本实用新型专利技术公开了一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，包括反应室、前驱体源输送系统、真空系统、臭氧发生器、控制系统、反应室外壁、前驱体源入口、抽气匀气装置、样品进入口、匀气喷淋装置、真空系统接口和样品台，所述控制系统的内部设置有真空系统，控制系统的下方设置有臭氧发生器，本实用新型专利技术一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，样品台同时具有加热功能，样品台尺寸不同规格，增加多样性，通过匀气喷淋装置匀气后吸附在样品表面，在垂直流动式反应室的底部增加抽气匀气装置，防止气流迅速的从中间抽走，可提高薄膜的均匀性，对于非理想的ALD过程并不敏感，且反应室比较横向流动式要大，可以生长一些尺度大的三维样品。
An ALD Device for Vertical Flow Reactor
【技术实现步骤摘要】
一种用于垂直流动式反应室的ALD装置
本技术涉及反应室
，具体为一种用于垂直流动式反应室的ALD装置。
技术介绍
子层沉积技术是序列前驱体脉冲交替进入反应室发生自限制的表面化学吸附反应。前驱体的运输、在反应腔中的扩散以及反应腔温场的均匀性对镀膜的质量影响很大。常见的ALD反应室气流方式有：横向流动式、垂直流动式。其中横向流动式反应室结构紧凑，腔室的高度很低，一般是毫米级别。它的优点是腔室比较小，提高前驱体源的使用效率，反应时间短，清洗残留前驱体的时间短。缺点是对非理想的ALD过程教为敏感，会导致薄膜的不均匀性，另外对于一些尺度大三维样品并不合适。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，使用方便，样品台同时具有加热功能，样品台尺寸不同规格，增加多样性，通过匀气喷淋装置匀气后吸附在样品表面，在垂直流动式反应室的底部增加抽气匀气装置，防止气流迅速的从中间抽走，可提高薄膜的均匀性，对于非理想的ALD过程并不敏感，且反应室比较横向流动式要大，可以生长一些尺度大的三维样品，解决了现有技术中的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，包括反应室、前驱体源输送系统、真空系统、臭氧发生器、控制系统、反应室外壁、前驱体源入口、抽气匀气装置、样品进入口、匀气喷淋装置、真空系统接口、样品台和压力监测系统接口，所述控制系统的内部设置有真空系统，控制系统的下方设置有臭氧发生器，控制系统的上方安装有反应室和前驱体源输送系统，前驱体源输送系统上安装有反应室外壁，所述反应室的内部设置有反应室外壁，反应室外壁内部设置有样品台，反应室外壁的上方连接有匀气喷淋装置，匀气喷淋装置的上方连接有前驱体源入口，所述反应室外壁的外侧安装有样品进入口，反应室外壁的下方连接有抽气匀气装置，抽气匀气装置的下方设置有真空系统接口和压力监测系统接口。优选的，所述前驱体源入口与驱体源输送系统连接。优选的，所述真空系统接口与真空系统连接。优选的，所述压力监测系统接口的一端接入压力监测系统。优选的，所述样品台的尺寸非同一种规格。与现有技术相比，本技术的有益效果如下：1、本技术一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，反应室的内部设置有反应室外壁，反应室外壁内部设置有样品台，样品台的尺寸非同一种规格，样品台同时具有加热功能，样品台尺寸不同规格，2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、10英寸大小规格硅片，以及其他在250mm以内的任意形状的样品，增加多样性。2、本技术一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，反应室外壁的上方连接有匀气喷淋装置，匀气喷淋装置的上方连接有前驱体源入口，反应室外壁的外侧安装有样品进入口，反应室外壁的下方连接有抽气匀气装置，抽气匀气装置的下方设置有真空系统接口和压力监测系统接口，前驱体源入口与驱体源输送系统连接，真空系统接口与真空系统连接，压力监测系统接口的一端接入压力监测系统，前驱体源从反应室的顶部进入后，通过匀气喷淋装置匀气后吸附在样品表面，在垂直流动式反应室的底部增加抽气匀气装置，防止气流迅速的从中间抽走，可提高薄膜的均匀性，垂直流动式的反应室，前驱体源是在顶部进入喷淋头后分散进入反应腔室，由于反应室的顶部具有匀气喷淋装置，起到匀气的作用，所以对于非理想的ALD过程并不敏感，且反应室比较横向流动式要大，可以生长一些尺度大的三维样品。附图说明图1为本技术的整体结构示意图；图2为本技术的整体结构内部剖面图；图3为本技术的反应室内部结构剖面图。图中：1、反应室；2、前驱体源输送系统；3、真空系统；4、臭氧发生器；5、控制系统；6、反应室外壁；7、前驱体源入口；8、抽气匀气装置；9、样品进入口；10、匀气喷淋装置；11、真空系统接口；12、样品台；13、压力监测系统接口。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-3，一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，包括反应室1、前驱体源输送系统2、真空系统3、臭氧发生器4、控制系统5、反应室外壁6、前驱体源入口7、抽气匀气装置8、样品进入口9、匀气喷淋装置10、真空系统接口11、样品台12和压力监测系统接口13，控制系统5的内部设置有真空系统3，控制系统5的下方设置有臭氧发生器4，控制系统5的上方安装有反应室1和前驱体源输送系统2，前驱体源输送系统2上安装有反应室外壁6，反应室1的内部设置有反应室外壁6，反应室外壁6内部设置有样品台12，样品台12的尺寸非同一种规格，样品台12同时具有加热功能，样品台12尺寸不同规格，2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、10英寸大小规格硅片，以及其他在250mm以内的任意形状的样品，增加多样性；反应室外壁6的上方连接有匀气喷淋装置10，匀气喷淋装置10的上方连接有前驱体源入口7，反应室外壁6的外侧安装有样品进入口9，反应室外壁6的下方连接有抽气匀气装置8，抽气匀气装置8的下方设置有真空系统接口11和压力监测系统接口13，前驱体源入口7与前驱体源输送系统2连接，真空系统接口11与真空系统3连接，压力监测系统接口13的一端接入压力监测系统，前驱体源从反应室1的顶部进入后，通过匀气喷淋装置10匀气后吸附在样品表面，在垂直流动式反应室1的底部增加抽气匀气装置8，防止气流迅速的从中间抽走，可提高薄膜的均匀性，垂直流动式的反应室1，前驱体源是在顶部进入喷淋头后分散进入反应腔室，由于反应室1的顶部具有匀气喷淋装置10，起到匀气的作用，所以对于非理想的ALD过程并不敏感，且反应室1比较横向流动式要大，可以生长一些尺度大的三维样品。综上所述：本技术用于垂直流动式反应室的ALD装置，反应室1的内部设置有反应室外壁6，反应室外壁6内部设置有样品台12，样品台12的尺寸非同一种规格，样品台12同时具有加热功能，样品台12尺寸不同规格，2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、10英寸大小规格硅片，以及其他在250mm以内的任意形状的样品，增加多样性；反应室外壁6的上方连接有匀气喷淋装置10，匀气喷淋装置10的上方连接有前驱体源入口7，反应室外壁6的外侧安装有样品进入口9，反应室外壁6的下方连接有抽气匀气装置8，抽气匀气装置8的下方设置有真空系统接口11和压力监测系统接口13，前驱体源入口7与前驱体源输送系统2连接，真空系统接口11与真空系统3连接，压力监测系统接口13的一端接入压力监测系统，前驱体源从反应室1的顶部进入后，通过匀气喷淋装置10匀气后吸附在样品表面，在垂直流动式反应室1的底部增加抽气匀气装置8，防止气流迅速的从中间抽走，可提高薄膜的均匀性，垂直流动式的反应室1，前驱体源是在顶部进入喷淋头后分散进入反应腔室，由于反应室1的顶部具有匀气喷淋装置10，起到匀气的作用，所以对于非理想的ALD过程并不敏感，且反应室1比较横向流动式要大，可以生长一些尺度大的三维样品。需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，包括反应室(1)、前驱体源输送系统(2)、真空系统(3)、臭氧发生器(4)、控制系统(5)、反应室外壁(6)、前驱体源入口(7)、抽气匀气装置(8)、样品进入口(9)、匀气喷淋装置(10)、真空系统接口(11)、样品台(12)和压力监测系统接口(13)，其特征在于：所述控制系统(5)的内部设置有真空系统(3)，控制系统(5)的下方设置有臭氧发生器(4)，控制系统(5)的上方安装有反应室(1)和前驱体源输送系统(2)，前驱体源输送系统(2)上安装有反应室外壁(6)，所述反应室(1)的内部设置有反应室外壁(6)，反应室外壁(6)内部设置有样品台(12)，反应室外壁(6)的上方连接有匀气喷淋装置(10)，匀气喷淋装置(10)的上方连接有前驱体源入口(7)，所述反应室外壁(6)的外侧安装有样品进入口(9)，反应室外壁(6)的下方连接有抽气匀气装置(8)，抽气匀气装置(8)的下方设置有真空系统接口(11)和压力监测系统接口(13)。
【技术特征摘要】
1.一种用于垂直流动式反应室的ALD装置，包括反应室(1)、前驱体源输送系统(2)、真空系统(3)、臭氧发生器(4)、控制系统(5)、反应室外壁(6)、前驱体源入口(7)、抽气匀气装置(8)、样品进入口(9)、匀气喷淋装置(10)、真空系统接口(11)、样品台(12)和压力监测系统接口(13)，其特征在于：所述控制系统(5)的内部设置有真空系统(3)，控制系统(5)的下方设置有臭氧发生器(4)，控制系统(5)的上方安装有反应室(1)和前驱体源输送系统(2)，前驱体源输送系统(2)上安装有反应室外壁(6)，所述反应室(1)的内部设置有反应室外壁(6)，反应室外壁(6)内部设置有样品台(12)，反应室外壁(6)的上方连接有匀气喷淋装置(10)，匀气喷淋装置(10)的上方连接...
【专利技术属性】
技术研发人员：左雪芹，陆雪强，潘晓霞，
申请(专利权)人：江苏迈纳德微纳技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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