一种连续提供前驱体源的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于连续提供前驱体源装置，包括：一与反应腔连接的第一源瓶，第一源瓶至少一个；与第一源瓶连接的第二源瓶，第二源瓶至少一个；第一源瓶中盛装有前驱体源，第二源瓶中盛装的前驱体源用于提供给第一源瓶，以使第一源瓶连续地往反应腔内输送前驱体源。本发明专利技术还提供一种用于连续提供前驱体源的方法。本发明专利技术提供的装置结构简单，便于维护和使用；前驱体源可以连续不断地进到反应腔，应用该装置的ALD、CVD等气相沉积设备可以实现连续生产，产能高，满足气相设备大规模工业化连续生产的要求。

A Method and Device for Continuously Providing Precursor Sources

【技术实现步骤摘要】
一种连续提供前驱体源的方法及装置
本专利技术涉及薄膜沉积领域，尤其涉及一种连续提供前驱体源的方法及装置。
技术介绍
在ALD（原子层沉积）、CAD（化学气相沉积）等气相反应设备中，通常会涉及到将前驱体源传输至反应腔内以进行反应。前驱体源一般存储于源瓶中，存储量有限。在连续的工业生产或研发活动中，需要频繁地更换源瓶进行前驱体源的装载。具体地，当源瓶内的前驱体源用完或消耗完时，需要停运设备将源瓶拆卸且更换源瓶来进行前驱体源的装载，这种方式未能实现前驱体源的连续供应，实现不了工艺的连续运行，极大影响设备的量产性能。对某些具有可燃性和遇空气自燃的特性的前驱体源，在源瓶拆卸及更换过程中操作稍有不当会有着火等风险，操作比较危险。而对蒸汽压比较低的前驱体源，由于往往需要采用加热的方式提高前驱体源的饱和蒸汽压，在更换源瓶时，在停运设备之后需要等待一段时间直至源瓶的温度下降才可以操作源瓶；源瓶更新后，需对前驱体源进行加热使其温度达到预设温度才可以启动设备进行沉积工艺，比如通过加热套进行加热，前驱体源需要较长时间才能到达预设温度，即前驱体源的装载对温度有严格要求。故，需要提供一种设备及方法解决上述问题，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于连续提供前驱体源的装置，其特征在于，包括：一与反应腔连接的第一源瓶，所述第一源瓶至少一个；与所述第一源瓶连接的第二源瓶，所述第二源瓶至少一个；所述第一源瓶中盛装有前驱体源，所述第二源瓶中盛装的前驱体源用于提供给所述第一源瓶，以使所述第一源瓶连续地往所述反应腔内输送前驱体源。

【技术特征摘要】
1.一种用于连续提供前驱体源的装置，其特征在于，包括：一与反应腔连接的第一源瓶，所述第一源瓶至少一个；与所述第一源瓶连接的第二源瓶，所述第二源瓶至少一个；所述第一源瓶中盛装有前驱体源，所述第二源瓶中盛装的前驱体源用于提供给所述第一源瓶，以使所述第一源瓶连续地往所述反应腔内输送前驱体源。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：用于供前驱体源气化的前驱体源气化腔，所述前驱体源气化腔分别连接所述第一源瓶和所述反应腔。3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一源瓶包括：前驱体源存储腔和前驱体源气化腔，所述前驱体源气化腔连接所述反应腔。4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第一源瓶上设有至少一个用于监测所述第一源瓶内前驱体源剩余量的监测机构。5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述第二源瓶...

【专利技术属性】
技术研发人员：李哲峰，辛灵玲，陈文翰，
申请(专利权)人：深圳市原速光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44