电子电路、五金组件等领域上。
[0003]现有技术中，为了提高手机充电接头前端的耐磨性及其美观性，同时兼顾手机充电接头整体的轻薄度，手机生产厂商一般都只会对手机充电接头的前端进行真空镀膜，故其需要对手机充电接头中不需要镀膜部分进行遮蔽；而在现有技术中，其通过在手机充电接头上贴附遮蔽材料的方式进行遮蔽，故其生产效率较为低下，不利于产品的大批量生产。

技术实现思路

[0004]为了改进现有的手机充电接头前端的镀膜生产效率低，不利于大批量生产的问题，本申请提供一种生产效率较高的镀膜手机充电接口前端的真空镀遮蔽治具。
[0005]采用如下的技术方案：
[0006]一种真空镀遮蔽治具，包括第一金属块和第二金属块，所述第一金属块的一端端面与第二金属块一端端面固定连接，所述第一金属块中设置有第一通孔，所述第一通孔的内侧边缘与待镀物料的外侧边缘相紧密配合，所述第一通孔上连通有用于容置待镀物料的物料容置腔，所述物料容置腔的底部与所述第二金属块相接，所述物料容置腔的深度不大于第一通孔内的待镀物料的高度。
[0007]通过采用上述技术方案，由于该真空镀遮蔽治具中的第一通孔的内侧边缘与待镀物料的外侧边缘相紧密配合，且物料容置腔的深度不大于待镀物料的高度，故使得待镀物料的顶端可从第一通孔伸出，以对其进行真空镀膜，而待镀物料中其他的部位则被第一金属块所遮蔽，因此对待镀物料进行局部真空镀膜时，只需要将待镀物料通过第一通孔放入于该物料容置腔中即可进行真空镀膜，其极大地提升了真空镀膜的生产效率，利于产品的大批量生产。
[0008]优选的，所述第二金属块中设置有第二通孔，所述第二通孔与物料容置腔的底部相连通，供外部治具伸入至所述物料容置腔内。
[0009]通过采用上述技术方案，真空镀膜完成后，待镀物料的顶端与第一金属块之间紧密配合，不容易取出，在第二金属块上设置第二通孔，第二通孔与物料容置腔的底部相连通，第一通孔连通物料容置腔，则外部治具可从第二通孔伸入至所述物料容置腔内，将待镀物料从第一通孔顶出，这样，有利于待镀物料的镀膜后便于取出，减少工作人员的劳动。
[0010]优选的，所述第一通孔和第二通孔的数量均为一个以上。
[0011]通过采用上述技术方案，则一个真空镀遮蔽治具内可以放置多个待测物料，对多个待测物料同时真空镀膜，大大提高了待测物料镀膜的生产效率，实用性强。
[0012]优选的，所述第一金属块朝向第二金属块的一侧端面设置有第一凹槽，所述第一凹槽与物料容置腔连通。
[0013]通过采用上述技术方案，第一金属块设有第一凹槽，减少真空镀遮蔽治具的材料使用量，进而降低了其生产成本。
[0014]优选的，所述第二金属块朝向第一金属块的一侧端面设置有第二凹槽，所述第二凹槽与第一凹槽相互对准。
[0015]通过采用上述技术方案，第二金属块设有第二凹槽，减少真空镀遮蔽治具的材料使用量，进而降低了其生产成本。
[0016]优选的，所述第一金属块远离第二金属块的一侧端面上设置有第三凹槽，所述第三凹槽与所述第一通孔的外侧边缘相接。
[0017]通过采用上述技术方案，第三凹槽用于待测物料镀膜后更加便于取出。
[0018]优选的，所述第一金属块和第二金属块之间通过若干螺栓固定连接。
[0019]通过采用上述技术方案，螺栓固定可增强真空镀遮蔽治具的结构稳定。
[0020]优选的，还包括金属塞，所述金属塞设置于所述待镀物料的开口端内且所述金属塞的外侧面与所述待镀物料的内侧面相紧密配合。
[0021]通过采用上述技术方案，待测物料需要对前端的部分进行镀膜时，金属塞遮蔽待测物料不需要镀膜的部位。
[0022]综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：
[0023]1.由于该真空镀遮蔽治中的第一通孔的内侧边缘与待镀物料的外侧边缘相紧密配合，且物料容置腔的深度不大于待镀物料的高度，故使得待镀物料的顶端可从第一通孔伸出，以对其进行真空镀膜，而待镀物料中其他的部位则被第一金属块所遮蔽，因此对待镀物料进行局部真空镀膜时，只需要将待镀物料通过第一通孔放入于该物料容置腔中即可进行真空镀膜，其极大地提升了真空镀膜的生产效率，利于产品的大批量生产。
[0024]2.在第二金属块上设置第二通孔，第二通孔与物料容置腔的底部相连通，第一通孔连通物料容置腔，则外部治具可从第二通孔伸入至所述物料容置腔内，将待镀物料从第一通孔顶出，这样，有利于待镀物料的镀膜后便于取出，减少工作人员的劳动。
[0025]3.真空镀遮蔽治具设置有多个第一通孔和第二通孔，则一个真空镀遮蔽治具内可以放置多个待测物料，对多个待测物料同时真空镀膜，大大提高了待测物料镀膜的生产效率，实用性强。
附图说明
[0026]图1是一种真空镀遮蔽治具的结构示意图。
[0027]图2是一种真空镀遮蔽治具的无金属块的剖视图。
[0028]图3是一种真空镀遮蔽治具的凸显第二金属块的结构示意图。
[0029]图4是一种真空镀遮蔽治具的无金属块的爆炸图。
[0030]图5是一种真空镀遮蔽治具的凸显第二凹槽的爆炸图
[0031]附图标记说明：1、第一金属块；11、第一通孔；12、第一凹槽；13、第三凹槽；14、物料
容置腔；2、第二金属块；21、第二通孔；22、第二凹槽；3、金属塞；4、螺栓。
具体实施方式
[0032]以下结合附图1
‑
5，对本申请作进一步详细说明。
[0033]本申请实施例公开一种真空镀遮蔽治具。
[0034]参照图1和图2，一种真空镀遮蔽治具包括第一金属块1、第二金属块2、金属塞3和螺栓4，第一金属块1和第二金属块2之间通过若干螺栓4固定并且第一金属块1的一端端面与第二金属块2一端端面连接。第一金属块1中设置有第一通孔11，所述第一通孔11的内侧边缘与待镀物料的外侧边缘相紧密配合，第一通孔11上连通有用于容置待镀物料的物料容置腔14，物料容置腔14的底部与所述第二金属块2相接，所述物料容置腔14的深度不大于第一通孔11内的待镀物料的高度。金属塞3设置于所述待镀物料的开口端内且所述金属塞3的外侧面与所述待镀物料的内侧面相紧密配合。
[0035]本实施例中，所述待测物料为手机充电接口，由于该真空镀遮蔽治具中的第一通孔11的内侧边缘与手机充电接口的外侧边缘相紧密配合，且物料容置腔14的深度不大于手机充电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀遮蔽治具，其特征在于，包括第一金属块(1)和第二金属块(2)，所述第一金属块(1)的一端端面与第二金属块(2)一端端面固定连接，所述第一金属块(1)中设置有第一通孔(11)，所述第一通孔(11)的内侧边缘与待镀物料的外侧边缘相紧密配合，所述第一通孔(11)上连通有用于容置待镀物料的物料容置腔(14)，所述物料容置腔(14)的底部与所述第二金属块(2)相接，所述物料容置腔(14)的深度不大于第一通孔(11)内的待镀物料的高度。2.根据权利要求1所述的一种真空镀遮蔽治具，其特征在于，所述第二金属块(2)中设置有第二通孔(21)，所述第二通孔(21)与物料容置腔(14)的底部相连通，供外部治具伸入至所述物料容置腔(14)内。3.根据权利要求2所述的一种真空镀遮蔽治具，其特征在于，所述第一通孔(11)和第二通孔(21)的数量均为一个以上。4.根据权利要求1所述的一种真空镀遮蔽治具，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：张德军，
申请(专利权)人：深圳市创基真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：