一种化学气相沉积设备的载具制造技术

一种化学气相沉积设备的载具，包括多个气体管道以及多个出气孔，每个所述气体管道通过每个对应的所述出气孔排出气体，其特征在于，每个气体管道设置于载具内部，其中每个气体管道具有至少一个弯曲处，且每个弯曲处为圆滑曲面。本实用新型专利技术通过在载具内的气体管道的弯曲处设置圆滑曲面，减少反应辅助气体冲蚀气体管道造成气体管道破损的现象，进而延长载具使用寿命。

A Vehicle for Chemical Vapor Deposition Equipment

【技术实现步骤摘要】
一种化学气相沉积设备的载具
本技术是涉及一种化学气相沉积设备
，特别是关于一种应用于金属有机物化学气相沉积设备的载具。
技术介绍
化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition，CVD)工艺是一种用来产生纯度高、效能好的固态材料的工艺，而其中金属有机物化学气相沉积(Metal-organicChemicalVaporDeposition，MOCVD)工艺是一种利用有机金属热分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积工艺，常用于制备金属或氧化物薄膜或是各种金属化合物薄膜，具有成本低、操作简单、产物纯度高等特点。以MOCVD工艺为例，MOCVD工艺中所使用的反应辅助气体通常为氢气或钝气，当MOCVD工艺实施时，反应辅助气体用于吹动晶圆旋转以提高薄膜制备效果，或是作为洗涤气流(purgeflow)清除反应室内残留的反应气体。现有技术中，反应辅助气体一般通过载具内部的气体管道进入反应室内，然而载具内部的气体管道通常受限于载具体积必须制作为具有多个弯曲处，当反应辅助气体通过这些气体管道的弯曲处时，反应辅助气体的气流会不断冲蚀这些气体管道的管壁，而这种气体的流体力学行为容易造成这些气体管道发生破损，导致载具使用寿命下降。因此，仍有必要提出一种载具以抑制反应辅助气体冲蚀载具内部的气体管道而降低使用寿命的现象。
技术实现思路
根据现有技术中的缺点，本技术的主要目的在于提供一种具有圆滑曲面的气体管道的载具，可以减少反应辅助气体冲蚀气体管道造成气体管道破损的现象。为达上述一部份或全部目的或是其他目的，本技术的一实施例提供一种化学气相沉积设备的载具，包括多个气体管道以及多个出气孔，每个气体管道通过每个对应的出气孔排出气体，其特征在于，每个气体管道设置于载具内部，其中每个气体管道具有至少一个弯曲处，且每个弯曲处为圆滑曲面。在一实施例中，每个气体管道的弯曲处的R角半径介于0.1至3.0mm之间。在一实施例中，载具还包括承载面，且每个出气孔设置于承载面上。在一实施例中，每个气体管道的管径介于0.1至8mm之间。在一实施例中，每个气体管道的截面形状为圆形。在一实施例中，每个气体管道与每个对应的出气孔为一体成形。基于上述，本技术的实施例至少具有以下其中一个优点或功效。在本技术的实施例中，每个气体管道设置于载具内部，每个气体管道都具有至少一个弯曲处，且每个弯曲处都是圆滑曲面，从而减少反应辅助气体冲蚀气体管道造成气体管道破损的现象，进而延长载具使用寿命。附图说明图1是根据本技术所揭露的一实施例，表示化学气相沉积设备的反应室的剖面示意图；图2是根据本技术所揭露的一实施例，表示载具的俯视示意图；以及图3是根据图2的实施例，表示载具的剖面示意图。具体实施方式有关本技术的前述及其他
技术实现思路
、特点与功效，在以下配合参考附图之一优选实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。为了使本技术的目的、技术特征及优点，能更为相关
人员所了解，并得以实施本技术，在此配合所附的图式、具体阐明本技术的技术特征与实施方式，并列举较佳实施例进一步说明。以下具体实施方式中所对照的附图，为表达与本技术特征有关的示意，并未也不需要依据实际情形完整绘制。而关于具体实施方式的说明中涉及本领域技术人员所熟知的
技术实现思路
，也不再加以陈述。以下实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本技术。图1是根据本技术所揭露的一实施例，表示化学气相沉积设备的反应室的剖面示意图。请参考图1，反应室1可应用于化学气相沉积设备，尤其是金属有机物化学气相沉积设备，反应室1包括载具10、基座30、腔体40以及气体排除孔50，载具10与基座30设置于腔体40内，载具10装设于基座30上，化学气相沉积工艺所需的反应气体例如是由多个反应气体导管80导入反应室1，本技术不限于此。载具10例如是用于承载晶圆20，气体排除孔50位于腔体40的腔壁上以供反应室1进行化学气相沉积工艺时排除化学反应后的废气，其中基座30上具有连通于反应室1外部的多个气体通入管道60、70(图1示意性的绘示2个气体通入管道60、70，然而本技术不限于此)，每个气体通入管道60、70例如是对应连接于载具10内部的每个气体管道16，本实施例中，进行化学气相沉积工艺时所需要的反应辅助气体例如是通过气体通入管道60、70进入基座30内部，并接着通过载具10的气体管道16进入反应室1以辅助化学气相沉积工艺实施，然而反应辅助气体也可以是通过其他方式或设备并通过载具10的气体管道16进入反应室1以辅助化学气相沉积工艺实施，本技术不限于此。图2是根据本技术所揭露的一实施例，表示载具的俯视示意图，以及图3是根据图2的实施例，表示载具的剖面示意图。请参考图2与图3，载具10可应用于图1的化学气相沉积设备的反应室，然而本技术不限于此，载具10也可以应用于其他种类化学气相沉积设备的反应室，尤其是金属有机物化学气相沉积设备的反应室。载具10包括承载面14、多个气体管道16以及多个出气孔12，承载面14例如是用于承载晶圆，每个气体管道16设置于载具10的内部，每个气体管道16对应于每个出气孔12，每个出气孔12位于承载面14上。反应辅助气体由图1的基座30沿方向F进入每个气体管道16，并通过每个对应的出气孔12排出，例如是排出至图1的化学气相沉积设备的反应室1。本实施例中，每个气体管道16都具有至少一个弯曲处18，且每个弯曲处18为圆滑曲面，如此一来当反应辅助气体沿流动方向F进入气体管道16时可减少反应辅助气体对气体管道16管壁的冲击，进而降低反应辅助气体冲蚀气体管道16的现象。本实施例中，弯曲处18的R角半径介于0.1至3.0mm之间，与现有技术中具有直角状弯曲气体管道的载具相比可以提高2倍的使用寿命，也延长了载具的保养周期，进而提升化学气相沉积设备的产能利用率。此外，图3的气体管道16例如是具有2个弯曲处18，而且弯曲处18的R角半径介于0.1至3.0mm之间，然而气体管道16也可以根据不同的化学气相沉积设备设计为具有3个或3个以上的弯曲处18，本技术不限于此。本实施例中，每个气体管道16的管径介于0.1至8mm之间，以对应不同种类的反应辅助气体，每个气体管道16的截面形状例如为圆形，以降低反应辅助气体冲蚀气体管道16管壁的现象。此外，每个气体管道16与对应的出气孔12为一体成形，以降低载具10的制造成本，然而每个气体管道16与对应的出气孔12也可以分开成形，以降低设计难度，本技术不限于此。综上所述，本技术的实施例中，载具包括多个气体管道以及多个出气孔，每个气体管道通过每个对应的出气孔排出气体，其中每个气体管道具有至少一个弯曲处，且每个弯曲处为圆滑曲面。因此，本技术的有益效果在于，载具中的气体管道的设计降低了反应辅助气体气体管道的现象，如此一来可延长具有此种气体管道的载具的使用寿命。以上所述，仅为本技术的优选实施例而已，当不能以此限定本技术实施的范围，即大凡依本技术权利要求书及说明书所作的简单的等效变化与修改，皆仍属本技术专利涵盖的范围内。另外本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学气相沉积设备的载具，包括多个气体管道以及多个出气孔，每个所述气体管道通过每个对应的所述出气孔排出气体，其特征在于：每个所述气体管道设置于所述载具内部，其中每个所述气体管道具有至少一个弯曲处，且每个所述弯曲处为圆滑曲面。

【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积设备的载具，包括多个气体管道以及多个出气孔，每个所述气体管道通过每个对应的所述出气孔排出气体，其特征在于：每个所述气体管道设置于所述载具内部，其中每个所述气体管道具有至少一个弯曲处，且每个所述弯曲处为圆滑曲面。2.如权利要求1所述的化学气相沉积设备的载具，其特征在于，每个所述气体管道的弯曲处的R角半径介于0.1至3.0mm之间。3.如权利要求1所述的化学气相沉积...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢彦勋，陈彦良，大藤彻，谢明达，
申请(专利权)人：捷苙科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71