【技术实现步骤摘要】
一种旋转靶材在线打磨装置
本技术实施例涉及靶材打磨
，具体涉及一种旋转靶材在线打磨装置。
技术介绍
靶材作为镀膜工艺的原材料，常通过溅射工艺制备薄膜材料。溅射是利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即是制备溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材，或简称靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。靶材的质量直接影响膜层的质量，由于陶瓷靶材表面容易黑化(结瘤)，因此，对于陶瓷靶溅射，定期清洁靶面尤为重要。所以每过一段时间就需要清洁表面一次，一般一副靶材使用周期内清洁1-2次。清洁靶材的表面时需要用砂纸百页片打磨，把黑色部分以及非溅射区彻底清洁干净。目前的清洁方式是开腔(靶材和阴极之间具有空腔，阴极包括离子源)后将靶材暴露在大气中使用砂纸手动打磨或者采用带有砂纸的吸尘器进行清洁靶材表面。这样的清洁方法，效率低，打磨的粉尘会影响工作环境，一些有毒的粉尘还会影响人...
【技术保护点】
1.一种旋转靶材在线打磨装置，其特征在于，包括遮挡构件及打磨构件；在打磨状态，所述遮挡构件及打磨构件形成封闭空间用于包围旋转靶材；其中，所述打磨构件与所述旋转靶材相接触；在非打磨状态，所述遮挡构件及打磨构件远离所述旋转靶材。
【技术特征摘要】
1.一种旋转靶材在线打磨装置，其特征在于，包括遮挡构件及打磨构件；在打磨状态，所述遮挡构件及打磨构件形成封闭空间用于包围旋转靶材；其中，所述打磨构件与所述旋转靶材相接触；在非打磨状态，所述遮挡构件及打磨构件远离所述旋转靶材。2.根据权利要求1所述的旋转靶材在线打磨装置，其特征在于，在打磨状态，所述遮挡构件形成的空间结构具有打磨空隙，所述打磨构件嵌入所述打磨空隙，从而形成封闭空间用于包围所述旋转靶材。3.根据权利要求2所述的旋转靶材在线打磨装置，其特征在于，所述打磨空隙位于一个所述遮挡构件上或由相邻两个所述遮挡构件的边界构成。4.根据权利要求1所述的旋转靶材在线打磨装置，其特征在于，所述遮挡构件包括第一挡板和第二挡板；所述打磨构件包括打磨滚筒。5.根据权利要求4所述的旋转靶材在线打磨装置，其特征在于，所述第一挡板或所述第二挡板上具有打磨空隙；在打磨状态，所述第一挡板和所述第二挡板靠近所述旋转靶材，且所述第一挡板和所述第二挡板的边界闭合；所述打磨滚筒靠近所述旋转靶材，与所述旋转靶材相接触，所述打磨滚筒嵌入所述打磨空隙，使得所述旋转靶材被所述第一挡板、所述第二挡板和所述打磨滚筒完全包裹。6.根据权利要求4所述的旋转靶材在线打磨装置，其特征在于，所述第一挡板和所述第二挡板分别设置在所述旋转靶材的两侧；所述第一挡板包括第一上端面、第一下端面和第一侧壁，所述第二挡板包括第二上端面、第二下端面和第二侧壁；在打磨状态，所述第一挡板和所述第二挡板靠近所述旋转靶材，并且所述第一上端面和所述第二上端面闭合，包住所述旋转靶材的第一端部；所述第一下端面和所述第二下端面闭合，包住所述旋转靶材的第二端部...
【专利技术属性】
技术研发人员：周伟东，张顺，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11
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