供气装置制造方法及图纸

本申请提供一种供气装置，包括至少一个匀气室和安装板；所述匀气室用于将氛围气体缓冲后输出到镀膜腔，所述匀气室设有至少一个进气口和多个用于将氛围气体输送到所述镀膜腔的出气孔；所述安装板用于将所述匀气室与所述镀膜腔密封固定到一起。本申请采用匀气室将氛围气体气流缓冲均匀后再由出气孔输送到镀膜腔内，缓冲后的氛围气体压力均匀，从出气孔流出速度趋紧统一。

【技术实现步骤摘要】
供气装置
本申请涉及溅射镀膜技术设备领域，尤其是涉及一种供气装置。
技术介绍
溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，使靶材表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面最终形成薄膜。在溅射镀膜过程中，需要将镀膜腔抽成真空后根据镀膜材料通入特定的氛围气体，在特定气体氛围下进行镀膜。在薄膜太阳能电池生产过程中，铜铟镓需要在硒气氛围下溅射到衬底上，构成CIGS功能膜层。目前硒气氛围采用的供气装置为硒气管道配合阀门的方式，用多个喷管将硒气喷入镀膜腔内。但硒元素为类金属元素，在气态时的特性与金属元素气化后有些区别，直接套用金属蒸汽用的供气形式导致硒气在喷管内流速不易控制，并且硒气在从喷管进入镀膜腔后其扩散过程也不易控制。在硒气流速和扩散过程都存在控制误差的情况下，硒气在镀膜腔内容易出现分布不均，导致靶材溅射的硒化反应不均匀。在CIGS溅射生产过程中，在通入特定量的硒气下，同一批次的CIGS发电芯片的发电效率高低相差较大，良品率低，生产和筛选成本高，不利于质量控制。
技术实现思路
为了弥补上供气装置的不足，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种供气装置，其特征在于，/n包括至少一个匀气室(1)和安装板(2)；/n所述匀气室(1)用于将氛围气体缓冲后输出到镀膜腔(9)，所述匀气室(1)设有至少一个进气口(11)和多个用于将氛围气体输送到所述镀膜腔(9)的出气孔(12)；所述安装板(2)用于将所述匀气室(1)与所述镀膜腔(9)密封固定到一起。/n

【技术特征摘要】
1.一种供气装置，其特征在于，
包括至少一个匀气室(1)和安装板(2)；
所述匀气室(1)用于将氛围气体缓冲后输出到镀膜腔(9)，所述匀气室(1)设有至少一个进气口(11)和多个用于将氛围气体输送到所述镀膜腔(9)的出气孔(12)；所述安装板(2)用于将所述匀气室(1)与所述镀膜腔(9)密封固定到一起。


2.根据权利要求1所述的供气装置，其特征在于，所述匀气室(1)设有出气板(13)，所述出气孔(12)设置在所述出气板(13)上。


3.根据权利要求2所述的供气装置，其特征在于，所述出气板(13)包括内板(131)、外板(132)和夹设在所述内板(131)与所述外板(132)之间的真空层(133)，所述出气孔(12)包括开设在所述内板(131)上的内孔(121)和开设在所述外板(132)上的外孔(122)，所述内孔(121)与所述外孔(122)之间设有膨胀腔(123)，所述膨胀腔(123)穿过所述真空层(133)将所述内孔(121)与所述外孔(122)连通到一起。


4.根据权利要求3所述的供气装置，其特征在于，所述膨胀腔(123)内部设有挡板(124)，所述挡板(124)将所述膨胀腔(123)内部空间分隔为靠近内孔(121)的前段腔(1231)和靠近外孔(122)的后段腔(1232)，所述前段腔(1231)体积小于所述后段腔(1232)，所述挡板(124)的顶部和底部...

【专利技术属性】
技术研发人员：张伟，江振南，杨永雷，见东伟，邬英，
申请(专利权)人：山西米亚索乐装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：山西;14