校准工装和校准系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种校准工装，用于校准磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置。校准工装包括工装主体。工装主体包括第一校准平面、第一校准平面以及第三校准平面。第一校准平面、第一校准平面以及第三校准平面两两相互垂直且相交。第一校准平面、第一校准平面以及第三校准平面分别作为校准的参考面。在校准时，可以通过比较磁场扫描设备与第一校准平面、第一校准平面或第三校准平面上不同区域的相对位置是否一致，来判断磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置是否符合要求。同时，在校准过程中，可以明确得到磁场扫描设备安装上不符合要求的具体部位及原因，便于用户做针对性调整，从而避免了盲目调整验证，节省了工作流程，提高了工作效率。

Calibration tooling and calibration system

【技术实现步骤摘要】
校准工装和校准系统
本技术涉及磁场扫描仪器领域，特别是涉及一种校准工装和校准系统。
技术介绍
目前薄膜太阳能电池芯片采用磁控溅射镀膜方法制备，而磁控溅射用靶材为核心材料。通常靶材安装到磁控溅射设备之前需要利用高斯计探针检测靶材内的磁场分布是否合格，检测时，靶材一般被安装在靶材安装座上，高斯计探针一般被安装在磁场扫描设备上。在对靶材测量前，需要保证靶材与磁场扫描设备的相对安装位置满足要求。目前，通过验证工具验证靶材与磁场扫描设备的相对安装位置是否满足要求，若验证工具与磁场扫描设备的相对位置为我们需要的靶材与磁场扫描设备的相对安装位置时，用高斯计探针扫描验证工具时，会输出一组标准数据，磁场扫描设备的控制器会预先存储这一标准数据；在通过验证工具验证靶材与磁场扫描设备的相对安装位置是否满足要求时，先将验证工具安装在安装座上，用高斯计探针扫描验证工具的磁场分布情况，将扫描得到的数据与标准数据进行对比，看是否有差异，若存在差异，再根据经验对磁场扫描设备的位置进行试探调节，调节后，再用高斯计探针对验证工具进行再次扫描，重复上述操作，直至高斯计探针的扫描结果与磁场扫描设备的控制器内预先存储的标准数据相近，目前对磁场扫描设备位置的调节依赖于操作人员的经验和目测，没有可依据的具体调节参数，需要反复试探调节，调节过程较长，工作效率较低。
技术实现思路
基于此，有必要针对验证靶材与磁场扫描设备的相对安装位置是否满足要求时，过程复杂且时间成本高的问题，提供一种校准工装和校准系统。本技术提供了一种校准工装，用于校准磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置，包括：工装主体，所述工装主体包括第一校准平面、第二校准平面以及第三校准平面，所述第一校准平面、所述第二校准平面以及所述第三校准平面两两相互垂直且相交。在其中一个实施例中，所述工装主体还包括减重孔，所述减重孔设置于所述第一校准平面和/或所述第二校准平面上。在其中一个实施例中，所述第一校准平面和所述第三校准平面连接处具有第一台阶结构，所述第一台阶结构包括分别与所述第一校准平面和与所述第三校准平面平行的第一台阶面和第二台阶面。在其中一个实施例中，所述第一校准平面和所述第二校准平面连接处具有第二台阶结构，所述第二台阶结构包括分别与所述第一校准平面和所述第二校准平面平行的第三台阶面和第四台阶面。在其中一个实施例中，所述校准工装还包括磁性件，所述磁性件可拆卸地设置于所述第一校准平面上。在其中一个实施例中，所述校准工装还包括屏蔽件，所述屏蔽件可拆卸地设置于所述第一校准平面上，所述屏蔽件上设有容纳结构，所述磁性件设置于所述容纳结构内。在其中一个实施例中，所述校准工装还包括一验证件，所述验证件可拆卸地设置于所述第一校准平面上，所述验证件内部均匀设置有多个标准磁体，所述验证件用于验证磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置。在其中一个实施例中，上述任一项所述的校准工装还包括水平度检测装置，所述水平检测装置用于以所述第一校准平面、所述第二校准平面和所述第三校准平面为参考面对待校准装置进行检测。本技术还提供了一种校准系统，包括上述实施例所述的校准工装，磁场扫描设备以及靶材安装座，所述校准工装固定于所述靶材安装座上，所述磁场扫描设备与所述校准工装间隔设置，所述水平度检测装置设置于所述磁场扫描设备上。在其中一个实施例中，所述磁场扫描设备包括能够沿第一方向和第二方向移动的移动模组，所述水平度检测装置包括磁性表座以及设置于所述磁性表座端部的杠杆表，其中所述第一方向与所述第三校准平面垂直，所述第二方向与所述第二校准平面垂直。上述校准工装和校准系统，包括工装主体。所述工装主体包括互相垂直的第一校准平面、第二校准平面以及第三校准平面。校准磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置时，以上述三个校准平面为参考面，可以通过分别比较磁场扫描设备与第一校准平面、第一校准平面和第三校准平面上不同区域的相对位置是否一致，来判断磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置是否满足要求。同时，在校准过程中，可以明确得到磁场扫描设备安装上不符合要求的具体部位及需要调节的尺度，便于用户做针对性调整，从而避免了盲目调整验证，节省了工作流程，提高了工作效率。附图说明图1为本申请一实施例提供的校准工装的结构示意图；图2为图1圈A区域的局部放大示意图；图3为本申请一实施例提供的校准工装的结构分解示意图；图4为本申请一实施例提供的屏蔽件的剖视示意图；图5为本申请一实施例提供的验证件的结构示意图；图6为本申请一实施例提供的水平度检测装置的结构示意图；图7为本申请一实施例提供的校准系统的结构示意图。附图标号说明书：10校准工装100工装主体110第一校准平面120第二校准平面130第三校准平面140减重孔150第一台阶结构151第一台阶面152第二台阶面160第二台阶结构161第三台阶面162第四台阶面200磁性件300屏蔽件310容纳结构320屏蔽部330安装部400验证件410标准磁体500支撑部20水平度检测装置21磁性表座22杠杆表30磁场扫描设备31移动模组32第二滑轨33第一滑轨34扫描探头35扫描架40靶材安装座41弧形槽50校准系统具体实施方式为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施的限制。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本申请。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。参见图1，本技术一实施例提供一种校准工装10，用于校准磁场扫描设备30与靶材安装座40的相对位置。所述校准工装10包括工装主体100。所述工装主体100包括第一校准平面110、第二校准平面120以及第三校准平面130。所述第一校准平面110、所述第二校准平面120以及所述第三校准平面130两两相互垂直且相交。本实施例中，所述校准工装10的形状、大小不限，只要满足具有两两相互垂直且相交的所述第一校准平面11本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种校准工装，用于校准磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置，其特征在于，包括：/n工装主体(100)，所述工装主体(100)包括第一校准平面(110)、第二校准平面(120)以及第三校准平面(130)，所述第一校准平面(110)、所述第二校准平面(120)以及所述第三校准平面(130)两两相互垂直且相交。/n

【技术特征摘要】
1.一种校准工装，用于校准磁场扫描设备与靶材安装座的相对位置，其特征在于，包括：
工装主体(100)，所述工装主体(100)包括第一校准平面(110)、第二校准平面(120)以及第三校准平面(130)，所述第一校准平面(110)、所述第二校准平面(120)以及所述第三校准平面(130)两两相互垂直且相交。


2.如权利要求1所述的校准工装，其特征在于，所述工装主体(100)还包括减重孔(140)，所述减重孔(140)设置于所述第一校准平面(110)和/或所述第二校准平面(120)上。


3.如权利要求1所述的校准工装，其特征在于，所述第一校准平面(110)和所述第三校准平面(130)连接处具有第一台阶结构(150)，所述第一台阶结构(150)包括分别与所述第一校准平面(110)和所述第三校准平面(130)平行的第一台阶面(151)和第二台阶面(152)。


4.如权利要求1所述的校准工装，其特征在于，所述第一校准平面(110)和所述第二校准平面(120)连接处具有第二台阶结构(160)，所述第二台阶结构(160)包括分别与所述第一校准平面(110)和所述第二校准平面(120)平行的第三台阶面(161)和第四台阶面(162)。


5.如权利要求1所述的校准工装，其特征在于，所述校准工装还包括磁性件(200)，所述磁性件(200)可拆卸地设置于所述第一校准平面(110)上。


6.如权利要求5所述的校准工装，其特征在于，所述校准工装还包括屏蔽件(300)，所述屏蔽件(300)可拆卸地设置于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨永雷，雷绍温，张伟，刘洋，
申请(专利权)人：山西米亚索乐装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：山西;14