微波处理装置制造方法及图纸

微波处理装置具有处理室、微波供给部以及谐振部。处理室由多个壁面围成，收纳被加热物。微波供给部向处理室提供微波。谐振部设置于多个壁面中的一个壁面，在微波的频带中具有谐振频率。根据本方式，通过对提供到处理室的频率进行控制，能够使谐振部的表面的阻抗发生变化。由此，能够对处理室内的驻波分布、即处理室内的微波能量分布进行控制。其结果是，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，能够对各被加热物实施期望的介电加热。

Microwave processing equipment

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】微波处理装置
本公开涉及对食品等被加热物进行介电加热的微波处理装置(Microwavetreatmentapparatus)。
技术介绍
微波炉是微波处理装置的代表性的例子。在微波炉中，由微波产生放射部即磁控管产生的微波被提供到由金属制的壁面围成的处理室内。载置在处理室内的被加热物通过微波而被介电加热。微波在处理室内的壁面上反复反射。有时在壁面上还配置有能够封闭微波的较小的孔。在这种壁面的情况下，被壁面反射的微波与照射在壁面上的微波具有180度的相位差。当将与壁面垂直的线作为基准线时，作为基准线与入射波之间的角度的入射角与作为反射波与基准线之间的角度的反射角相同。通常，处理室的大小与微波的波长(在微波炉中约为120mm)相比足够大。因此，通过在壁面产生的入射波与反射波的动作，在处理室内产生驻波。电场在驻波的波腹处始终较强，电场在驻波的波节处始终较弱。因此，被加热物在载置于相当于驻波的波腹的位置时被较强地加热，在载置于相当于驻波的波节的位置时不太被加热。即，根据被加热物的载置位置，被加热物被不同地加热。这是在微波炉中产生加热不均的主要原因。用于防止加热不均的实用化方法包括使载置被加热物的工作台旋转的所谓的旋转工作台方式、使放射微波的天线旋转的所谓的旋转天线方式。在这些方法中，虽然无法消除驻波，但这些方法被用作实施食品的均匀加热的方法。与均匀加热相反，正在开发积极地实施局部加热的微波加热装置(例如，参照非专利文献1)。该装置具有使用GaN半导体元件构成的多个微波产生部。该装置从不同的位置向处理室提供由各个微波产生部产生的微波，并且对这些微波的相位进行控制，以使微波集中于被加热物以便进行局部加热。现有技术文献非专利文献非专利文献1：国立研究开发法人新能源·产业技术综合开发机构等“开发以GaN放大器模块为加热源的产业用微波加热装置”2016年1月25日
技术实现思路
但是，在上述现有的微波处理装置中，为了进行局部加热，需要从多个部位向处理室提供微波，存在装置复杂且大型化的问题。例如，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，即便使微波集中于一个被加热物，该被加热物也不会吸收所有的微波。未被该被加热物吸收的微波入射到另一个被加热物。因此，在上述现有的微波处理装置中，在对多个被加热物同时进行加热时，难以提高局部加热的集中度。为了解决上述现有的问题，本公开的目的在于，提供能够通过对处理室内的驻波分布进行控制而对多个被加热物分别实施期望的介电加热的微波处理装置。本公开的一个方式的微波处理装置具有处理室、微波供给部以及谐振部。处理室由多个壁面围成，收纳被加热物。微波供给部向处理室提供微波。谐振部设置于多个壁面中的一个壁面，在微波的频带中具有谐振频率。根据本公开，通过对提供到处理室的频率进行控制，能够使谐振部的表面的阻抗发生变化。由此，能够对处理室内的驻波分布(即，处理室内的微波能量分布)进行控制。其结果是，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，能够对各被加热物实施期望的介电加热。附图说明图1是实施方式1的微波处理装置的框图。图2是示出谐振部的结构的俯视图。图3是示出由贴片谐振部产生的反射相位的频率特性的图。图4是示出在处理室中收纳有两个被加热物的状态的、实施方式1的微波处理装置的纵剖视图。图5是示出收纳在处理室中的两个被加热物所吸收的电力之比的频率特性的图。图6A是示出图4的处理室内的电场分布的图。图6B是示出在图4中未设置谐振部的情况下的处理室内的电场分布的图。图7A是示出微波的频率为2.40GHz的情况下的处理室内的电场分布的图。图7B是示出微波的频率为2.44GHz的情况下的处理室内的电场分布的图。图7C是示出微波的频率为2.45GHz的情况下的处理室内的电场分布的图。图7D是示出微波的频率为2.46GHz的情况下的处理室内的电场分布的图。图7E是示出微波的频率为2.50GHz的情况下的处理室内的电场分布的图。图8是实施方式2的微波处理装置的框图。图9是示出图8所示的情况下的处理室内电场分布的图。图10A是示出实施方式3的微波处理装置的谐振部的配置位置的图。图10B是示出实施方式3的微波处理装置的谐振部的配置位置的图。图10C是示出实施方式3的微波处理装置的谐振部的配置位置的图。图11是示出实施方式3的微波处理装置的处理室内的电场分布的图。具体实施方式本公开的第1方式的微波处理装置具有处理室、微波供给部以及谐振部。处理室由多个壁面围成，收纳被加热物。微波供给部向处理室提供微波。谐振部设置于多个壁面中的一个壁面，在微波的频带中具有谐振频率。在本公开的第2方式的微波处理装置中，除了第1方式之外，谐振部由一个以上的贴片谐振器构成。在本公开的第3方式的微波处理装置中，除了第2方式之外，一个以上的贴片谐振器以贴片面朝向处理室的内侧的方式配置，与贴片面相反的一侧的面具有与处理室的壁面相同的电位。在本公开的第4方式的微波处理装置中，除了第2方式之外，一个以上的贴片谐振器呈矩阵状地配置。在本公开的第5方式的微波处理装置中，除了第2方式之外，一个以上的贴片谐振器全部设置于多个壁面中的一个壁面。在本公开的第6方式的微波处理装置中，除了第5方式之外，谐振部配置在对多个壁面中的一个壁面进行了等分的情况下的一个分割区域中。在本公开的第7方式的微波处理装置中，除了第1方式之外，微波供给部具有供电部，该供电部设置于多个壁面中的一个壁面，构成为向处理室提供微波，谐振部配置于多个壁面中的与供电部对置的另一壁面。在本公开的第8方式的微波处理装置中，除了第1方式之外，微波供给部具有微波产生部和控制部。微波产生部产生微波。控制部控制微波产生部调整微波的振荡频率。以下，参照附图对本公开的微波处理装置的优选实施方式进行说明。(实施方式1)图1是示出本实施方式的微波处理装置20A的框图。如图1所示，微波处理装置20A具有：处理室1，其由金属制的多个壁面围成；以及微波供给部13，其构成为向处理室1提供微波。微波供给部13具有微波传输部2、供电部3、微波产生部4以及控制部5。微波传输部2具有矩形形状的截面，以TE10模式传输微波。供电部3是设置于处理室1的下壁面的矩形开口。供电部3的中心位于处理室1的下壁面的中央、即处理室1的左右方向的中心线L1与前后方向的中心线L2的交点。微波产生部4能够对所产生的微波的振荡频率进行调整。控制部5根据所输入的信息来控制微波产生部4，以便将由微波产生部4产生的微波的振荡频率和输出电力调整为期望的值。振荡频率的可控频带为2.4GHz～2.5GHz。分辨率例如为1MHz。在处理室1内的与供电部3对置的上壁面设置有谐振部6。谐振部6在左右方向上设置在上壁面的右端，在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微波处理装置，其具有：/n处理室，其由多个壁面围成，构成为收纳被加热物；/n微波供给部，其构成为向所述处理室提供微波；以及/n谐振部，其设置于所述多个壁面中的一个壁面，在所述微波的频带中具有谐振频率。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20170704 JP 2017-1308911.一种微波处理装置，其具有：
处理室，其由多个壁面围成，构成为收纳被加热物；
微波供给部，其构成为向所述处理室提供微波；以及
谐振部，其设置于所述多个壁面中的一个壁面，在所述微波的频带中具有谐振频率。


2.根据权利要求1所述的微波处理装置，其中，
所述谐振部由一个以上的贴片谐振器构成。


3.根据权利要求2所述的微波处理装置，其中，
所述一个以上的贴片谐振器以贴片面朝向所述处理室的内侧的方式配置，与所述贴片面相反的一侧的面具有与所述处理室的所述壁面相同的电位。


4.根据权利要求2所述的微波处理装置，其中，
所述一个以上的贴片谐振器呈矩...

【专利技术属性】
技术研发人员：吉野浩二，久保昌之，桥本修，须贺良介，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP