【技术实现步骤摘要】
本申请提供一种湿法工艺基板处理装置，其通过单一动力源同步驱动多个外环罩各自进行升降。
技术介绍
1、现今的一种单晶圆湿法工艺基板处理装置包含有工艺槽及环绕工艺槽的多个外环罩，外环罩相互套叠能够各自垂直移动。当两个相套接的外环罩分离时，二者之间能够形成流道以供排放工艺工作流体。通过各自升降外环罩以开闭不同的流道以供排放不同的工艺工作流体，故能将不同的工艺工作流体分离排放以便于后续回收或废弃处理。
2、前述的装置中，在各外环罩需分别安装驱动元件以进行升降，而且各驱动元件需要分别控制，因此除了设备成本昂贵，各驱动元件也需要分别与工艺时间同步而不易调校。
3、有鉴于此，本申请遂针对上述现有技术，特潜心研究并配合学理的运用，尽力解决上述的问题点，即成为本申请的改良目标。
技术实现思路
1、本申请提供一种湿法工艺基板处理装置，其通过单一动力源同步驱动多个外环罩各自进行升降。
2、本申请提供一种湿法工艺基板处理装置，其包含一槽体、多个外环罩及一升降机构。各外环罩分别环...
【技术保护点】
1.一种湿法工艺基板处理装置，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少一所述外环罩固定设置。
3.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，更包含多个升降轨道，而且能够各自垂直移动的所述多个外环罩分别设置在对应的各所述升降轨道。
4.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，所述沟槽凸轮组包含多个转盘，所述驱动轴水平配置，所述多个转盘共轴设置在所述驱动轴而随所述驱动轴同步旋转，所述多个行程槽道分别设置在所述多个转盘上。
5.如权利要求4所述的湿法工艺基板处理装置...
【技术特征摘要】
1.一种湿法工艺基板处理装置，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少一所述外环罩固定设置。
3.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，更包含多个升降轨道，而且能够各自垂直移动的所述多个外环罩分别设置在对应的各所述升降轨道。
4.如权利要求1所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，所述沟槽凸轮组包含多个转盘，所述驱动轴水平配置，所述多个转盘共轴设置在所述驱动轴而随所述驱动轴同步旋转，所述多个行程槽道分别设置在所述多个转盘上。
5.如权利要求4所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，各所述行程槽道分别绕所述驱动轴延伸。
6.如权利要求4所述的湿法工艺基板处理装置，其特征在于，至少其中二所述行程槽道分别配置在同一转...
【专利技术属性】
技术研发人员：谢旻谷，
申请(专利权)人：辛耘企业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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