基板处理系统技术方案

一种基板处理系统，包括处理装置、回收槽、排液管路以及冷却液供应单元。处理装置使用处理液对基板进行处理。回收槽用以容置处理液。排液管路连通于回收槽。冷却液供应单元连通于排液管路，并用以供应冷却液至排液管路，以使冷却液与处理液混合成混合液，其中排液管路用以将混合液以及回收槽内的处理液排出至外部端。

Substrate Processing System

The utility model relates to a substrate processing system, which comprises a processing device, a recovery tank, a drainage pipeline and a coolant supply unit. The processing device uses the treatment liquid to process the substrate. The recovery tank is used to hold the treatment liquid. The drainage pipe is connected to the recovery tank. The coolant supply unit is connected to the drainage pipeline and is used to supply coolant to the drainage pipeline so that the coolant and the treatment fluid can be mixed into a mixture, in which the drainage pipeline is used to discharge the mixture and the treatment fluid in the recovery tank to the external end.

【技术实现步骤摘要】
基板处理系统
本技术涉及一种基板处理系统，尤其涉及一种使用处理液的基板处理系统。
技术介绍
目前的半导体元件制造方法须进行多种湿工艺，例如蚀刻、清洗及电镀。当进行这些湿工艺时，会使用多种处理液来处理基板，其中处理液例如是蚀刻液、清洗液以及电镀液。处理液在产线中通常会循环，并重复使用，而在处理液的循环中，处理液会存放在回收槽内，其中回收槽能收集使用过的处理液，并将可使用的处理液输出至湿工艺机台，以进行湿工艺。在某些湿工艺中，处理液的温度会上升。例如，有的蚀刻工艺是使用热磷酸来蚀刻氮化硅。当处理液的温度上升到一定的程度时，处理液可能会进入沸腾状态。有时候，处理液的温度虽然足以进入沸腾状态，但因为处理液的内部分子仍未气化，所以还不会沸腾，直到处理液受到扰动，才会突然发生沸腾，产生大量的气体。这种突然发生沸腾的现象称为突沸。由于沸腾会产生大量的气体，所以容易发生爆炸的危险。此外，突沸通常会产生大量的热能，并使处理液喷溅，导致人员可能受到烫伤，或是被具腐蚀性的处理液伤害。
技术实现思路
本技术提供一种基板处理系统，其利用冷却液供应单元所供应的冷却液来降低处理液的温度，以避免突沸的发生。本技术另提供一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板处理系统，其特征在于，包括：一处理装置，使用一处理液对一基板进行处理；一回收槽，用以容置该处理液；一排液管路，连通于该回收槽，并用以将该回收槽内的该处理液排出至一外部端；以及一冷却液供应单元，连通于该排液管路，并用以供应一冷却液至该排液管路，以使该冷却液与该处理液混合成一混合液，其中该排液管路用以将该混合液排出至该外部端。

【技术特征摘要】
1.一种基板处理系统，其特征在于，包括：一处理装置，使用一处理液对一基板进行处理；一回收槽，用以容置该处理液；一排液管路，连通于该回收槽，并用以将该回收槽内的该处理液排出至一外部端；以及一冷却液供应单元，连通于该排液管路，并用以供应一冷却液至该排液管路，以使该冷却液与该处理液混合成一混合液，其中该排液管路用以将该混合液排出至该外部端。2.如权利要求1所述的基板处理系统，其特征在于，还包括一连接该排液管路的温度监测单元，其用以监测该排液管路内流向该外部端的该混合液的一排液温度，当该温度监测单元监测到该排液温度大于一停止门槛值时，该排液管路停止排出该混合液至该外部端。3.如权利要求2所述的基板处理系统，其特征在于，还包括一连接该回收槽的异常温度监测单元，其用以监测该回收槽内该处理液的温度，而该冷却液供应单元更连通于该回收槽，当该异常温度监测单元监测到该回收槽内的该处理液温度大于或等于一异常温度值时，该冷却液供应单元供应该冷却液至该回收槽内的该处理液。4.如权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，当该异常温度监测单元监测到该回收槽内的该处理液温度大于或等于该异常温度值时，该温度监测单元停止监测该排液温度，且该排液管路将该回收槽内的该处理液排出至该外部端。5.如权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，还包括控制该冷却液供应单元供应该冷却液至该排液管路的流量以及该排液管路将该回收槽内的该混合液排出的流量的两者比值。6.如权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，还包括：一壳体，其中该回收槽与至少一部分该排液管路配置于该壳体内；以及一漏液侦测单元，连接该壳体，当该漏液侦测单元侦测该壳体外出现漏液时，该排液管路停止排出该处理液至该外部端。7.如权利要求3所述的基板处理系统，其特征在于，还包括一排气装置，其连通于该回收槽，当该异常温度监测单元监测到该回收槽内的该处理液温度大于或等于该异常温度值时，该排气装置对该回收槽进行排气。8.如权利要求7所述的基板处理系统，其特征在于，当该温度监测单元监测到该回收槽内该处理液的温度不大于或等于该异常温度值时，该排气装置以一第一排气量来排气；当该温度监测单元监测到该回收槽内该处理液的温度大于或等于该异常温度值时，该排气装置以一第二排气量来排气，其中该第二排气量...

【专利技术属性】
技术研发人员：林世佳，冯傅彰，
申请(专利权)人：辛耘企业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71