【技术实现步骤摘要】
一种基板干燥装置和方法
本专利技术涉及一种基板干燥装置,还涉及一种基板干燥方法。
技术介绍
面板领域中玻璃基板、掩膜板或者半导体领域中晶圆通过药液清洗,都需要通过DIW(去离子水)浸泡或通过喷洒进行漂洗。漂洗后在产品表面就会存在过量的DIW,形成水渍的问题。根据现有常规的干燥方式,将待处理对象浸没于盛有干燥液体(异丙醇,简写为IPA)的容器中。将处理产品从容器中向上取出时,通过干燥液体(IPA)和DIW的表面张力差,剥离产品表面的DIW,再经过空气刀吹扫或类似物使产品表面的溶剂在大气中蒸发,从而达到干燥的目的。但是,使用现有常规的干燥方式,存在干燥液体(IPA)使用量大、需要厂房防爆设计、运营成本高昂的问题。在某些情况下,使用非易燃溶剂,例如氢氟醚(HFE),然而缺点也很明显,在于其价格高于醇类干燥溶剂,后期处理成本高昂,此外,HFE无法与水进行混溶,且易产生结晶,不适用与水基清洗的处理。因此需要改进基板的干燥工艺。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术不足而提供一种基 ...
【技术保护点】
1.一种基板干燥装置,其特征在于,它包括:/n腔室(1);/n喷淋单元(2),所述喷淋单元(2)设置在所述腔室(1)中;/n供给单元Ⅰ(3),所述供给单元Ⅰ(3)与所述喷淋单元(2)相连接,用于供给干燥液体;/n减压单元(4),所述减压单元(4)通过减压管路与所述腔室(1)相连接,用于降低气压;/n供给单元Ⅱ(5),所述供给单元Ⅱ(5)与所述腔室(1)相连接,用于供给惰性气体或压缩空气。/n
【技术特征摘要】
1.一种基板干燥装置,其特征在于,它包括:
腔室(1);
喷淋单元(2),所述喷淋单元(2)设置在所述腔室(1)中;
供给单元Ⅰ(3),所述供给单元Ⅰ(3)与所述喷淋单元(2)相连接,用于供给干燥液体;
减压单元(4),所述减压单元(4)通过减压管路与所述腔室(1)相连接,用于降低气压;
供给单元Ⅱ(5),所述供给单元Ⅱ(5)与所述腔室(1)相连接,用于供给惰性气体或压缩空气。
2.根据权利要求1所述的基板干燥装置,其特征在于:它还包括加热单元(6),所述加热单元(6)用于加热所述干燥液体和/或所述惰性气体和/或所述压缩空气。
3.根据权利要求2所述的基板干燥装置,其特征在于:所述加热单元(6)还设置于所述腔室(1),用于加热所述腔室(1)内的空间。
4.根据权利要求1所述的基板干燥装置,其特征在于:它还包括气液分离器(7),所述气液分离器(7)连接所述减压管路。
5.根据权利要求4所述的基板干燥装置,其特征在于:它还包括冷却单元(8),所述冷却单元(8)连接进所...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋新,沈宗豪,施利君,
申请(专利权)人:苏州晶洲装备科技有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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