【技术实现步骤摘要】
本申请提供一种湿法工艺基板处理装置，其通过单一动力源同步驱动多个外环罩各自进行升降。
技术介绍
1、现今的一种单晶圆湿法工艺基板处理装置包含有工艺槽及环绕工艺槽的多个外环罩，外环罩相互套叠能够各自垂直移动。当两个相套接的外环罩分离时，二者之间能够形成流道以供排放工艺工作流体。通过各自升降外环罩以开闭不同的流道以供排放不同的工艺工作流体，故能将不同的工艺工作流体分离排放以便于后续回收或废弃处理。
2、前述的装置中，在各外环罩需分别安装驱动元件以进行升降，而且各驱动元件需要分别控制，因此除了设备成本昂贵，各驱动元件也需要分别与工艺时间同步而不易调校。
3、有鉴于此，本申请遂针对上述现有技术，特潜心研究并配合学理的运用，尽力解决上述的问题点，即成为本申请的改良目标。
技术实现思路
1、本申请提供一种湿法工艺基板处理装置，其通过单一动力源同步驱动多个外环罩各自进行升降。
2、本申请提供一种湿法工艺基板处理装置，其包含一槽体、多个外环罩及一升降机构。各外环罩分别环绕槽体，外环罩相互套叠，至少一部分的外环罩能够各自垂直移动。升降机构包含一驱动轴、一沟槽凸轮组及多个连杆，驱动轴连接沟槽凸轮组，在沟槽凸轮组上设置有多个行程槽道，连杆分别连动对应的各外环罩，每一连杆具有一从动件，从动件分别穿设在对应的各行程槽道中。当驱动轴驱动各行程槽道绕行驱动轴时，从动件分别在对应的各行程槽道中相对移动而使各连杆随对应的行程槽道的转动而升降作动，且连杆分别垂直作动而带动相连接的各
3、本申请一实施例中，其中一外环罩固定设置。
4、本申请一实施例中，湿法工艺基板处理装置更包含多个升降轨道别，而且能够各自垂直移动的多个外环罩分别设置在对应的各该升降轨道。
5、本申请一实施例中，沟槽凸轮组包含多个转盘，该驱动轴水平配置，多个转盘共轴设置在该驱动轴而随该驱动轴同步旋转，多个行程槽道分别设置在多个转盘上。各该行程槽道分别绕该驱动轴延伸。本申请一实施例中，其中二个行程槽道可以分别配置在同一转盘的二面。
6、本申请一实施例中，在每一该行程槽道中包含一维持段，该维持段相对于该驱动轴等间距地延伸。
7、本申请一实施例中，至少其中一行程槽道包含一移动段，该移动段相对于该驱动轴不等间距地延伸。
8、本申请一实施例中，至少其中一行程槽道包含二维持段以及连接在二该维持段之间的一移动段，该移动段相对于该驱动轴不等间距地延伸，多个维持段分别相对于该驱动轴等间距地延伸且各该维持段与该驱动轴的间距相异。
9、本申请一实施例中，其中一外环罩能够垂直移动而与相套接的另一外环罩分离而在两者之间围设形成一排放流道。
10、本申请的湿法工艺基板处理装置以单一动力源同步驱动多个外环罩各自依据对应的工艺进行升降，因此能够简化切换排放流道切换的机制。
11、为了能更进一步了解本申请为达成预定目的所采取的技术、手段及功效，请参阅以下有关本申请的详细说明与附图，相信本申请的目的、特征与特点，当可由此得到深入且具体的了解，然而所附图式仅提供参考与说明用，并非用来对本申请加以限制。
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1.一种湿法工艺基板处理装置，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少一所述外环罩固定设置。
3.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，更包含多个升降轨道，而且能够各自垂直移动的所述多个外环罩分别设置在对应的各所述升降轨道。
4.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，所述沟槽凸轮组包含多个转盘，所述驱动轴水平配置，所述多个转盘共轴设置在所述驱动轴而随所述驱动轴同步旋转，所述多个行程槽道分别设置在所述多个转盘上。
5.如权利要求4所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，各所述行程槽道分别绕所述驱动轴延伸。
6.如权利要求4所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少其中二所述行程槽道分别配置在同一转盘的二面。
7.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，在每一所述行程槽道中包含一维持段，所述维持段相对于所述驱动轴等间距地延伸。
8.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少其中一所述行程槽道包含一移动段，所
9.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少其中一所述行程槽道包含二维持段以及连接在二所述维持段之间的一移动段，所述移动段相对于所述驱动轴不等间距地延伸，多个所述维持段分别相对于所述驱动轴等间距地延伸且各所述维持段与所述驱动轴的间距相异。
10.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，其中一所述外环罩能够垂直移动而与相套接的另一所述外环罩分离而在两者之间围设形成一排放流道。
...【技术特征摘要】
1.一种湿法工艺基板处理装置，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少一所述外环罩固定设置。
3.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，更包含多个升降轨道，而且能够各自垂直移动的所述多个外环罩分别设置在对应的各所述升降轨道。
4.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，所述沟槽凸轮组包含多个转盘，所述驱动轴水平配置，所述多个转盘共轴设置在所述驱动轴而随所述驱动轴同步旋转，所述多个行程槽道分别设置在所述多个转盘上。
5.如权利要求4所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，各所述行程槽道分别绕所述驱动轴延伸。
6.如权利要求4所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少其中二所述行程槽道分别配置在同一转...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢旻谷，
申请(专利权)人：辛耘企业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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