本发明提供一种基板处理装置及其排气方法，该基板处理装置包含一制程槽、一制程机构、一气液分离腔、一排气管路及一控制器。制程机构容置在制程槽内。气液分离腔连通制程槽。排气管路连接气液分离腔及一负压源，排气管路设置有一气闸，气闸连接一致动器。...

一种基板清洗设备，包含第一清洗站、第二清洗站、暂存卡匣站及跨站传送装置。该第一清洗站包括第一清洗槽及用以传送卡匣的第一机械手。该第二清洗站包括第二清洗槽及用以传送晶圆的第二机械手。该暂存卡匣站连接于该第一清洗站与该第二清洗站之间，并包括...

本发明提供一种单晶圆湿制程的异常处理方法，其步骤包含：提供晶圆、摆臂及光接收单元，其摆臂连接致动马达且设有喷嘴及光转向元件，致动马达能够在多个周向位置之间转动以驱动摆臂水平摆动，在周向位置之中定义一参考角度区间，当喷嘴位于晶圆的中心时致...

本发明提供一种晶圆载台，其包含一夹具、一旋转机构及一致动机构。夹具包含一座体以及呈环状排列在该座体的复数夹爪组，每一夹爪组分别包含复数夹爪，夹具的各夹爪分别具有枢接该座体的一旋转轴以及相对于旋转轴偏心配置的一爪部。旋转机构连接该座体以旋...

一种具有防止掉落功能的升降设备与第一制动装置，升降设备包含一传动带、一第一线轨与一第一制动装置。传动带用于根据一垂直方向移动。第一制动装置具有一设置于第一物件与所述第一线轨间的第一制动器滑块，与一电连接导电线且用于控制所述第一制动器滑块...

本发明提供一种晶圆制程装置，其包含一转换机构、一制程槽、一夹具及一制程箱。转换机构包含一平移轨道以及设置在平移轨道上的一翻转台，翻转台具有一翻转轴。制程槽借由翻转轴枢设在翻转台上，制程槽具有一开口。夹具可移动地设置在制程槽内且能够移动凸...

本发明提供一种晶圆载台，其包含一座体、一夹具及一背压喷嘴组件。夹具设置在座体，夹具具有背向座体延伸的复数夹持元件，且夹持元件环列配置。背压喷嘴组件设置在座体且被夹持元件围绕且背压喷嘴组件配置位置不超出各夹持元件的末端。背压喷嘴组件而能够...

一种由工件处理系统对工件实施的工件放置路径设定方法，所述工件处理系统包含承载座及机械手臂，且所述工件放置路径设定方法包含：获得对应所述承载座的第一位置，以及在所述工件被放置于所述承载座的情况下获得对应所述工件的第二位置；根据所述第一位置...

本发明提供一种晶圆加工方法，其步骤包含：提供一晶圆、一浸泡装置、一载台及一喷洒装置；将平放的晶圆翻转为直立；将晶圆直立置入浸泡装置浸泡；将晶圆自浸泡装置取出并平放于载台；以喷洒装置对载台上的晶圆喷洒药液；冲洗晶圆；旋转载台使晶圆干燥。其...

一种基板对位装置，包含承载单元、第一对位单元及第二对位单元。该承载单元包括载台，于该载台设定方形区域，并定义通过该方形区域的中心的中心线，及通过该方形区域的两个对角的对角线。该第一对位单元设于该载台且包括两个第一抵靠模块。所述第一抵靠模...

本发明提供一种基板传送设备包括一传送装置及一定位装置。定位装置与传送装置对应设置，并具有一定位范围。传送装置承载第一基板，并将第一基板的第一区域移至定位装置的定位范围。定位装置辨识位于定位范围中的第一区域的第一外缘，并基于第一外缘取得第...

一种基板载具，包含主体及定位单元。该主体具有本体部、自该本体部延伸的连接部，及彼此相间隔地自该本体部延伸的两个承载臂。该定位单元包括两个第一承靠面、两个第二承靠面及真空吸盘。所述第一承靠面分别位于所述承载臂靠近自由端处且用以供圆形基板的...

一种化学清洗槽，包含槽单元、排液过滤单元及进液过滤单元。该槽单元包括主槽体及进液槽体。该主槽体具有底壁及主围壁，该底壁与该主围壁共同形成容置空间。该底壁具有排放孔。该主围壁具有顶缘。该进液槽体连接该主围壁外侧靠近该顶缘处，并与该主围壁共...

一种快排冲洗槽，包含槽体及调整模块。该槽体具有底壁及连接该底壁的围绕壁，以共同形成容置空间，该底壁具有排放孔。该调整模块对应该排放孔位置设于该底壁，且包括固定于该底壁的固定件及设于该固定件的控制件。该固定件具有连通该排放孔的至少一第一开...

一种晶圆取放装置，适用于自晶圆运送盒取出晶圆，该晶圆取放装置包含：驱动模块及两个承载臂。所述承载臂彼此相间隔地设于该驱动模块，且可受该驱动模块驱动而在彼此相对远离的初始位置与彼此相对靠近的工作位置之间移动，且能受操作地在该初始位置时伸入...

一种半导体制程废处理液的排放暂存装置，包含储液容器及过滤模块。储液容器具有底壁、相对于底壁的顶壁、连接底壁与顶壁的围壁及封盖。顶壁设有废处理液进入口及杂质清理口。封盖设于顶壁且可开地封闭杂质清理口。过滤模块包括过滤槽及感测器。过滤槽位于...

本发明提供一种晶圆蚀刻机，用于蚀刻单一晶圆，其包括一外槽、一蚀刻槽、一载具、一旋转马达、一升降机构、一主管路及一排水管路。蚀刻槽设置在外槽之内。载具具有用于承载晶圆的一托架，托架悬置在蚀刻槽上方。旋转马达连接载具而能够驱动载具旋转。升降...

本发明提供一种晶圆蚀刻装置，其用于以一工作流体蚀刻一晶圆，且其包括一浸泡机构、一旋转马达、一开闭机构及一注液喷嘴。浸泡机构包括用于承载晶圆的一载具及用于圈套于晶圆外缘以供盛装工作流体的一环壁。旋转马达连动载具而能够驱动载具旋转。开闭机构...

本申请实施例提供一种晶圆清洗装置，用于清洗载具上的晶圆，晶圆清洗装置包含水槽、吊架、夹具、开闭机构、旋转机构、升降机构及至少一个冲洗喷嘴；吊架的至少一部分悬设在水槽上方；夹具设置在吊架上并悬设在水槽上方，夹具包含用于承载载具的遮罩及用于...

一种胶带卷收装置，用以传送胶带以黏附微粒而清洁晶圆表面，并包含承载架及设于承载架的传送单元、清洁单元、导向单元及张力调整单元。传送单元包括出料机构及收料机构，以供胶带自出料机构输出且由收料机构卷收而形成传送路径。张力调整单元包括设于承载...