【技术实现步骤摘要】
一种外置式ICP激发装置
[0001]本技术涉及一种ICP激发装置结构改进,特别涉及一种外置式ICP激发装置。
技术介绍
[0002]电感耦合等离子(ICP,Inductive Coupled Plasma)处理设备,是通过电感线圈产生射频电磁场,使得反应气体发生电离而产生等离子体,产生的等离子体可以应用于沉积、刻蚀等半导体处理工艺中。
[0003]目前现有技术的ICP激发装置主要都是安装在反应装置的内部,气体通过反应装置后再进入ICP激发装置,对反应气体进行电离后,使离子化的反应气体参与沉积反应,用于沉积、刻蚀等半导体处理;在长时间的使用过程中,ICP激发装置的部分部件会因为密封问题或与等离子气体反应等情况出现,使其需要维修和更换配件等操作,这是不可避免的现象。
[0004]目前针对这一问题主要的解决方式是将反应装置进行拆解,再对反应装置内部的ICP激发装置进行更换或维护,但一方面必须要反应装置停机,且拆卸维修更换的耗时较长,所以导致对ICP激发装置的维修养护工作过程非常繁琐,不利于工艺反应的效率。
技术实现思路
[0005]针对
技术介绍
中提到的问题,本技术的目的是提供一种外置式ICP激发装置,包括石英管和铜管螺旋线圈,铜管螺旋线圈盘绕在石英管上,所述石英管上部通过密封装置与进气法兰连通,所述石英管下部通过密封装置与出气法兰连接,所述进气法兰上设有进气口,所述密封装置包括两个密封垫,两个密封圈之间设有负压接入口。
[0006]作为优选,所述进气口处设有绝缘导气机构。
[0 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种外置式ICP激发装置,包括石英管(1)和铜管螺旋线圈(2),铜管螺旋线圈(2)盘绕在石英管(1)上,其特征在于,所述石英管(1)上部通过密封装置与进气法兰(3)连通,所述石英管(1)下部通过密封装置与出气法兰(4)连接,所述进气法兰(3)上设有进气口(5),所述密封装置包括两个密封垫(6),两个密封垫(6)之间设有负压接入口(7)。2.如权利要求1所述的外置式ICP激发装置,其特征在于,所述进气口(5...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐涛,左雪芹,
申请(专利权)人:江苏迈纳德微纳技术有限公司,
类型:新型
国别省市:
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